本發明提供一種多波長相位調制掃描量測系統及方法，其中，系統通過輻射源產生的多波長光束，經過第一光學系統的分束和相位調制后，分別照射到目標結構上。由于不同波長的光束對目標結構的響應不同，因此可以通過調整相位差來優化測量效果。散射光束在成像...

本申請涉及半導體制造技術領域，公開了一種光刻曝光方法及設備，包括以下步驟：S1、預準備：初始化掩模、光源發射器及PLC模塊參數；S2、路徑規劃：根據曝光圖案優化路徑布局；S3、平臺定位：利用磁環與電磁線圈實現納米級定位和姿態調整；S4、...

本發明提供一種光刻硅片表面壓力測量方法，包括：S1、制備測壓硅片：所述測壓硅片內嵌入有多個測壓芯片；所述測壓芯片通過微小通道與外部數據采集系統相連接，以實時采集并傳輸壓力數據；S2、預處理：S3、安裝測壓硅片；S5、數據采集：通過數據采...

本發明提供一種光刻用涂膠顯影系統，該光刻用涂膠顯影系統包括涂布系統、泵送系統、智能調整模塊，其中：所述涂布系統用于將光刻膠涂布在基材上；所述泵送系統用于向涂布系統提供穩定、連續的光刻膠供應，所述泵送系統能夠根據不同光刻膠的光敏特性自動調...

本發明提供一種多波段多光源的混合照明系統，包括光源組、光束合成模塊、控制系統：所述光源組包括多種不用波長的光源；所述光束合成模塊包括光束整形機構、光束合束機構和功率均衡機構；所述控制系統用于調節光源的輸出功率、曝光時間和光束形狀參數。本...

本技術涉及光刻機設備技術領域，尤其涉及一種光刻機設備移載機構。其包括升降機構、設置在所述升降機構上的安裝定位板、以及用于承載光刻機設備的支撐平臺，所述支撐平臺包括上支撐平臺和下承重平臺，在所述上支撐平臺底部四周均設置有下安裝塊，在所述下...

本發明涉及光束測量技術領域，尤其涉及一種平行光束質量檢測裝置及其檢測方法。其包括縮束透鏡組、設置在所述縮束透鏡組旁側的剪切干涉儀、設置在所述剪切干涉儀一面的哈特曼?夏克波前傳感器、設置在所述剪切干涉儀另一面的相機、以及用來聚焦且置于所述...

本實用新型涉及光刻機技術領域，尤其涉及一種光刻機快門的漏光檢測系統

本發明涉及銑削刀具技術領域，尤其涉及一種激光器光束自校準的檢測裝置。其包括可調節的調節支架、連接座、設置在所述連接座前端的參考安裝架、設置在所述參考安裝架上的檢測單元，所述檢測單元包括由前向后依次設置的聚焦透鏡、用來測量激光光束Rz位置...

本實用新型涉及水處理技術領域，尤其涉及一種光刻機高純水恒溫恒壓供水系統。其包括其包括高純水粗調單元，與所述高純水粗調單元相接通的高純水精調單元且所述高純水粗調單元一端接有進水端，所述高純水精調單元包括增壓泵、減壓恒壓閥、精控溫度系統、以...

本實用新型涉及集裝箱技術領域，尤其涉及一種高端光刻機航空運輸專用集裝箱。包括集裝箱，所述集裝箱上接通有梯形的集裝箱上部，所述集裝箱包括集裝箱框架、配合集裝箱框架安裝的封板，所述集裝箱框架包括底架、置于底架前端兩側的前角柱、用于連接底架與...