本發明公開了晶圓干燥設備及用于晶圓干燥的系統，其中，該晶圓干燥設備包括：干燥靜壓腔和干燥隧道結構，其中，干燥隧道結構包括了由兩塊攜帶條狀進風口的沸騰墻板以及對應的兩塊隧道夾板形成的干燥隧道，且干燥隧道結構中的阻風橫隔板將干燥靜壓腔分成上...

本發明公開了用于半導體制造的光源設備、系統及控制的方法、裝置，其中，該光源設備包括：光源環座、半導體光源組、導流環、導光罩、潔凈氣管接頭；半導體光源組安裝在光源環座上；光源環座套裝在導流環上，導光罩環抱光源環座后與導流環的帽檐固定，使得...

本發明公開了用于晶圓干燥控制的系統、方法及裝置，其中，用于晶圓干燥的系統包括：干晶圓干燥設備、機械手臂、晶圓夾持手臂、以及PLC，其中，PLC，被配置為在確定晶圓夾持手臂夾持的半導體晶圓全進入晶圓干燥設備的干燥隧道的情況下，控制晶圓干燥...

本發明公開了用于半導體制造設備控制的方法、裝置及系統，該方法包括：在確定半導體制造設備的當前運行狀態滿足工藝設定SetUP預設狀態的情況下，獲取半導體制造設備的控制權限；向半導體制造設備發送報警復位指令，并在確定半導體制造設備無報警信息...

本發明涉及半導體設備技術領域，公開了一種晶圓研磨基準石英片供料系統，包括：石英片供料裝置、移載檢查裝置、機械手臂和控制系統；所述移載檢查裝置設置在所述機械手臂的端部；所述移載檢查裝置包括拾取部；所述石英片供料裝置用于提供基準石英片；所述...

本發明公開了用于半導體制造設備控制的方法、系統、裝置及設備，該方法包括：在確定半導體制造設備的物料加工位置已加載了待加工產品情況下，控制視覺檢測設備對物料加工位置進行待加工產品的缺損檢測；獲取視覺檢測設備發送的與物料加工位置對應的檢查結...

本發明公開了晶圓夾持手臂及用于晶圓夾持手臂控制的系統、方法和裝置，其中，該晶圓夾持手臂包括：夾持手臂、傳感器及周邊支架、傳動結構，其中，傳感器及周邊支架，與夾持手臂連接，包括：抱夾對射傳感器的接收端的接收傳感器支架，抱夾對射傳感器的發射...

本發明公開了一種裝載晶圓減震裝置，半導體材料技術領域，該裝置包括：裝載手臂本體、兩個導向件和兩個支撐件；兩個支撐件分別固定設置在裝載手臂本體的裝載部的兩側；支撐件上開設有第一水流道，裝載手臂本體上靠近支撐件的位置開設有與第一水流道連通的...

本發明提供了一種控制雙面拋光設備待機保濕的方法、裝置、存儲介質及電子設備，應用于雙面拋光設備技術領域，該方法包括：在雙面拋光設備處于待機狀態的情況下，確定待機時間和可用的晶圓數量；在待機時間未超過第一設定時間的情況下，向雙面拋光設備發送...

本發明公開了一種晶圓研磨自動化系統，包括機架和設置于機架上的上料單元、第一拾取單元、定位單元、基準片承載單元、第二拾取單元、加工單元、清洗單元和下料單元；還包括用于采集晶圓和基準片的物料和位置信息的信息采集單元，以及控制上述各單元對晶圓...

本申請公開了一種DSP?EFEM自動抽檢方法、系統、介質及產品，涉及半導體制造與封裝測試領域，該系統包括：DSP?EFEM控制系統、第一機器人、第二機器人和檢測設備；DSP?EFEM控制系統控制第一機器人和第二機器人將I個待抽檢的晶圓逐...

本發明公開了一種晶圓拋光研磨系統，包括機架和設置于機架上的上料單元、中轉單元、加工單元、拾取單元，拾取單元的第一拾取部由上料單元拾取晶圓，機械臂帶動機械手運動，以將晶圓放置于中轉單元；中轉單元對晶圓進行定位，第二拾取部的多個拾取頭拾取中...