本技術(shù)公開一種具有電容耦合放電清洗功能的進(jìn)料腔，包括進(jìn)料腔本體、支撐傳輸組件和電容耦合放電組件；進(jìn)料腔本體分別與真空組件和進(jìn)氣組件連接，支撐傳輸組件設(shè)置在進(jìn)料腔本體內(nèi)部，支撐傳輸組件用于輔助裝載基片的載片架自動(dòng)進(jìn)出進(jìn)料腔本體內(nèi)部；電容耦...

本發(fā)明公開了一種等離子體處理石墨舟的方法，包括以下步驟：步驟S1、將干法清洗后的石墨舟轉(zhuǎn)移到PECVD鍍舟機(jī)臺(tái)；步驟S2、將石墨舟放入PECVD爐管內(nèi)，并在石墨舟中插入電極；步驟S3、將PECVD爐管抽真空并加熱；步驟S4、當(dāng)PECVD...

本技術(shù)公開了一種濕氧工藝系統(tǒng)，包括純水循環(huán)單元、濕氧單元和排水單元；純水循環(huán)單元包括依次連接的進(jìn)水管段、循環(huán)管段和回水管段，進(jìn)水管段的入口和回水管段的出口分別與外圍純水源連接，進(jìn)水管段和回水管段之間設(shè)有外循環(huán)連接管，外循環(huán)連接管上設(shè)有外...

本技術(shù)公開了一種用于硅片取放的吸盤裝置，若干片吸盤鎖緊固定在安裝支架底部，以形成吸盤陣列，相鄰兩片吸盤相互平行且間隔一定距離，以形成位于兩者之間的吸取空間；第一匯流管組件和第二匯流管組件分別設(shè)置在安裝支架頂部相對(duì)的兩側(cè)，且分別獨(dú)立運(yùn)行，...

本技術(shù)公開的一種LPCVD反應(yīng)室氣路系統(tǒng)，包括與爐口進(jìn)氣法蘭連接的進(jìn)氣組件，以及與爐尾抽氣法蘭連接的補(bǔ)氣組件，所述進(jìn)氣組件采用嵌入式噴淋結(jié)構(gòu)，所述補(bǔ)氣組件采用階梯式分層結(jié)構(gòu)，以實(shí)現(xiàn)LPCVD反應(yīng)室的爐管內(nèi)氣體均勻分布，避免氣體在爐管內(nèi)局...

本發(fā)明公開一種組合式加熱爐體及其安裝方法，包括爐外保溫結(jié)構(gòu)和多個(gè)堆疊設(shè)置的加熱爐本體，所述加熱爐本體內(nèi)側(cè)用于放置管式反應(yīng)室，加熱爐本體外側(cè)呈多邊形結(jié)構(gòu)，當(dāng)加熱爐本體安裝到爐體柜上之后，將爐外保溫結(jié)構(gòu)安裝在加熱爐本體外側(cè)，多個(gè)加熱爐本體之...

本發(fā)明公開了一種PECVD設(shè)備石墨舟電極引入裝置及電極引入控制方法，包括：驅(qū)動(dòng)元件、支撐底座、固定座、滑動(dòng)組件和電極桿，支撐底座的一側(cè)與PECVD設(shè)備的爐尾法蘭連接，支撐底座的另一側(cè)設(shè)有驅(qū)動(dòng)元件，驅(qū)動(dòng)元件的輸出端與固定座連接，支撐底座上...

本發(fā)明公開了一種遠(yuǎn)程等離子體清洗設(shè)備及清洗方法，清洗設(shè)備包括清洗腔室、腔門、第一遠(yuǎn)程等離子體源、第二遠(yuǎn)程等離子體源和真空單元，第一遠(yuǎn)程等離子體源和第二遠(yuǎn)程等離子體源分別與清洗腔室的第一端和第二端連接，清洗腔室的第一端和第二端分別設(shè)有第一...

本發(fā)明公開了一種PECVD設(shè)備放電異常的時(shí)間補(bǔ)償方法及系統(tǒng)，方法包括步驟：淀積開始后，判斷是否有電弧產(chǎn)生；當(dāng)采集一個(gè)T<subgt;on</subgt;里,有電弧的產(chǎn)生且T<subgt;arc</subgt;/T...

本技術(shù)公開了一種同步帶輸送裝置，包括安裝架、雙輸出軸電機(jī)及兩組相對(duì)布置的皮帶輸送機(jī)構(gòu)，所述雙輸出軸電機(jī)和皮帶輸送機(jī)構(gòu)均設(shè)于安裝架上，且所述雙輸出軸電機(jī)位于兩組皮帶輸送機(jī)構(gòu)之間，所述雙輸出軸電機(jī)的兩根輸出軸分別通過第一聯(lián)軸器與對(duì)應(yīng)的皮帶輸...

本發(fā)明公開了一種石墨舟搬運(yùn)裝置，包括：X軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)、Y軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)、Z軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和夾持機(jī)構(gòu)；Y軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)滑動(dòng)安裝在X軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)上，Z軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)滑動(dòng)安裝在Y軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)上，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的一端與Z軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的另一端與夾持機(jī)構(gòu)...

本發(fā)明公開了一種抑制寄生等離子體產(chǎn)生的射頻裝置，包括：腔體和腔蓋，腔蓋與腔體組成密閉的沉積反應(yīng)室；腔蓋上設(shè)有進(jìn)氣組件和射頻組件，進(jìn)氣組件用于輸送工藝氣體，所述射頻組件用于實(shí)現(xiàn)工藝氣體在輝光放電區(qū)電離；腔體內(nèi)部設(shè)有接地帶、加熱板和頂升組件...

本發(fā)明公開了一種掩模濕法腐蝕隔離HBC電池pn結(jié)的方法，包括以下步驟：將硅片制絨后，在硅片背面沉積第一i型非晶硅薄膜層、p型非晶硅薄膜層，采用光刻法去除第一i型非晶硅薄膜層、p型非晶硅薄膜層上的部分區(qū)域并沉積第二i型非晶硅薄膜層和n型非...

本技術(shù)公開了一種用于管式PE?POLY反應(yīng)室的維護(hù)工裝，包括：推舟機(jī)構(gòu)、第一取放桿和第二取放桿；第一取放桿通過第一固定座對(duì)稱設(shè)置在推舟機(jī)構(gòu)兩側(cè)，第一取放桿用于取放支撐桿；第二取放桿通過第二固定座對(duì)稱設(shè)置在推舟機(jī)構(gòu)兩側(cè)，第二取放桿用于取放...

本發(fā)明公開了一種自動(dòng)化倉儲(chǔ)貨物分配方法，包括如下步驟：S1、根據(jù)待入庫的貨物屬性尋找可入庫庫位；S2、獲取各設(shè)備的健康度數(shù)值，建立各條入庫線路健康度模型；S3、將健康度模型作為權(quán)重分配至每個(gè)可入庫庫位；S4、根據(jù)入庫貨物找出權(quán)重最大的貨...

本發(fā)明公開了一種LPCVD設(shè)備在線等離子清洗裝置及清洗方法，裝置的加熱爐體同軸嵌套在石英反應(yīng)爐外周，石英反應(yīng)爐的爐口設(shè)有爐口門板和爐門，爐門上設(shè)有進(jìn)氣孔，爐尾門板上設(shè)有抽氣管；爐口門板上設(shè)有與射頻電源組件連接的電極引入插座，爐門上設(shè)有相...

本技術(shù)公開了一種用于POLY反應(yīng)腔陶瓷件的清洗載具，清洗載具裝載陶瓷件進(jìn)入石墨舟干法清洗設(shè)備中完成干法清洗，清洗載具包括支撐桿和安裝板，多根支撐桿并排設(shè)置，且每根支撐桿的兩端均分別連接安裝板，支撐桿與安裝板圍成清洗載具的架體；支撐桿上設(shè)...

本技術(shù)公開了一種用于立式鍍膜設(shè)備的旋轉(zhuǎn)進(jìn)氣裝置，包括：載物組件、支撐組件、爐門組件、支撐板和傳動(dòng)組件；支撐組件的頂部與載物組件連接，支撐組件的底部與爐門組件連接，載物組件用于承載待鍍膜的基材；爐門組件的底部與支撐板連接，傳動(dòng)組件固定在支...

本技術(shù)公開了一種硅片花籃翻轉(zhuǎn)裝置，包括輸送組件，所述輸送組件包括輸送帶，所述輸送帶在輸送線前道和輸送線后道之間輸送花籃，所述輸送組件上方設(shè)有旋轉(zhuǎn)夾持組件，所述輸送帶至少一側(cè)設(shè)有用于帶動(dòng)花籃上下移動(dòng)的升降平臺(tái)，所述升降平臺(tái)將花籃頂升脫離輸...

本技術(shù)公開了一種自動(dòng)補(bǔ)水排水的濕氧工藝系統(tǒng)，包括：第一節(jié)流閥、進(jìn)水總管、水質(zhì)檢測(cè)儀、濕氧系統(tǒng)、蓄水槽和排水總管；進(jìn)水總管與外圍純水源的連接管路上設(shè)有第一節(jié)流閥，進(jìn)水總管上并聯(lián)設(shè)有多根進(jìn)水支管，各根進(jìn)水支管與相應(yīng)的濕氧系統(tǒng)一一連接，用于補(bǔ)...