本發(fā)明公開了一種減少膜層針孔的方法、膜層以及光掩模基板。其案減少膜層針孔的方法包括采用特定工藝氣體布?xì)夥绞降拇趴貫R射工藝形成亮鉻層和在亮鉻層上形成氧化層等步驟，有嚴(yán)格的工藝參數(shù)控制，還包括對(duì)濺射腔體等的前處理步驟，從而使膜層性能提升，避...

本發(fā)明涉及磨削加工領(lǐng)域，特別涉及一種磨削加工方法及裝置。一種磨削加工方法，步驟如下：S1：用固態(tài)膠膜將待磨削工件固定在磨削臺(tái)；S11：在過(guò)渡板形成固態(tài)膠膜；S12：將待磨削工件放置在固態(tài)膠膜，使待磨削工件通過(guò)固態(tài)膠膜固定在過(guò)渡板；S13...

本發(fā)明公開了一種夾具污染程度的檢測(cè)控制方法，包括以下步驟：從清洗籃上取下夾具，用純水進(jìn)行沖洗；將清洗后的夾具，放入純水超聲波中進(jìn)行超聲處理，所述超聲波的音壓強(qiáng)度范圍為0.1?0.2mv；取樣清洗后的純水廢液，在培養(yǎng)箱中進(jìn)行細(xì)菌培養(yǎng)；根據(jù)...

本發(fā)明公開了一種光掩膜基板膠膜層的制備方法，所述制備方法包括以下步驟：步驟S1：對(duì)鉻膜坯料進(jìn)行清洗；步驟S2：用熱板對(duì)鉻膜坯料進(jìn)行過(guò)烘烤；步驟S3：對(duì)鉻膜坯料涂布增粘劑；步驟S4：對(duì)鉻膜坯料涂布稀釋劑；步驟S5：對(duì)鉻膜坯料涂布光刻膠；步...

本發(fā)明公開了一種光掩膜基板加工方法，其中，光掩膜基板原材料為玻璃基板，加工方法包括：對(duì)玻璃基板進(jìn)行磨邊、磨棱、倒角、噴淋清洗，獲得玻璃基板加工用測(cè)量數(shù)據(jù)，根據(jù)測(cè)量數(shù)據(jù)確定加工方案，使用不同精度金剛石砂輪依次進(jìn)行不同精度磨削；磨削后使用拋...

本發(fā)明公開了一種超大尺寸玻璃基板面形修正方法以及加工裝置，其中，所述超大尺寸玻璃基板面形修正方法包括以下步驟：對(duì)待加工件進(jìn)行整體研磨和/或局部拋光，得到所需工件，所需工件的PV值≤10μm，且所需工件的TTV值≤10μm。本發(fā)明提供的超...

本發(fā)明公開了一種超聲槽，包括：槽體，所述槽體包括外槽以及設(shè)于所述外槽內(nèi)的內(nèi)槽；供給系統(tǒng)，所述供給系統(tǒng)與內(nèi)槽管路連接；超聲裝置，所述超聲裝置設(shè)于內(nèi)槽的底部和/或側(cè)部；控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)與供給系統(tǒng)以及超聲裝置電連接；工作時(shí)，待清洗物件置...

本發(fā)明公開了一種厚層光刻膠的涂布烘烤方法，其中，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面鍍有一層氧化薄膜，所述涂布烘烤方法包括：旋轉(zhuǎn)玻璃基板，將光刻膠在玻璃基板的邊緣往中心方向動(dòng)態(tài)滴膠；涂布第一光刻膠，形成第一光刻膠層；烘烤第一光刻膠層，使第一光...

本發(fā)明公開了一種去除基板拋光液的清洗方法，包括：將基板進(jìn)行高壓水清洗，具體為，對(duì)水加壓形成水射流，水射流通過(guò)弧形噴口對(duì)基板進(jìn)行機(jī)械力沖洗；對(duì)高壓水清洗后的基板進(jìn)行刷洗，具體為，旋轉(zhuǎn)基板并用毛刷對(duì)基板進(jìn)行刷洗，所述毛刷在水平方向進(jìn)行自轉(zhuǎn)運(yùn)...

本發(fā)明公開了一種光掩模基板及其制備方法，其中，所述光掩模基板包括：玻璃基底、鉻膜層以及光刻膠層，其中，所述玻璃基底與鍍鉻膜層間具有二氧化硅過(guò)渡層。本發(fā)明所述的技術(shù)方案能夠顯著改善光掩模基板的粘附力，有效減少制程中線條缺失等缺陷，大幅提高...

本發(fā)明公開了一種光掩膜回收利用方法，所述方法的步驟包括：光掩膜基板進(jìn)行檢查，對(duì)通過(guò)檢查的光掩膜基板進(jìn)行回收；所述檢查包括光阻層檢查、膜層檢查和基底檢查中任一或任幾種的結(jié)合；對(duì)光阻層檢查未通過(guò)的光掩膜基板進(jìn)行SPM去光阻；對(duì)膜層檢查未通過(guò)...

本發(fā)明公開了一種石英光掩模基板氧化鈰拋光粉殘留清洗方法，包括：對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)處理；包括對(duì)樣品用低濃度分散型洗劑進(jìn)行雙面拋光；將預(yù)處理后的樣品依次浸泡在堿液、熱硫酸中；對(duì)浸泡過(guò)熱硫酸的樣品用純水漂洗；對(duì)用純水漂洗過(guò)的樣品用堿液清洗及進(jìn)行超聲...

本發(fā)明公開了一種改善膜層顆粒的方法，用于鍍膜工藝，包括：進(jìn)行遮擋物清潔；進(jìn)行鍍膜機(jī)腔體清潔；包括使用負(fù)壓吸收裝置清除腔體內(nèi)的粉塵，進(jìn)行擦拭處理，安裝已清潔的遮擋物，將腔體抽至真空狀態(tài)；使用預(yù)濺射對(duì)真空狀態(tài)的腔體進(jìn)行設(shè)備自潔處理。本發(fā)明能...

本發(fā)明公開了一種玻璃基板的拋光方法，所述玻璃基板的拋光方法包括對(duì)待拋光的玻璃進(jìn)行粗拋；對(duì)玻璃進(jìn)行精拋；對(duì)精拋后的玻璃進(jìn)行平整度分析和分類；根據(jù)平整度分類結(jié)果，對(duì)分類為未達(dá)到預(yù)設(shè)平整度標(biāo)準(zhǔn)的玻璃，進(jìn)行手動(dòng)拋磨,并再次對(duì)玻璃進(jìn)行精拋及進(jìn)行平...

本發(fā)明公開了一種低折射率低消光系數(shù)的相移掩模坯料制作方法，包括：選取相移掩模坯料基底，基底的折射率在1.6以下、消光系數(shù)在0.05以下；將基底進(jìn)行拋光、清洗處理；在基底上堆疊過(guò)渡層，過(guò)渡層的折射率n<subgt;1</sub...

本發(fā)明公開了一種厚層光刻膠的涂布烘烤方法，步驟包括涂布第一光刻膠，形成第一光刻膠層，第一光刻膠的光刻膠原液與稀釋劑的體積比為第一稀釋比例R<subgt;1</subgt;；烘烤第一光刻膠層，采用階梯升溫方式對(duì)第一光刻膠層進(jìn)行...

本發(fā)明公開了一種石英玻璃倒棱的加工方法，主要包括：選取合適的砂輪組合并安裝固定；使用蘇打玻璃通過(guò)砂輪組合進(jìn)行樣片試制；通過(guò)樣片試制的情況進(jìn)行砂輪補(bǔ)償，得到適合于石英玻璃的磨削參數(shù)；通過(guò)砂輪補(bǔ)償后的砂輪組合進(jìn)行石英玻璃倒棱加工

本發(fā)明公開了一種夾具污染程度的檢測(cè)控制方法，包括以下步驟：從清洗籃上取下夾具，用純水進(jìn)行沖洗；將清洗后的夾具，放入純水超聲波中進(jìn)行超聲處理，所述超聲波的音壓強(qiáng)度范圍為

本發(fā)明公開了一種掩膜版玻璃基底的清洗方法，包括對(duì)玻璃基底表面進(jìn)行SPM清洗；對(duì)玻璃基底持續(xù)進(jìn)行熱純水沖洗；對(duì)玻璃基底進(jìn)行冷純水沖洗；對(duì)玻璃基底進(jìn)行毛刷洗劑刷洗，毛刷以順時(shí)針旋轉(zhuǎn)方式和逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)方式交替旋轉(zhuǎn)；對(duì)玻璃基底再次進(jìn)行冷純水沖洗；...

本發(fā)明公開了本發(fā)明提供了一種光掩膜基板加工方法，光掩膜基板原材料為玻璃基板，加工方法包括：對(duì)玻璃基板進(jìn)行磨邊、磨棱、倒角、噴淋清洗，獲得玻璃基板加工用測(cè)量數(shù)據(jù)，根據(jù)測(cè)量數(shù)據(jù)確定加工方案，使用不同精度金剛石砂輪依次進(jìn)行不同精度磨削；磨削后...