本發明涉及深孔鉆頭，具有在導引段的有效長度上延伸的第一覆層并且具有在鉆頭尖部處在切削區域內覆設的第二覆層，其范圍在最大相應于兩倍的鉆頭公稱直徑的軸向長度上延伸。由此就能在鉆頭尖部因為使用而磨損時在其銳化之后重新覆層，尤其即使經過多次重磨...

氫滲透阻擋物的制備方法，包括以下步驟a)在基體(SUB)上沉積包括至少一個層(L1；L2；L3)的層系統(LS)；其特征在于步驟a)包括以下步驟：b)沉積至少一個包括至少三元氧化物的氫阻擋層(HPBL)。該裝置包括可密封的容積和形成限定...

本發明涉及一種涂層系統，包括至少一個由A納米層和B納米層彼此交替沉積而成的多層膜，其特征在于A納米層主要包含鋁鉻硼氮化物，而B納米層主要包含鋁鉻氮化物。

本發明涉及具有涂層系統的涂布滑動部件，所述涂層系統允許在干燥和/或潤滑條件下有更好的滑動性能。本發明的涂層系統特征在于具有最外層，該最外層在潤滑條件下的滑動應用情況下，為包含氧化物的光滑層，或在干燥或潤滑條件下的滑動應用情況下，為包含氮...

本發明涉及一種用于借助于霧化目標材料涂裝襯底的方法，其中包括下列步驟：-在涂裝室中以功率脈沖施加由第一材料制成的第一濺射目標，借助于功率脈沖在第一時間間隔期間將第一能量量傳遞到濺射目標上，其中對此最大功率密度超過50W/cm2并且優選超...

本發明涉及具有層體系的塑料部件，其中所述層體系包含施加在塑料表面上的底漆層，在所述底漆層上有借助氣相沉積施加的層，該層本身被面漆層覆蓋，其特征在于，所述由氣相沉積施加的層包含多個層片。

本發明涉及一種紅外線傳感器，尤其是一種光學手指導航模塊，其具有應用為傳感器的覆蓋玻璃的組件，其中該組件包括傳感器區域和透明區域，其中該透明區域具有薄的、對于可見光而言至少部分可透過、包括至少一層的層系統，并且所述至少一層是金屬層、半導體...

本發明涉及用于借助于等離子體反應測定在涂裝過程的氣體消耗的方法，其具有下列步驟:a）將反應氣體吸入涂裝室中其中測量相應反應氣體流量并且同時測量在涂裝室中占多數的部分壓力，而不點燃等離子體b）將反應氣體吸入涂裝室中其中測量相應反應氣體流量...

本發明涉及一種借助于PVD涂覆工藝涂覆Al-Cr-O涂層的方法。借助于摻雜Si的含Al和Cr的靶進行PVD涂覆工藝。Si的摻雜防止反應性涂覆工藝過程中在靶上形成氧化物島。

本發明涉及一種用于反應濺射的方法，其中借助離子轟擊，材料從第一靶子的表面脫離并且過渡到氣相，其中在該靶子上如此以脈沖方式施加負電壓，使得在靶子表面上產生電流密度大于0.5A/cm2的電流，以便過渡到氣相的材料至少部分被離子化并且其中構建...

本發明涉及一種用于提供用于PVD霧化陰極的功率脈沖的方法，PVD霧化陰極包括功率吸收部件和部分陰極，其中在發生器的功率建立間隔期間在功率吸收部件上降低功率并且接著在部分陰極上降低功率，其中如此切換，使得不必中斷從提供功率的發生器提取功率。

本發明涉及靶，其構造為用于氣相沉積方法的材料源、帶有前側和背側，其特征在于，在背側處粘有自粘性的碳薄膜。靶可構造為用于濺射方法和/或用于陰極火花蒸鍍方法的材料源。特別有利地，靶用在帶有間接的冷卻部的涂覆源中，其中，自粘性的碳薄膜與膜片處...

本發明涉及一種HIPIMS方法，通過該方法能夠在涂敷室的高度上沉積均勻的層。在此使用兩個分陰極。根據本發明，單獨選擇對這些分陰極施加的各個功率脈沖區間的長度，并且這樣在涂敷室的高度上實現希望的涂層厚度輪廓。

本發明涉及一種用于將六角形氮化硼涂覆在粗糙表面上的方法，其中所述氮化硼作為耐高溫的潤滑劑能夠供表面使用。按照本發明將由六角形氮化硼制成的銷釘以壓力擦磨在粗糙表面上，由此使氮化硼擦磨粘附地保留在表面上。

用于在真空室中電弧涂覆或電弧離子鍍涂覆基材的涂覆方法，其中使用電弧蒸發器蒸發充當陰極的固體材料，在電弧蒸發過程中，使用磁場加速陰極輝點在固體材料表面上的移動來避免從固體材料表面逐出大量的大顆粒或液滴，由電弧蒸發產生的帶負電荷的顆粒從陰極...

本發明涉及(Al,Ti)N涂層，其顯示具有至少兩個不同涂層部分A和B，具有納米數量級的顆粒大小，其特征在于所述涂層部分A顯示具有比所述涂層部分B更大的顆粒大小和更高的彈性模量。本發明還涉及一種用于用上述涂層涂布基底的方法，從而借助于PV...

本發明涉及在至少一個基材上通過噴霧由氣相沉積PVD層體系的方法，其中該層體系包括至少一個第一層，其特征在于，至少在該方法的一個步驟中使用功率密度為至少250W/cm2的HIPIMS方法，其中使用至少5ms時間的脈沖長度，在此期間在基材上...

本發明涉及用于電弧源的點火裝置，即用于在真空覆層設備中點火電弧蒸發器的大電流放電的點火裝置。利用機械地接通和斷開在陰極與陽極之間的接觸。該接觸利用在強制軌跡上活動的點火銷建立。由于強制軌跡可以使點火銷利用簡單的機械驅動裝置移動到免受覆層...

本發明涉及一個真空處理設備，具有旋轉臺滑架，其中旋轉臺驅動裝置設置在那個壁體上，該壁體位于真空處理設備的門對面。由此保證沒有其它機構地連接旋轉臺滑架的旋轉臺到旋轉臺驅動裝置上。

本發明涉及一種具有在塑料基底上施加的電鍍層布置的裝飾件。在該電鍍層布置上提供了含粘附層、混合層和顯色覆蓋層的PVD-層布置，其中該混合層提供耐抗性特別是耐腐蝕性，并賦予該表面所需的硬度。