本發(fā)明公開了一種化學機械拋光液，包括腎上腺素類化合物，所述腎上腺素類化合物的分子結(jié)構(gòu)為：，其中R1為x，y?苯二酚或x，y，z?苯三酚，其中x，y，z為2?6的數(shù)字；R2和R3為氫原子、碳數(shù)為1?6的烷烴或碳數(shù)為1?6的醇；n為1?3的...

本發(fā)明公開了一種化學機械拋光液，所述化學機械拋光液的各成分質(zhì)量百分含量如下：研磨顆粒0.8％～10％、增速劑0.001％～0.5％、酰胺基吉米奇季銨鹽陽離子表面活性劑0.001％～0.5％、環(huán)狀低聚糖類化合物0.001％～1％，余量為水...

本發(fā)明涉及一種N，N?2,2?聯(lián)四氫吡咯烷的電子級提純方法，包括以下步驟：步驟1、將N，N?2,2?聯(lián)四氫吡咯烷蒸餾，收集相應(yīng)沸點餾分；步驟2、配置聯(lián)四氫吡咯烷水溶液，將步驟1得到的N，N?2,2?聯(lián)四氫吡咯烷餾分加入媒介中溶解，降溫，...

本發(fā)明公開了一種化學機械拋光液，包括研磨阻滯劑，所述研磨阻滯劑的分子結(jié)構(gòu)為：，其中R為碳數(shù)3～18的支鏈烷基；X為氫氧根離子、氯離子、溴離子或碘離子中的一種；n為1或2。本發(fā)明還公開了一種化學機械拋光液的制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明提供了一種...

本發(fā)明涉及本發(fā)明公開了一種化學機械拋光液，其含有研磨顆粒和水，還含有如式I所示的研磨阻滯劑：式I；其中，n為1或2；R為烷烴官能團；X為氫氧根離子或氯離子或溴離子。本發(fā)明的拋光液可降低多晶硅去除速率，但不影響二氧化硅的去除速率，可明顯減...

本發(fā)明公開了一種化學機械拋光液，包括二氧化硅研磨顆粒、陰離子表面活性劑、絡(luò)合劑、氧化劑、腐蝕抑制劑、鄰二胺鹽和水。本發(fā)明的一種化學機械拋光液，能提高對Cu膜的拋光速率，抑制阻攔材料的拋光速率，同時降低拋光過程中碟形凹槽、劃痕等缺陷的產(chǎn)生。

本發(fā)明涉及拋光液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種化學機械拋光液，包含氧化鈰研磨顆粒、N，N?2，2?聯(lián)四氫吡咯類化合物、有機高分子聚合物、有機多元酸、pH調(diào)節(jié)劑、抗菌劑、水。采用上述組分的拋光液，可以顯著提高其對二氧化硅介質(zhì)層的拋光速率，抑制氮化...