本技術公開了一種模板載臺及壓印裝置，模板載臺包括依次層疊的基座、墊片、彈性件、及模板，基座和墊片圍合形成朝向彈性件設置的收容腔，彈性件包括相對設置的第一表面和第二表面，第一表面與墊片相連，模板安裝于第二表面上；當彈性件發(fā)生彈性形變以使第...

本技術公開了一種脫膜輥，包括握桿、輥體、連接握桿和本體的連接件、及抽氣裝置，抽氣裝置包括進氣口、出氣口及連通進氣口和出氣口的腔室，輥體上設有若干吸附孔單元，吸附孔單元包括若干吸附孔，輥體內部設有與吸附孔及出氣口相連通的第一通氣管路。本技...

本發(fā)明公開了一種納米壓印模板及降低納米壓印脫模缺陷的方法，通過在模板本體表面的第一區(qū)域邊緣設置第二區(qū)域，第二區(qū)域可以設置在第一區(qū)域在第一方向的后方，也可以設置在第一區(qū)域在第一方向的上方和下方，也可以同時設置在第一區(qū)域在第一方向的上方、下...

本發(fā)明公開了一種納米壓印模具及納米壓印的方法，通過采用具有孔洞的硬質基板結合覆蓋孔洞的軟質基板，形成若干獨立腔室，根據壓印中氣泡產生位置，通過改變注入獨立腔室內的氣體量，進行局部或全面的壓力調節(jié)，進而排出氣泡，提高壓印精度。同時，通過對...

本發(fā)明公開了一種納米壓印模板、其制備方法及納米壓印方法。納米壓印模板包括模板本體和光響應材料層。模板本體表面形成有納米壓印圖案；光響應材料層至少形成于模板本體設置有納米壓印圖案的表面上，其中，光響應材料層覆蓋模板本體的表面以及納米壓印圖...

本發(fā)明公開了一種納米壓印涂膠方法，涂膠結構及納米壓印方法，采用靜電噴涂的方式，通過與樣品結構對應的圖案化電極引導帶靜電的壓印膠霧化微粒沉積，實現與樣品結構對應的圖案化涂膠，解決納米壓印過程中殘膠不均勻的問題。

本發(fā)明公開了真空輔助的高精密涂膠方法及涂布系統，其中涂膠方法，包括準備高真空的涂膠環(huán)境，若干待涂布的襯底樣品分布于涂膠環(huán)境中實施至少一次沉積；一次沉積至少包括如下一個循環(huán)：A、在涂膠環(huán)境中充分分散當前循環(huán)對應的待涂布膠Gi形成的霧狀顆粒...

本發(fā)明公開了一種閃耀光柵的制備方法及用該方法制備的閃耀光柵。制備方法包括：提供單晶硅基底，所述單晶硅基底具有第一表面；在所述單晶硅基底的第一表面上制備掩膜層；利用所述掩膜層對所述單晶硅基底的第一表面進行硅濕法腐蝕，以獲得具有平整傾斜面的...

本發(fā)明公開了一種微球模板及其制備方法和應用，包括：將微球加入可固化的膠類液體內，攪拌均勻，得到微球懸濁液；將微球懸濁液涂布在基材上；對基材上的微球懸濁液進行固化形成凝固層；去除凝固層上表面的微球或膠體，得到具有微球凹陷面或微球凸起面的微...

本發(fā)明公開了納米壓印復合模板、組件及系統，模板，包括順次設置的剛性層、中間層、結構層，滿足：剛性層的硬度大于中間層的硬度，剛性層的彈性小于中間層的彈性。本發(fā)明方案通過優(yōu)化復合模板的結構，從而兼具硬質模板的硬度和強度，以及軟質模板的低成本...

本技術公開了一種脫膜機構，包括：支撐板；直驅線性模組，沿脫膜方向固定安裝于支撐板上；載臺模組，安裝于直驅線性模組上，用于放置待脫膜產品，待脫膜產品包括襯底和軟模板；支撐件，固定安裝于支撐板上；脫膜輥，脫膜輥包括兩端分別固定安裝于支撐件上...