本發明提供了一種氮化鋁模板工藝參數的優化方法、裝置和可讀存儲介質，涉及半導體技術領域。基于深度強化學習的氮化鋁模板的工藝參數的優化方法包括：設置氮化鋁模板的一個或多個工藝參數；基于制備氮化鋁模板的工藝參數，定義狀態空間和動作空間；構建神...

本發明提供一種控制MOCVD設備內外腔流量比的方法，涉及MOCVD尾氣的控制技術領域，包括內腔、外腔，所述內腔的尾部設置有內腔尾氣過濾器、第一高精度閉環控制儀表、第一傳感器、第一PID、第一模擬量對儀表、內腔電動調節閥、內腔流量計依次相...

本發明涉及微電子技術和光電子技術領域，具體的說是一種控制RUN?VENT壓強平衡的方法。包括RUN側管路和VENT側管路，所述RUN側管路的一端安裝有RUN側流量控制器，所述VENT側管路的一端安裝有VENT側流量控制器，所述RUN側管...

本發明公開了一種過濾系統及包括其的薄膜沉積設備。根據本發明實施例的過濾系統包括進氣口；進氣腔，所述進氣腔與所述進氣口相連通；待過濾氣體經由所述進氣口進入所述進氣腔；出氣腔，所述出氣腔設置在所述進氣腔的一側，所述出氣腔用于容納過濾后氣體；...

本申請公開了一種艙門壓緊機構及密封艙門，該艙門壓緊機構包括：基座，基座具有承載面和連接面；驅動單元，位于基座上；移動轉盤，與驅動單元相連，移動轉盤位于基座的承載面；壓緊鉤，壓緊鉤與移動轉盤相連；其中，基座的連接面與艙門相連，基座的承載面...

本發明公開了一種RUN?VENT切換方法，涉及MOCVD設備技術領域，該RUN?VENT切換方法包括以下步驟：步驟一：氣體流量控制；步驟二：氣體流向控制；步驟三：反應室和加熱系統的優化；步驟四：安全保護系統的設置。本發明通過精確的氣體流...

本發明提供一種MO源瓶開關結構，涉及開關結構技術領域，包括MO源瓶，所述MO源瓶的上端固定安裝有控制組件，所述控制組件的上端安裝有出氣管和進氣管，所述控制組件的下端安裝有短管和長管，開啟，先旋轉第三閥組，由于短管與液體沒有接觸，即使源瓶...

本申請公開了一種旋壓機構，該旋壓機構包括：基座；驅動軸，位于基座上；第一支撐臂，第一支撐臂的一端與驅動軸鉸接，第一支撐臂的另一端設置有第一輥輪；第二支撐臂，第二支撐臂的一端與驅動軸鉸接，第二支撐臂的另一端設置有第二輥輪；其中，第二支撐臂...

本發明公開了一種氣體供應系統及氣體供應方法。根據本公開的氣體供應系統包括罐體，罐體中儲存有待供應氣體；供氣口與罐體相連通，以向外界供應待供應氣體；第一管道的第一端與所體相連通，第一管道的第二端與供氣口相連通；減壓器設置在第一管道上，并位...

本發明提供一種MOCVD設備的尾氣過濾器結構和使用方法，涉及過濾器結構技術領域，包括MOCVD反應室，所述MOCVD反應室通過管道連接有過濾裝置，所述過濾裝置通過管道連接有壓力調節閥，所述壓力調節閥通過管道連接有真空抽氣泵，當第一過濾器...

本發明提供了鎖止裝置和烘烤爐，涉及工業烤爐技術領域，在于解決帶有彈性件或者磁性件的鎖止裝置會在高溫下失效的技術問題。鎖止裝置包括：中空的環狀結構的鎖殼，多個固定塊環繞設置在鎖殼的內壁面，多個固定塊圍合成鎖孔，任意相鄰兩個固定塊之間形成滑...

本發明提供了外延生長裝置，涉及半導體材料科學與工程技術領域，旨在解決現有技術或相關技術中半導體晶圓的旋轉方式單一的技術問題。外延生長裝置包括；固定板；支撐盤可轉動地設于固定板上，支撐盤上設置有容納槽和避讓通孔，多個容納槽環繞避讓通孔設置...

本技術涉及夾持裝置技術領域，尤其是涉及一種半導體外延片真空夾持裝置，包括夾持架和若干個夾持吸附臺，夾持吸附臺均固定于夾持架外圍，夾持吸附臺上端均開有真空吸附槽，真空吸附槽內均固定有空心支撐板，空心支撐板上端均連通有干個微型真空吸附盤，夾...

本技術公開了一種氮化鎵外延片生長基盤，包括盤體，還包括：蜂窩儲槽結構，蜂窩儲槽結構可拆卸連接在盤體中，蜂窩儲槽結構包括多塊蜂窩塊，蜂窩塊呈正六邊形結構，蜂窩塊中均設有儲槽。該氮化鎵外延片生長基盤，通過將儲槽設置在蜂窩塊中，因為蜂窩塊呈正...

本實用新型公開了一種半導體線路板送料設備，涉及半導體加工傳輸設備技術領域

本實用新型公開了一種

本說明書實施例提供一種磁懸浮自轉公轉反應室裝置，該裝置包括石墨基礎、主石墨回轉體、多個基片承載體、多組磁機構、加熱器以及處理器；石墨基礎包括石墨基座和石墨壓圈；多組磁機構包括第一支承磁機構、第二支承磁機構、第一驅動磁機構和第二驅動磁機構...

本說明書實施例提供一種高真空旋轉密封裝置，包括擺動機構、驅動機構、密封機構、連接機構以及處理器，擺動機構包括第一擺動盤和第二擺動盤；驅動機構包括外驅動機構和內驅動機構；密封機構包括至少一個波紋管；連接機構包括連桿和十字軸；處理器被配置為...

本說明書實施例提供一種托盤控溫加熱器裝置及其控制方法，所述托盤控溫加熱器裝置包括托盤，用于承載襯底；加熱裝置，設置于托盤下方，用于對所述托盤進行加熱，包括第一加熱裝置、第二加熱裝置和第三加熱裝置；旋轉裝置，用于旋轉所述托盤；檢測裝置，用...