本發(fā)明涉及化學(xué)機械拋光技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種泡孔可控的耐磨耐酸堿CMP拋光軟墊及其制備方法，包括如下步驟：S1、將基布浸泡在酸堿擺動浸料中預(yù)處理后，在基布上涂覆聚氨酯漿料，然后浸入凝固浴中使得基布表面的聚氨酯漿料凝固形成聚氨酯涂層，并于...

本申請涉及合成革技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種雙制程鏡面高透水晶革及其制備方法，選擇聚酯型聚氨酯樹脂、珠光粉、顏料、二甲基甲酰胺，碳酸二甲酯為首次干法工序的面層和中間層和粘接層貼合針織基布，采用高模量聚氨酯面層無色漿料與一液型聚氨酯無色漿料，...

本申請屬于合成革制作技術(shù)領(lǐng)域，本申請公開了一種用于電子產(chǎn)品的合成革及制備方法。本申請中的合成革由外至內(nèi)依次包括面層、中間層、粘接層和基布層，面層由面層漿料制成，面層漿料的原料包括聚碳樹脂、蓖麻油改性聚酯多元醇、乙烯基羥基硅油、耐磨劑、耐...

本申請涉及一種皮革胚布揉紋處理裝置，屬于皮革生產(chǎn)制造的領(lǐng)域，其包括機架和揉紋滾筒，所述揉紋滾筒轉(zhuǎn)動連接于機架上，所述揉紋滾筒內(nèi)壁上連接有多排撥動件，所述撥動件為接觸銷軸，所述接觸銷軸的長度方向和揉紋滾筒的軸線垂直，所述接觸銷軸包括長軸和...

本申請涉及一種基布涂布裝置，屬于涂布裝置的領(lǐng)域，其包括涂布架、支架和收集盒，涂布架和支架相對設(shè)置，涂布架和支架均架設(shè)在收集盒的外側(cè)，涂布架上轉(zhuǎn)動連接有涂布輥，涂布架上設(shè)有用于在基布上涂覆涂料的涂料組件，涂料組件設(shè)置在涂布輥的正上方，支架...

本發(fā)明涉及硅酸鹽黏土礦物纖維/發(fā)泡聚氨酯拋光墊復(fù)合材料的制備方法，包括如下步驟：S1、采用異氰酸酯硅烷偶聯(lián)劑溶液對發(fā)泡聚氨酯進行超聲霧化處理，直至溶液消耗完即完成處理，然后干燥得到改性發(fā)泡聚氨酯；S2、將所述改性發(fā)泡聚氨酯完全浸沒于硅酸...

本申請涉及一種皮革精磨裝置，屬于皮革加工的領(lǐng)域，其包括機架，機架上設(shè)有傳動輥和第一砂紙，傳動輥和機架轉(zhuǎn)動連接，皮革和傳動輥抵接，第一砂紙和機架相對轉(zhuǎn)動，第一砂紙和皮革接觸，機架上還設(shè)有第一吸附管，第一吸附管的管口朝向皮革，第一吸附管上連...

本申請涉及一種基布含浸裝置，屬于基布加工的領(lǐng)域，其包括機架、傳動輥和染劑池，傳動輥和機架轉(zhuǎn)動連接，基布和傳動輥抵接，染劑池設(shè)置于機架的底部，染劑池內(nèi)放置有染劑，還包括轉(zhuǎn)動輥和滑動輥，轉(zhuǎn)動輥和滑動輥均位于染劑池的上方，轉(zhuǎn)動輥和滑動輥均與機...

本申請涉及一種皮革收布架，屬于收布架的領(lǐng)域，其包括相對設(shè)置的兩個支撐座，相對設(shè)置的兩個支撐座之間設(shè)有收卷架，收卷架的一側(cè)與其中一個支撐座轉(zhuǎn)動、另一側(cè)與另一個支撐座轉(zhuǎn)動，收卷架上轉(zhuǎn)動有第一收卷輥和第二收卷輥，第一收卷輥和第二收卷輥相對設(shè)置...

本技術(shù)涉及一種布料固定結(jié)構(gòu)，屬于布料處理的技術(shù)領(lǐng)域，其包括分別設(shè)置于烘箱兩側(cè)的帶料組件，帶料組件與烘箱均設(shè)置于工作臺上，帶料組件包括傳動鏈條和分別設(shè)置于烘箱兩端的傳動鏈輪，傳動鏈輪與工作臺轉(zhuǎn)動連接，傳動鏈條與工作臺滑移連接，烘箱兩端的傳...

本發(fā)明公開了一種改善CMP拋光墊打磨性能的方法，涉及CMP拋光墊的技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括如下步驟：將無紡布拋光革在含二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺的溶劑中浸沒10?30min后，清洗無紡布拋光革，得到微孔無紡布；在1.2?1.8MPa的印刷壓...

本申請涉及拋光材料的技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種水性高效率CMP拋光墊的加工方法。一種水性高效率CMP拋光墊的加工方法，包括以下步驟：將無紡布浸漬于浸料A中，進行第一次擠壓，取出無紡布，再次浸漬于浸料A中，再進行第二次擠壓，取出烘干，打磨，...

本申請涉及一種皮革基材熱烘延展設(shè)備，屬于皮革生產(chǎn)制造領(lǐng)域，其包括機架、烘箱和延展機構(gòu)，延展機構(gòu)包括基礎(chǔ)鏈輪、延展鏈輪、延展鏈條和壓輥，延展鏈條上連接有多個延展針板，壓輥的表面與貝斯背離延展針板的一側(cè)的表面抵接，延展針板上固定連接有多個刺...

本發(fā)明公開了一種CMP拋光墊泡孔凝固工藝，包括如下步驟，在PET膜的表面涂覆工作漿，工作漿的厚度為0.15

本申請涉及涉及一種拋光材料，具體公開了一種用于碳化硅精拋的拋光材料及其制備方法。一種用于碳化硅精拋的拋光材料，所述拋光材料的原料包括載體、聚氨酯涂層、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜；所述聚氨酯涂層的原料包括如下重量份的組分：聚氨酯樹脂80~12...

本發(fā)明公開一種密胺樹脂/聚氨酯復(fù)合拋光墊及其制備方法；包括：一、改性多孔密胺樹脂的制備：S1、將有機改性劑加入第一溶劑中攪拌均勻，得到改性溶液；S2、將多孔密胺樹脂浸漬于所述改性溶液中進行反應(yīng)，反應(yīng)后取出產(chǎn)物干燥，制得改性多孔密胺樹脂；...

本申請涉及一種拋光材料，具體公開了一種CMP拋光墊及其制備方法。一種CMP拋光墊的制備方法，包括以下步驟：將部分溶劑先進行攪拌，加入部分助劑，攪拌均勻后提升轉(zhuǎn)速，接著加入部分助劑，攪拌均勻，得到混合料A；將剩下的溶劑和剩下的助劑攪拌均勻...

本申請涉及電子化學(xué)材料加工技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種新型拋光襯墊及其制造方法。所述新型拋光襯墊包括非織造布層以及覆蓋在非織造布層表面的含浸樹脂層，所述含浸樹脂層由含浸漿料的固化產(chǎn)物經(jīng)過打磨后得到，所述含浸漿料包括如下重量份的組分：水性樹脂90

本發(fā)明涉及生產(chǎn)輸送技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種拋光墊材生產(chǎn)線用基布輸送裝置及工作方法。本發(fā)明提供了一種拋光墊材生產(chǎn)線用基布輸送裝置，限位架固定在工作臺上，限位架適于限位收卷輥；驅(qū)動部固定在工作臺上，驅(qū)動部適于驅(qū)動收卷輥周向轉(zhuǎn)動以收卷多層基布；...

本發(fā)明涉及豎微孔聚氨酯拋光墊的制備方法，包括如下步驟：將聚氨酯鑄膜液涂布于基材表面，然后浸入凝固液中使基材表面的聚氨酯鑄膜液發(fā)生相轉(zhuǎn)化而凝固成膜，成膜的同時在垂直于膜表面內(nèi)形成規(guī)則排布的豎微孔，隨后水洗、烘干即得到豎微孔聚氨酯拋光墊；所...