本發(fā)明提供一種兆聲輔助的研磨盤及研磨總成。兆聲輔助的研磨盤包括：研磨盤本體，其第一表面開設(shè)有容納槽；上盤，覆蓋研磨盤本體的第一表面，并與研磨盤本體可拆卸連接；兆聲發(fā)生器；換能器，設(shè)置于容納槽內(nèi)，并與兆聲發(fā)生器電連接；匹配層，在容納槽內(nèi)與...

本發(fā)明公開了一種含親電親核雙功能有機(jī)硼化合物的鎢化學(xué)機(jī)械拋光液，該拋光液還包含經(jīng)硅烷偶聯(lián)劑處理的研磨顆粒、催化劑、穩(wěn)定劑、氧化劑、腐蝕抑制劑，余量為水。本發(fā)明的鎢化學(xué)機(jī)械拋光液使用的親電親核雙功能有機(jī)硼化合物可以增加體系穩(wěn)定性，同時可以...

本發(fā)明公開了一種高精度硅片拋光組合物及其應(yīng)用，所述高精度硅片拋光組合物以二氧化硅水溶膠及有機(jī)堿為主要拋光組分，額外添加有酚類化合物、芳基含氮化合物。本發(fā)明通過在硅片拋光組合物中額外加入酚類化合物、芳基含氮化合物，可以在硅片表面形成雙層保...

本發(fā)明公開了一種具有改善拋光晶圓拋光后“邊緣效應(yīng)”缺陷的化學(xué)機(jī)械拋光墊的制備方法，通過在拋光層拋光軌跡區(qū)域下表面開設(shè)孔洞區(qū)，并對孔洞內(nèi)部填充聚氨酯材料，固化后形成拋光層從而制得所述化學(xué)機(jī)械拋光墊。本發(fā)明還涉及制得的化學(xué)機(jī)械拋光墊及其在化...

本發(fā)明提供一種拋光墊檢測裝置、系統(tǒng)及方法，該裝置包括安裝座和用于檢測待測拋光墊的形變的檢測探針組件，安裝座包括相對設(shè)置的第一安裝板、第二安裝板、以及可變長的連接支架，第一安裝板上設(shè)有用于待測拋光墊的外邊緣穿過的第一凹槽，第二安裝板上設(shè)有...

本發(fā)明提供了一種硅拋光組合物及其應(yīng)用，所述硅拋光組合物以納米二氧化硅膠體為主要拋光組分，并添加有磷酸酯鉀鹽型陰離子表面活性劑和烷基糖苷型非離子表面活性劑作為助劑。本發(fā)明的硅拋光組合物中同時添加磷酸酯鉀鹽型陰離子表面活性劑和烷基糖苷型非離...

本發(fā)明公開了一種硅片拋光組合物及其應(yīng)用，所述硅片拋光組合物以二氧化硅水溶膠及有機(jī)堿為主要拋光組分，額外添加有酯類化合物、堿金屬鹽化合物。本發(fā)明通過在硅片拋光組合物中額外加入酯類化合物、堿金屬鹽化合物，可以有效減少CMP機(jī)臺在硅片拋光過程...

本發(fā)明公開了一種多晶硅拋光組合物及其應(yīng)用，所述多晶硅拋光組合物以納米二氧化硅膠體為主要拋光組分，并添加有聚醇醚類物質(zhì)和烷基葡糖酰胺類物質(zhì)作為助劑。本發(fā)明的拋光組合物中同時添加聚醇醚類物質(zhì)和烷基葡糖酰胺類物質(zhì)作為表面活性劑，綠色低毒，在保...

本發(fā)明提供一種<100>型半導(dǎo)體級300mm單晶硅棒沿特定晶向切割的工藝方法，通過X射線晶向檢測儀對截?cái)嗪蟮膯尉Ч璋暨M(jìn)行定向測量，確定單晶硅棒徑向方向上[011]、和的晶向位置，然后在粘棒時通過劃線標(biāo)記，嚴(yán)格...

本發(fā)明提出了一種用于晶棒搬運(yùn)和硅料加裝的裝置，其包括車架；設(shè)置在所述車架上的車斗，所述車斗構(gòu)造為承載晶棒或者用于硅料的加料器；旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)用于促動所述車斗圍繞旋轉(zhuǎn)軸在水平向和豎向間旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)軸沿著水平橫向延伸并位于所述車斗...

本發(fā)明提供一種雙面拋光機(jī)驅(qū)動系統(tǒng)及雙面拋光機(jī)。雙面拋光機(jī)驅(qū)動系統(tǒng)包括：主軸，與上拋光盤連接件固定連接；主軸空心電機(jī)，其轉(zhuǎn)子與主軸固定連接，帶動主軸旋轉(zhuǎn)；第一空心軸，套設(shè)主軸，與主軸可轉(zhuǎn)動連接，且與內(nèi)齒圈固定連接；第一空心電機(jī)，套設(shè)主軸空...

本發(fā)明公開了一種適用于硅晶圓再生的拋光組合物、制備方法及其應(yīng)用，所述拋光組合物以二氧化硅水溶膠及有機(jī)堿為主要拋光組分，額外添加有三價金屬鈰鹽、金屬亞鐵鹽及有機(jī)酸穩(wěn)定劑。本發(fā)明通過在硅片拋光組合物中額外加入三價金屬鈰鹽、金屬亞鐵鹽及有機(jī)酸...

本發(fā)明提供了一種微孔聚氨酯拋光墊的制備方法、拋光墊及其應(yīng)用，所述制備方法包括以下步驟：a)將水性聚氨酯樹脂均勻涂布在緩沖層上，在烘箱中烘干，得到支撐層；b)將溶劑型聚氨酯樹脂，黑色漿，表面活性劑及氟化碳納米纖維溶于N，N

本發(fā)明公開了一種具有迷宮形凹槽的化學(xué)機(jī)械拋光墊及其應(yīng)用，所述拋光墊包括至少一拋光層，所述拋光層表面設(shè)有被隔離凸臺分隔的不連續(xù)凹槽，所述不連續(xù)凹槽包括主凹槽和副凹槽，所述主凹槽以拋光墊中心為圓心呈不連續(xù)的同心圓分布，所述副凹槽將相鄰的主凹...

本發(fā)明公開了一種具有研磨一致性終點(diǎn)檢測窗的拋光墊及其應(yīng)用，所述拋光墊包括具有拋光表面的拋光層，所述拋光層表面設(shè)有終點(diǎn)檢測窗和三種不同形式的溝槽結(jié)構(gòu)，其中，第一溝槽為拋光層表面的同心圓形圓周向溝槽；第二溝槽為圍繞窗口周圍的閉環(huán)狀溝槽；第三...

本發(fā)明公開了一種新舊拋光液含比可控的CMP拋光墊、拋光方法及其應(yīng)用，所述拋光墊的拋光層至少包含：1）在所述拋光墊徑向以折線形式相連的徑向拋光液傳送溝槽，所述徑向拋光液傳送溝槽每間隔至少4個周向同心圓溝槽角度進(jìn)行一次偏折，每次偏折后的徑向...

本發(fā)明提供一種用于硅晶圓的化學(xué)機(jī)械精拋液、制備方法及用途，所述精拋液包括以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分：5%~15%的高純硅溶膠、0.01%~0.5%的粘度調(diào)節(jié)劑、0.1%~0.5%的pH調(diào)節(jié)劑、0.001%~0.05%的表面活性劑，余量為水。本...

本發(fā)明公開了一種具有徑向微溝槽的拋光墊，所述拋光墊包括拋光層，所述拋光層具有一旋轉(zhuǎn)中心，以及與所述旋轉(zhuǎn)中心同心的拋光軌跡區(qū)和環(huán)向溝槽，所述拋光軌跡區(qū)含有徑向微溝槽，所述徑向微溝槽的取向滿足拋光時拋光介質(zhì)的流型函數(shù)。本發(fā)明的拋光墊能夠合理...

本發(fā)明提供了一種硅拋光組合物、制備方法及其應(yīng)用，所述硅拋光組合物以納米二氧化硅膠體為主要拋光組分，并添加有哌嗪類物質(zhì)和含有呋喃環(huán)的水溶性有機(jī)弱酸作為助劑。本發(fā)明的硅拋光組合物中同時添加哌嗪類物質(zhì)和含有呋喃環(huán)的水溶性有機(jī)弱酸作為穩(wěn)定性助劑...

本發(fā)明提供了一種高平坦度拋光片的制備工藝，包括如下步驟：在潔凈的待拋片背面均勻涂敷一層拋光蠟，將背面涂覆拋光蠟的待拋片貼敷在高溫陶瓷盤上，隨后進(jìn)行冷卻；對貼敷在陶瓷盤上的待拋片進(jìn)行拋光處理，分別經(jīng)歷粗拋光，中拋光，精拋光三步，得到拋光片...