本發明公開了一種快速退火爐系統用雙腔結構，屬于晶圓加工裝置領域。本發明中的腔體結構在石英腔體的上下層均設置有加熱燈，并通過單獨的燈功率控制器實現對各個燈管的功率調節及控制，采用熱襯墊輻射率獨立控制的方法，能夠更好的實現晶圓溫度均勻性控制...

本發明公開了一種圓型燈的工藝腔體結構，包括安裝于晶片加工檢測箱體內的腔體，位于腔體的頂部安裝有頂腔倉，而位于腔體底部的前側固定連通有工藝排放管，且位于腔體底部的后側固定連通有燈管排放管，工藝排放管的表面從上至下依次安裝有氧氣分析儀和自動...