薄膜掩模修正裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術提供薄膜掩模修正裝置，能夠在曝光裝置外容易且正確地修正、校正薄膜掩模與基板的局部偏差。該薄膜掩模修正裝置具有基板臺（1）、薄膜掩模基座（2）、攝像裝置（3）、加壓裝置（4）以及薄膜掩模保持架（70）。薄膜掩模基座（2）具有透明的玻璃板（20）和升降裝置（21），將玻璃板（20）重疊在基板（90）上，通過上升而將薄膜掩模（95）轉移到薄膜掩模保持架（70）。攝像裝置（3）重疊地拍攝基板（90）與薄膜掩模（95）以及基板產品圖案（92）與掩模產品圖案（97），觀測基板（90）與薄膜掩模（95）的畫面的差分。通過摩擦塊（40）進行薄膜掩模（95）的修正，薄膜掩模保持架（70）接收修正后的薄膜掩模（95）并轉移到下一個工序。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及薄膜掩模（film?mask）修正裝置。
技術介紹
光刻法已經在各種領域中得到廣泛應用，而且近年來，印刷布線基板也在使用曝光裝置進行制造，其中，所述光刻法是通過曝光裝置在涂敷了光致抗蝕劑等感光材料的基板表面上感光燒印規定的圖案，之后通過蝕刻工序在基板上形成圖案。在該印刷布線基板的曝光裝置中，作為描繪有圖案原畫的底版，多使用樹脂薄膜掩模。另一方面，對于以智能手機為代表的數字終端等，要求提高小型輕量化和高功能高性能化，與此相應地，安裝電子部件的印刷布線板也在向多層化、薄板化發展，并且向布線的高密度高精度化發展。因此，在使用了薄膜掩模的接觸式曝光裝置中，也要求比以往更高的對位精度。然而，薄膜掩模制作時的描繪偏差、薄膜掩模自身的伸縮、薄膜掩模安裝時的變形、重復進行接觸式曝光所引起的伸縮和變形、或者基板自身的伸縮和變形等因素綜合重疊在一起，經常會發生電路圖案的一部分未對準基板的下層電路圖案的問題，無法應對高對位精度的要求。因此，為了解決這樣的問題，如專利文獻1、2所示，已經提出并使用了如下的印刷布線基板用的曝光裝置：通過拉伸薄膜掩模外周部而使整個薄膜掩模彈性變形來進行對位，并在該狀態下進行曝光。但是，關于這種印刷布線基板用的曝光裝置，需要新的曝光裝置或者大幅改進已有的曝光裝置。另外，因為是使整個薄膜掩模變形的結構，因此存在無法完全應對薄膜掩模的一部分的變形的問題。目前的現狀是，使用了以往的薄膜掩模的接觸式曝光裝置的要求依然很高，且希望繼續使用已有的曝光裝置的要求也很高。專利文獻1：日本特許第3345178號專利文獻2：日本特許第3402681號因此，目前的現狀是：為了使用已有的曝光裝置來實現高精度的對位，在實際的生產現場中，作業者記住基板與薄膜掩模的對位狀態，暫時取出掩模保持架，進行錯位部分的摩擦等作業而對薄膜掩模的一部分的變形進行修正、校正。但是，在這種以往的修正、校正方法中，依賴于作業者的記憶和感覺的部分較多，此外還需要熟練性，而且在該作業中生產被中斷，因此還產生了生產性降低的問題。
技術實現思路
本專利技術的目的在于解決如上所述的以往的問題，其目的在于，提供如下這樣的薄膜掩模修正裝置：能夠在圖像中確認薄膜掩模的電路圖案與基板的電路圖案之間的局部偏差的同時，容易、正確地且不降低生產性地在曝光裝置外進行修正、校正。為了達到上述目的，本專利技術的薄膜掩模修正裝置的特征在于，包括：基板臺，其載置具有對位用的基板標記的基板；由透明體構成的薄膜掩模基座，其在所述基板臺的上方載置具有對位用的掩模標記的薄膜掩模；攝像裝置，其能夠重疊地拍攝所述基板和所述薄膜掩模；對位裝置，其通過所述攝像裝置對所述基板標記和掩模標記進行拍攝，根據該拍攝到的基板標記和掩模標記進行基板與薄膜掩模的對位；加壓裝置，其根據由所述攝像裝置拍攝到的基板和薄膜掩模，使薄膜掩模的期望位置發生變形；薄膜掩模固定裝置，其以保持由該加壓裝置實現的薄膜掩模的變形的方式，將薄膜掩模固定到所述薄膜掩模基座；以及轉移裝置，其以保持所述薄膜掩模的變形的狀態，將該薄膜掩模轉移到薄膜掩模保持架上，該薄膜掩模保持架用于保持所述薄膜掩模并安裝到曝光裝置。所述薄膜掩模修正裝置還可以具有移動裝置，該移動裝置以保持所述薄膜掩模的變形的狀態，將設有轉移來的所述薄膜掩模的薄膜掩模保持架移動到曝光裝置。另外優選為，所述薄膜掩模修正裝置還具有基板臺貼緊固定裝置，該基板臺貼緊固定裝置將所述薄膜掩模基座貼緊固定于所述基板臺，所述薄膜掩模修正裝置在將該薄膜掩模基座貼緊固定于該基板臺的狀態下，通過所述加壓裝置使薄膜掩模的期望位置發生變形。另外優選為，所述薄膜掩模修正裝置還具有掩模保持架貼緊固定裝置，該掩模保持架貼緊固定裝置將所述薄膜掩模基座貼緊固定于所述薄膜掩模保持架，所述薄膜掩模修正裝置在將該薄膜掩模基座貼緊固定于該薄膜掩模保持架的狀態下，通過所述轉移裝置轉移薄膜掩模。所述攝像裝置優選使用遠心透鏡。另外所述加壓裝置優選具有摩擦塊（rubbing?block）。根據本專利技術的薄膜掩模修正裝置，具有如下效果等：不依賴于作業者的記憶和感覺而能夠進行容易且正確的對位。另外，由于是在曝光裝置外進行修正作業，因此不用停止曝光裝置，生產性提高。另外，裝置便宜，能夠繼續使用以往的接觸式曝光裝置。附圖說明圖1是示出本專利技術的一個實施方式的概略主視圖。圖2是本專利技術的一個實施方式中的薄膜掩模固定裝置22的側視圖。圖3是本專利技術的一個實施方式中的薄膜掩模固定裝置22的俯視圖。圖4是本專利技術的一個實施方式中的薄膜掩模固定裝置71的側視圖。圖5是本專利技術的一個實施方式中的真空源切換裝置76的框圖。圖6是示出本專利技術的一個實施方式的概略側視圖。圖7是示出本專利技術的一個實施方式的動作的說明圖。圖8是示出本專利技術的一個實施方式的動作的說明圖。圖9是示出本專利技術的一個實施方式的動作的說明圖。圖10是示出本專利技術的一個實施方式的動作的說明圖。圖11是示出本專利技術的一個實施方式的動作的說明圖。圖12是示出本專利技術的一個實施方式的動作的說明圖。圖13是示出本專利技術的一個實施方式的動作的說明圖。圖14是示出本專利技術的一個實施方式的動作的說明圖。標號說明1：基板臺；2：薄膜掩模基座；3：攝像裝置；4：加壓裝置；5：轉移裝置；6：控制裝置；7：薄膜掩模保持架支承裝置；8：移動裝置；9：對位裝置；10：XYθ移動機構；11：保護膜；15：基板臺貼緊固定裝置；16：密封件；17：封閉空間；18：真空源；20：玻璃板；21：升降裝置；22：薄膜掩模固定裝置；23：吸附槽；24：真空源；25：框架；30：CCD攝像機；31：遠心透鏡；32：LED環形照明器；33：顯示器；40：摩擦塊；70：薄膜掩模保持架；71：薄膜掩模固定裝置；72：框架；73：玻璃板；74：吸附槽；75：真空源；76：真空源切換裝置；77：切換閥；78：連接器；80：移動臺車；81：真空源；82：密封件；83：真空源；84：封閉空間；85：掩模保持架貼緊固定裝置；90：基板；91：基板標記；92：基板產品圖案；95：薄膜掩模；96：掩模標記；97：掩模產品圖案。具體實施方式下面，根據附圖來說明本專利技術的實施方式。在圖1中，該薄膜掩模修正裝置具有：基板臺1、薄膜掩模基座2、攝像裝置3、加壓裝置4、轉移裝置5以及控制裝置6。該薄膜掩模修正裝置設置在印刷布線基板的曝光工藝線外。在基板本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種薄膜掩模修正裝置，其特征在于，包括：基板臺，其載置具有對位用的基板標記的基板；由透明體構成的薄膜掩模基座，其在所述基板臺的上方載置具有對位用的掩模標記的薄膜掩模；攝像裝置，其能夠重疊地拍攝所述基板和所述薄膜掩模；對位裝置，其通過所述攝像裝置對所述基板標記和掩模標記進行拍攝，根據該拍攝到的基板標記和掩模標記進行基板與薄膜掩模的對位；加壓裝置，其根據由所述攝像裝置拍攝到的基板和薄膜掩模，使薄膜掩模的期望位置發生變形；薄膜掩模固定裝置，其以保持由該加壓裝置實現的薄膜掩模的變形的方式，將薄膜掩模固定到所述薄膜掩模基座；以及轉移裝置，其以保持所述薄膜掩模的變形的狀態，將該薄膜掩模轉移到薄膜掩模保持架上，該薄膜掩模保持架用于保持所述薄膜掩模并安裝到曝光裝置。

【技術特征摘要】
2012.10.31 JP 2012-2397141.一種薄膜掩模修正裝置，其特征在于，包括：
基板臺，其載置具有對位用的基板標記的基板；
由透明體構成的薄膜掩模基座，其在所述基板臺的上方載置具有對位用的掩模標
記的薄膜掩模；
攝像裝置，其能夠重疊地拍攝所述基板和所述薄膜掩模；
對位裝置，其通過所述攝像裝置對所述基板標記和掩模標記進行拍攝，根據該拍
攝到的基板標記和掩模標記進行基板與薄膜掩模的對位；
加壓裝置，其根據由所述攝像裝置拍攝到的基板和薄膜掩模，使薄膜掩模的期望
位置發生變形；
薄膜掩模固定裝置，其以保持由該加壓裝置實現的薄膜掩模的變形的方式，將薄
膜掩模固定到所述薄膜掩模基座；以及
轉移裝置，其以保持所述薄膜掩模的變形的狀態，將該薄膜掩模轉移到薄膜掩模
保持架上，該薄膜掩模保持架用于保持所述薄膜掩模并安裝到曝光裝置。
2.根據權利要求1所述的薄膜掩模修正裝置，其特征在于，
所述薄膜掩模修正裝置還具有移動裝置，該移動裝置...

【專利技術屬性】
技術研發人員：阿部和芳，杉田健一，
申請(專利權)人：株式會社阿迪泰克工程，
類型：發明
國別省市：日本;JP