測量發光二極管模塊的光源的光軸的方法技術

本發明專利技術為一種測量發光二極管模塊的光源的光軸的方法，其中光源包含發光二極管與透鏡，該方法包含設置該發光二極管模塊于驗證位置；供電至該發光二極管；擴散發光二極管經透鏡輸出的光線；輸出擷取目標，其取自于擴散光的光源；以及依據擷取目標的中心點兩側的亮度而計算偏折點，以決定光源的光軸。本發明專利技術的測量發光二極管模塊的光源的光軸的方法，用以發光的光源包含發光二極管與透鏡，其中光源為驗證目標，可通過擴散板擷取驗證目標，然后借助擷取目標中心點兩側的亮度而測量光源的光軸。

【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本專利技術為一種，其中光源包含發光二極管與透鏡，該方法包含設置該發光二極管模塊于驗證位置；供電至該發光二極管；擴散發光二極管經透鏡輸出的光線；輸出擷取目標，其取自于擴散光的光源；以及依據擷取目標的中心點兩側的亮度而計算偏折點，以決定光源的光軸。本專利技術的，用以發光的光源包含發光二極管與透鏡，其中光源為驗證目標，可通過擴散板擷取驗證目標，然后借助擷取目標中心點兩側的亮度而測量光源的光軸。【專利說明】
本專利技術有關于一種用于測量發光二極管(light-emitting diode, LED)模塊的光軸的方法，其尤指一種用于測量發光二極管模塊光源的光軸的方法。
技術介紹
基于顯示裝置的多種需求，因而研發出多種顯示裝置，例如液晶顯示(liquidcrystal display, LCD)裝置、等離子顯不面板(plasma display panels, F1DPs)、電致發光顯不器(electro-luminescent displays, ELDs)以及真空螢光顯不器(vacuumfluorescent displays, VFDs),并得到廣泛使用。在此，液晶顯示器的液晶面板包含液晶層、薄膜晶體管(TFT)基板與彩色濾光基板，薄膜晶體管(TFT)基板與彩色濾光基板兩者相對設置，以讓液晶層位于薄膜晶體管(TFT)基板與彩色濾光基板之間，同時，液晶面板的背光單元包含發光二極管模塊，以提供光源用于影像顯示。在發光二極管模塊中，數個發光二極管為連續地排列，且因大量使用發光二極管，會導致生產成本與功率消耗受到發光二極管數量的影響而增加。因此，遂發展出發光二極管模塊使用光源與覆蓋光源的透鏡，以解決上述問題。圖1為一個發光二極管模塊10的示意圖。請參閱圖1，該發光二極管模塊10中，光源12依據規則的間隔距離而設置在一個光路11上，該光路11具有預定的長與寬。圖2為圖1的該光源12的平面視圖，以及圖3為圖2的該光源12的剖視圖。請參閱圖2與圖3，該光源12包含一個發光二極管14與用以覆蓋該發光二極管14的一個透鏡16，并將發光二極管14所發出的光一致地照射于一個預定方向。在此，透鏡16可為非球面透鏡，以擴散發光二極管14所發出的光，在圖2中，其設置為單一發光二極管14，但，也可替代設置成數個發光二極管14。在此，光源12需對準于相互匹配的發光二極管14的中心與透鏡16的中心軸(下稱光軸)。若發光二極管14的中心與透鏡16的光軸不匹配，則光源12所發出的光不能依據一個照射方向而一致地照射。因此，使用光源12的背光單元的品質可能會惡化。因此，需要針對發光二極管模塊10所包含的作為背光單元的光源12所對應的光軸的準直狀態(alignment state)進行驗證。對此，韓國專利公開案編號KR10-2011-0055992，其揭露了用于測量影像裝置的光學位置的偏心量(eccentricity)的裝置與方法，其通過一個影像單元擷取數個測量標記，并通過該些標記的影像測量出錯位。如此，由于需要顯示該些測量標記，會導致整體步驟數量增加。有鑒于此，本專利技術提出一種用于，其改善現有光軸測量方法所發生的情況。
技術實現思路
本專利技術的主要目的，是提供一種用于，其通過擴散板擷取發光二極管模塊的數個發光二極管與一個透鏡所發出的光做為驗證目標，再借助測量擷取目標的中心點兩側的亮度而測量該驗證目標的光軸狀態，同時，當轉動經過該擷取目標的中心點的測量線至預定角度時，利用測量擷取目標的整體亮度，以計算出中心點兩側的亮度比而測量光源的光軸。本專利技術采用的主要技術方案是:本專利技術的一種實施形式(aspect)為，提供一種用于，該二極管模塊為光軸測量目標，其中該光源包含至少一個發光二極管與至少一個透鏡，該方法包含:設置該發光二極管模塊于驗證位置；供應電源至發光二極管；擴散發光二極管經由透鏡所發出的光；輸出擷取目標，其取自于擴散光的光源，以及依據該擷取目標的中心點兩側的亮度計算偏折點而決定(determine，亦可翻譯為判定或確定)光源的光軸。該方法可更進一步包含移除擷取目標上的雜訊。該擴散光可借助設置擴散板于該發光二極管模塊的前面而達成。該光軸的決定步驟包含:設定測量線于該擷取目標上；測量該測量線上的亮度；顯示測量的亮度；轉動該測量線至預定角度；重新測量該測量線的亮度直到該測量線回到起始位置；重新顯示(re-displaying)測量的亮度；獲得重新顯示的亮度的斜率；當比較重新顯示的亮度的斜率與參考斜率而落入預定范圍時，決定偏折點；以及補償補償值至該光軸測量目標上。該亮度是測量于該中心點的反向(_)與正向(+)。該亮度可在像素單元中測量到。該亮度的斜率可為該亮度變化量與像素位置的微分值。該參考斜率的絕對值可從0.1至0.3。該斜率與該參考斜率可比較數次。該補償補償值的步驟包含:制備數個發光二極管為參考樣本用于取得該補償值；測量該擴散板與該數個發光二極管模塊其中一個透鏡之間的距離，其中該數個發光二極管模塊即為參考樣本；使用偏心量測量標準裝置(2維表面光源測量器)測量所述的其中一個發光二極管模塊的偏心量；在決定該光軸的期間內計算臨時補償值(temporarycompensation value)于所述的其中一個發光二極管模塊的該偏心量上；以及將該補償值補償至該發光二極管模塊的偏心量，該發光二極管模塊為該光軸測量目標；其中當該補償值所補償的偏心量為該些參考樣本的發光二極管模塊的偏心量的5%以內時，設定該臨時補償值為參考補償值并以該參考補償值補償至作為該光軸測量目標的該發光二極管模塊上；當該測量距離等于或高于誤差范圍時，具有該測量距離的該發光二極管模塊可自該光軸測量目標排除，并制備一個新的發光二極管模塊。該誤差范圍(errorrange)可為 ±100 微米(micrometer)。該方法可更進一步包含取得該測量距離與設定距離的差異以及依據該差異移動該擴散板的步驟。該計算該臨時補償值的步驟可更進一步包含依據方程式I計算該發光二極管模塊所對應的補償值，該方程式I如下:y=ax+b-(I)其中Y為補償值，a為補償增益值，X為實際測量值，以及b為第一群組與第二群組的補償偏移量。當該補償值所補償的該偏心量高于該些參考樣本的所述的其中一個發光二極管模塊的偏心量的5%時，該方法可更進一步包含:將該些參考樣本的該些發光二極管模塊分類為第一群組與第二群組；在決定該光軸的期間內，針對受測的該發光二極管模塊的偏心量計算該第一群組與該第二群組的該些發光二極管模塊的偏心量上的補償值；將該臨時補償值補償至作為該光軸測量目標的該發光二極管模塊的該偏心量上；以及當該補償值所補償的偏心量為該些參考樣本的發光二極管模塊的偏心量的5%以內時，設定該臨時補償值為參考補償值并以該參考補償值補償至作為該光軸測量目標的該發光二極管模塊上。該第一群組可包含受測量的偏心量為該偏心量測量標準裝置的測量值的100%至85%的發光二極管模塊，以及該第二群組可包含受測量的偏心量為該偏心量測量標準裝置的測量值的84%至60%的發光二極管模塊。該方法可更進一步包含依據方程式2計算對應于該第一群組的第一補償值以及對應于該第二群組的第二補償值的步驟，該方程式2如下:yl=alx+bl 以及y2=a2x+b2-(2本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種測量發光二極管模塊的光源的光軸的方法，該發光二極管模塊為光軸測量目標，該光源包含發光二極管與透鏡，其特征在于，該方法包含如下步驟:置放該發光二極管模塊于驗證位置；供電至該發光二極管；擴散該發光二極管經由該透鏡所發出的光；輸出擷取目標，該擷取目標取自于該光源的擴散光；以及依據該擷取目標中心點兩側的亮度計算偏折點，以決定該光源的光軸。

【技術特征摘要】
...

【專利技術屬性】
技術研發人員：徐承煥，趙章桓，表政澈，魏相玉，
申請(專利權)人：徐承煥，
類型：發明
國別省市：韓國;KR