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    碳化硅-鉻納米陶瓷鍍層的瓦楞輥制造技術

    技術編號:1008406 閱讀:560 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    一種碳化硅-鉻納米陶瓷鍍層的瓦楞輥,其特征在于:瓦楞輥基材的工作表面上具有0.08-0.01mm厚的碳化硅-鉻納米陶瓷鍍層,碳化硅-鉻納米陶瓷鍍層由三層構成;第一層是與瓦楞輥基材牢固結合的離子擴散層,第二層為與第一層結合的底層,最外層為與底層結合的碳化硅-鉻納米陶瓷鍍層。本實用新型專利技術與原來鍍硬鉻瓦楞輥相比的優點是耐磨性提高3.7倍,使用壽命提高了3倍以上,成本降低一半。(*該技術在2016年保護過期,可自由使用*)

    【技術實現步驟摘要】

    【技術保護點】
    一種碳化硅-鉻納米陶瓷鍍層的瓦楞輥,其特征在于:瓦楞輥基材(1)的工作表面上具有0.08-0.01mm厚的碳化硅-鉻納米陶瓷鍍層(2),碳化硅-鉻納米陶瓷鍍層由三層構成;第一層是與瓦楞輥基材牢固結合的離子擴散層(3),第二層為與第一層結合的底層(4),最外層為與底層結合的碳化硅-鉻納米陶瓷鍍層(5)。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:王昊,王永林,
    申請(專利權)人:王昊,
    類型:實用新型
    國別省市:11[中國|北京]

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