【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本專利技術提供了一種用于合金拋光的氧化鋁拋光液，包括以下質量百分含量的各組分：氧化鋁1-40%，表面活性劑聚丙烯酸0.2-1%，緩蝕劑磷酸氫二鈉0.2-2%，pH調節劑1-10%，去離子水48-97.6%，所述氧化鋁為α氧化鋁，平均粒徑為200-10000納米，所述拋光液的pH范圍優選為2-4。該拋光液用于鋁合金或不銹鋼基片拋光，能夠快速實現合金表面的平坦化。【專利說明】
本專利技術涉及手機、電腦等電子產品表面制造拋光
，具體涉及一種氧化鋁拋光液及其制備方法，所述拋光液用于合金基片的拋光處理。
技術介紹
近幾年，金屬合金在手機外殼、電腦外殼及邊框等電子產品領域中的應用越來越多。在這些應用中，金屬合金毛培一般都是先經過數字控制機床中的刀具切割成初具形狀的半成品，然后再經過幾步表面研磨拋光等加工工藝后達到鏡面效果。經過刀具切割的鋁合金表面，存在大量刀紋，即宏觀劃痕。要實現鋁合金表面的全局平坦化和鏡面效果，化學機械拋光是目前唯一可大規模生產的方法。一般來說，先經過含有硬質的大顆粒的拋光液拋光去掉刀紋，然后再經過含有軟質的小顆粒的拋光液拋光實現光澤表面。硬質的大顆粒的拋光液一般有氧化鋁拋光液和金剛石拋光液，但總會出現去除率不足或者劃傷較多的現象。
技術實現思路
為了克服現有技術的不足，本專利技術提供了一種，用于合金基片拋光，該拋光液能夠減少氧化硅的結晶，從而降低鋁合金或不銹鋼表面劃傷和劃痕。本專利技術首先公開了一種用于合金拋光的氧化鋁拋光液，包括以下質量百分含量的各組分:【權利要求】1.一種用于合金拋光的氧化鋁拋光液，其特征在于，包括...
【技術保護點】
一種用于合金拋光的氧化鋁拋光液，其特征在于，包括以下質量百分含量的各組分：所述表面活性劑為聚丙烯酸，十二烷基硫酸鈉，二苯胺磺酸鈉中的一種或其任意組合物。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：曾名輝，
申請(專利權)人：深圳市宇泰隆科技有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44
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