【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專(zhuān)利技術(shù)涉及一種物體離面位移的測(cè)量裝置及方法，尤其涉及。
技術(shù)介紹
渦旋光是具有螺旋型相位波前和相位奇點(diǎn)的光束。在傳播過(guò)程中，波前會(huì)繞著傳播方向以螺旋的方式前進(jìn)。相位奇點(diǎn)處光波的光強(qiáng)為零，而相位則不確定，且相位圍繞奇點(diǎn)沿垂直于傳播方向呈螺旋狀分布。渦旋光的相位因子含有與旋轉(zhuǎn)方位角成正比的項(xiàng)，即exp(il Θ )，其中I為渦旋光的拓?fù)浜伞Ｓ捎谛D(zhuǎn)，渦旋光束中每個(gè)光子都具有/?的軌道角動(dòng)量，因此在光學(xué)操控、信息編碼和傳輸?shù)确矫嬗袘?yīng)用的研究。將渦旋光引入干涉測(cè)量中，可以實(shí)現(xiàn)物體的離面位移的精確測(cè)量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專(zhuān)利技術(shù)提出了，該方法測(cè)量過(guò)程簡(jiǎn)單，測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確，為渦旋光的在精密測(cè)量方面的應(yīng)用開(kāi)辟了新的途徑。為 了實(shí)現(xiàn)上述目的，本專(zhuān)利技術(shù)采用如下技術(shù)方案:一種利用渦旋光測(cè)量離面位移的系統(tǒng)，包括:由激光器發(fā)出的光經(jīng)半透半反鏡一后分為兩束，一束光經(jīng)過(guò)空間光調(diào)制器一后成為渦旋光，以所述渦旋光作為參考光；另一束光經(jīng)擴(kuò)束鏡一照射到被測(cè)物體上產(chǎn)生物光；所述渦旋光依次經(jīng)帶有PZT的相移器、擴(kuò)束鏡二后照射到半透半反鏡二形成反射光，物光經(jīng)半透半反鏡二后形成透射光，所述物光和參考光經(jīng)半透半反鏡二后在CCD攝像機(jī)靶面上形成干涉圖像，將CCD攝像機(jī)接入計(jì)算機(jī)，對(duì)干涉圖像進(jìn)行處理。一種利用渦旋光測(cè)量離面位移的系統(tǒng)，包括:由激光器發(fā)出的光經(jīng)半透半反鏡一后分為兩束，一束光經(jīng)過(guò)空間光調(diào)制器一后成為渦旋光一，以所述渦旋光一作為參考光?’另一束光經(jīng)空間光調(diào)制器二形成渦旋光二，所述渦旋光二經(jīng)擴(kuò)束鏡一照射到被測(cè)物體上產(chǎn)生物光；渦旋光一依次經(jīng)帶有PZT的相移器、擴(kuò)束鏡二后照射到半透半反鏡...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種利用渦旋光測(cè)量離面位移的系統(tǒng)，其特征是，包括：由激光器發(fā)出的光經(jīng)半透半反鏡一后分為兩束，一束光經(jīng)過(guò)空間光調(diào)制器一后成為渦旋光，以所述渦旋光作為參考光；另一束光經(jīng)擴(kuò)束鏡一照射到被測(cè)物體上產(chǎn)生物光；所述渦旋光依次經(jīng)帶有PZT的相移器、擴(kuò)束鏡二后照射到半透半反鏡二形成反射光，物光經(jīng)半透半反鏡二后形成透射光，所述物光和參考光經(jīng)半透半反鏡二后在CCD攝像機(jī)靶面上形成干涉圖像，將CCD攝像機(jī)接入計(jì)算機(jī)，對(duì)干涉圖像進(jìn)行處理。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種利用渦旋光測(cè)量離面位移的系統(tǒng)，其特征是，包括:由激光器發(fā)出的光經(jīng)半透半反鏡一后分為兩束，一束光經(jīng)過(guò)空間光調(diào)制器一后成為渦旋光，以所述渦旋光作為參考光；另一束光經(jīng)擴(kuò)束鏡一照射到被測(cè)物體上產(chǎn)生物光；所述渦旋光依次經(jīng)帶有PZT的相移器、擴(kuò)束鏡二后照射到半透半反鏡二形成反射光，物光經(jīng)半透半反鏡二后形成透射光，所述物光和參考光經(jīng)半透半反鏡二后在CXD攝像機(jī)靶面上形成干涉圖像，將CXD攝像機(jī)接入計(jì)算機(jī)，對(duì)干涉圖像進(jìn)行處理。2.一種利用渦旋光測(cè)量離面位移的系統(tǒng)，其特征是，包括:由激光器發(fā)出的光經(jīng)半透半反鏡一后分為兩束，一束光經(jīng)過(guò)空間光調(diào)制器一后成為渦旋光一，以所述渦旋光一作為參考光；另一束光經(jīng)空間光調(diào)制器二形成渦旋光二，所述渦旋光二經(jīng)擴(kuò)束鏡一照射到被測(cè)物體上產(chǎn)生物光；渦旋光一依次經(jīng)帶有PZT的相移器、擴(kuò)束鏡二后照射到半透半反鏡二形成反射光，物光經(jīng)半透半反鏡二后形成透射光，所述物光和參考光經(jīng)半透半反鏡二后在CXD攝像機(jī)靶面上形成干涉圖像，將CCD攝像機(jī)接入計(jì)算機(jī)，對(duì)干涉圖像進(jìn)行處理。3.—種如權(quán)利要求1或2所述的利用渦旋光測(cè)量離面位移的方法，其特征是，包括:以渦旋光作為參考光，根據(jù)渦旋參考光和物光得到被測(cè)物體的干涉圖像，利用相移計(jì)算方法計(jì)算得到物體變形前的圖像相位一；加載使被測(cè)物體變形，仍以渦旋光作為參考光，根據(jù)渦旋參考光和物光得到被測(cè)物體變形后的干涉圖像，利用相移計(jì)算方法計(jì)算所述變形后的圖像相位二 ；由相位一和相位二計(jì)算得到被測(cè)物體變形的離面位移分量。4.如權(quán)...
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：孫平，孫海濱，李興龍，李峰，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：山東師范大學(xué)，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：山東;37
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