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    真空分離器上使用的反應(yīng)架制造技術(shù)

    技術(shù)編號:10344641 閱讀:136 留言:0更新日期:2014-08-21 16:43
    本實用新型專利技術(shù)公開了一種真空分離器上使用的反應(yīng)架,包括水平設(shè)置在真空罐內(nèi)橫截面上的支撐板和設(shè)置在支撐板上的三層反應(yīng)環(huán);下一層上的反應(yīng)環(huán)與上一層上的反應(yīng)環(huán)相互錯位設(shè)置;支撐板上均布數(shù)個豎直設(shè)置通孔,反應(yīng)環(huán)由一鐵片圍成的圓環(huán)和鐵片的一端向內(nèi)彎折形成的折臂組成,反應(yīng)環(huán)豎直設(shè)置,圓環(huán)和折臂的厚度為1~1.2mm。高溫油液進(jìn)入真空分離器的霧化器內(nèi),通過霧化器油液先形成霧狀,再形成膜狀,油霧在下落的過程中附注在反應(yīng)環(huán)和支撐板上,使其在真空中的接觸面積擴(kuò)大為原來的近百倍;油中所含的水分在高熱、高真空度、大表面、高抽速的條件下得到快速汽化并由真空系統(tǒng)排出,汽化效果大大提高,脫水、脫氣效率為原來的十倍左右。(*該技術(shù)在2023年保護(hù)過期,可自由使用*)

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
    真空分離器上使用的反應(yīng)架
    本技術(shù)涉及一種濾油機(jī)上使用的真空分離器,尤其涉及一種真空分離器上使用的反應(yīng)架。
    技術(shù)介紹
    由于現(xiàn)有的火力、水力、核力、燃?xì)狻⒂酂岚l(fā)電、化工、造紙、冶金等設(shè)備系統(tǒng)時有發(fā)生滲漏、密封不嚴(yán)、油液長期處于熱負(fù)荷、開放式儲油等現(xiàn)象,空氣中的水分、氣體滲入油液中,導(dǎo)致油中含水、氣體。因此,常采用濾油機(jī)來實現(xiàn)在線過濾凈化,使運行中的油品尚未劣化就得到及時凈化處理,能快速、高效的脫出油中的水分、氣體和雜質(zhì)。使運行的油品各項指標(biāo)滿足國家標(biāo)準(zhǔn),保證機(jī)組的調(diào)節(jié)系統(tǒng)、潤滑系統(tǒng)正常工作。真空分離器是濾油機(jī)的一個重要的組成部分,而反應(yīng)架又是真空分離器的一個核心部件。現(xiàn)有技術(shù)中,反應(yīng)架主要是一水平設(shè)置在真空罐內(nèi)橫截面上的支撐板,支撐板上開有多個豎直設(shè)置的通孔。高溫油液進(jìn)入真空分離器的霧化器內(nèi),通過霧化器油液先形成霧狀,再形成膜狀,油霧在下落的過程中附注在支撐板,油中所含的水分在高熱、高真空度下,快速汽化并由真空系統(tǒng)排出;這種結(jié)構(gòu)的反應(yīng)架,油霧附注面積小,汽化效果差,脫水、脫氣效率不高。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足,本技術(shù)提供了一種快速汽化,脫水、脫氣效率更高的真空分離器上使用的反應(yīng)架。為了解決上述技術(shù)問題,本技術(shù)采用了如下技術(shù)方案:真空分離器上使用的反應(yīng)架,包括水平設(shè)置在真空罐內(nèi)橫截面上的支撐板和設(shè)置在支撐板上的三層反應(yīng)環(huán);下一層上的反應(yīng)環(huán)與上一層上的反應(yīng)環(huán)相互錯位設(shè)置;所述支撐板上均布數(shù)個豎直設(shè)置通孔,通孔的孔徑為1.6?1.8mm,支撐板上相鄰?fù)字g的距離為4?4.5mm ;所述反應(yīng)環(huán)由一鐵片圍成的圓環(huán)和鐵片的一端向內(nèi)彎折形成的折臂組成,所述圓環(huán)的外徑為26?28mm ;所述反應(yīng)環(huán)豎直設(shè)置,下一層上的反應(yīng)環(huán)的內(nèi)孔與上一層上相鄰的反應(yīng)環(huán)的內(nèi)孔連通。作為本技術(shù)的一種優(yōu)選方案,所述圓環(huán)和折臂的厚度為I?1.2_。本技術(shù)的有益效果是:在支撐板上設(shè)置三層反應(yīng)環(huán),下一層上的反應(yīng)環(huán)與上一層上的反應(yīng)環(huán)相互錯位設(shè)置,高溫油液進(jìn)入真空分離器的霧化器內(nèi),通過霧化器油液先形成霧狀,再形成膜狀,油霧在下落的過程中附注在反應(yīng)環(huán)和支撐板上,使其在真空中的接觸面積擴(kuò)大為原來的近百倍;油中所含的水分在高熱、高真空度、大表面、高抽速的條件下得到快速汽化并由真空系統(tǒng)排出,汽化效果大大提高,脫水、脫氣效率為原來的十倍左右。【附圖說明】圖1為真空分離器上使用的反應(yīng)架的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為反應(yīng)架的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖中:1 一支撐板;2—反應(yīng)環(huán);21—圓環(huán);22—折臂;3—通孔;4一真空罐。【具體實施方式】下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本技術(shù)作進(jìn)一步詳細(xì)地描述。如圖1所示,真空分離器上使用的反應(yīng)架,包括水平設(shè)置在真空罐4內(nèi)橫截面上的支撐板I和設(shè)置在支撐板I上的三層反應(yīng)環(huán)2。下一層上的反應(yīng)環(huán)與上一層上的反應(yīng)環(huán)相互錯位設(shè)置。其中,反應(yīng)環(huán)的結(jié)構(gòu)如圖2所示,反應(yīng)環(huán)2由一鐵片圍成的圓環(huán)21和鐵片的一端向內(nèi)彎折形成的折臂22組成,圓環(huán)21的外徑為26?28mm。反應(yīng)環(huán)2豎直設(shè)置,下一層上的反應(yīng)環(huán)的內(nèi)孔與上一層上相鄰的反應(yīng)環(huán)的內(nèi)孔連通。圓環(huán)21和折臂22的厚度為I?1.2mm。厚度為I?1.2mm、且外徑為26?28mm的反應(yīng)環(huán)既質(zhì)量輕,又與油霧的接觸面積大。該反應(yīng)環(huán)采用直接放置的方式安裝在支撐板I上,下一層上的反應(yīng)環(huán)的內(nèi)孔與上一層上相鄰的反應(yīng)環(huán)的內(nèi)孔連通,既有利于油霧和油霧氣化后的水分、氣體對流,又方便安裝。支撐板I上均布數(shù)個豎直設(shè)置通孔3,通孔3的孔徑為1.6?1.8mm,支撐板I上相鄰?fù)?之間的距離為4?4.5_。經(jīng)測試,這種通孔的布置方式,既滿足油霧和油霧氣化后的水分、氣體對流,又具有足夠的支撐強度。使用該真空分離器上使用的反應(yīng)架時,將支撐板I設(shè)置在真空罐4內(nèi)的橫截面上,支撐板I上的反應(yīng)環(huán)2位于霧化器的正下方,高溫油液進(jìn)入真空分離器的霧化器內(nèi),通過霧化器油液先形成霧狀,再形成膜狀,油霧在下落的過程中附注在反應(yīng)環(huán)2和支撐板I上,使其在真空中的接觸面積擴(kuò)大為原來的近百倍;油中所含的水分在高熱、高真空度、大表面、高抽速的條件下得到快速汽化并由真空系統(tǒng)排出,汽化效果大大提高,脫水、脫氣效率為原來的十倍左右。經(jīng)脫水、脫氣后的油液再經(jīng)排油泵泵入二級過濾器內(nèi)濾除油液中的細(xì)微顆權(quán)雜質(zhì)。最后說明的是,以上實施例僅用以說明本技術(shù)的技術(shù)方案而非限制,盡管參照較佳實施例對本技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,可以對本技術(shù)的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,而不脫離本技術(shù)技術(shù)方案的宗旨和范圍,其均應(yīng)涵蓋在本技術(shù)的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點】
    真空分離器上使用的反應(yīng)架,其特征在于:包括水平設(shè)置在真空罐內(nèi)橫截面上的支撐板(1)和設(shè)置在支撐板(1)上的三層反應(yīng)環(huán)(2);下一層上的反應(yīng)環(huán)與上一層上的反應(yīng)環(huán)相互錯位設(shè)置;所述支撐板(1)上均布數(shù)個豎直設(shè)置通孔(3),通孔(3)的孔徑為1.6~1.8mm,支撐板(1)上相鄰?fù)祝?)之間的距離為4~4.5mm;所述反應(yīng)環(huán)(2)由一鐵片圍成的圓環(huán)(21)和鐵片的一端向內(nèi)彎折形成的折臂(22)組成,所述圓環(huán)(21)的外徑為26~28mm;所述反應(yīng)環(huán)(2)豎直設(shè)置,下一層上的反應(yīng)環(huán)的內(nèi)孔與上一層上相鄰的反應(yīng)環(huán)的內(nèi)孔連通。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.真空分離器上使用的反應(yīng)架,其特征在于:包括水平設(shè)置在真空罐內(nèi)橫截面上的支撐板(I)和設(shè)置在支撐板(I)上的三層反應(yīng)環(huán)(2);下一層上的反應(yīng)環(huán)與上一層上的反應(yīng)環(huán)相互錯位設(shè)置; 所述支撐板(I)上均布數(shù)個豎直設(shè)置通孔(3),通孔(3)的孔徑為1.6?1.8_,支撐板Cl)上相鄰?fù)?3)之間的距離為4?4.5mm ; 所...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:張庭華
    申請(專利權(quán))人:重慶駿然機(jī)電有限公司
    類型:新型
    國別省市:重慶;85

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