一種多晶硅還原爐底盤和尾氣冷卻系統及其方法技術方案

本發明專利技術公開了一種多晶硅還原爐底盤和尾氣冷卻系統及其方法，涉及改良西門子法多晶硅還原爐和硅烷CVD法多晶硅還原爐底盤和尾氣冷卻工藝設備領域。本發明專利技術包括還原爐底盤冷卻結構和尾氣冷卻結構，所述還原爐底盤冷卻結構與尾氣冷卻結構之間通過法蘭連接；所述尾氣冷卻結構包括尾氣冷卻水入口、尾氣冷卻水出口管和尾氣排氣管；本發明專利技術將底盤冷卻和尾氣冷卻采用不同的溫度的冷卻水，進而將還原爐底盤下的冷卻結構進行改變，改變后的冷卻結構，能夠充分利用尾氣中的熱量副產水蒸氣，增加效益，不造成熱量的浪費。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種多晶硅還原爐底盤和尾氣冷卻系統，其特征在于：包括還原爐底盤冷卻結構和尾氣冷卻結構，所述還原爐底盤冷卻結構與尾氣冷卻結構之間通過法蘭連接；所述尾氣冷卻結構包括尾氣冷卻水入口、尾氣冷卻水出口管和尾氣排氣管，所述尾氣排氣管上設置有夾層套管，所述尾氣冷卻水入口設置在尾氣排氣管下端的夾層套管上，所述尾氣冷卻水出口管設置在尾氣排氣管上端，且與尾氣排氣管上的夾層套管連通。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：馮德志，周奇，李斌，甘居富，
申請(專利權)人：四川永祥多晶硅有限公司，
類型：發明
國別省市：四川;51