【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
大體上,本專利技術涉及光學器件。尤其地,但并非排它地,本專利技術涉及用于確定目標對象的地形的光學測量。
技術介紹
已經證實,在很多情況下,難以測量與各種對象相關的高曲率表面的地形。傳統的光學方法限于平面。對于小型平面,例如,可使用干涉儀,但是干涉儀昂貴、速度慢并且提供的精度不可接受。包括與目標對象進行物理接觸的不同方法通常冗長,提供較差的水平分辨率,甚至在進行分析時劃傷或損壞可能精致的表面。根據通常使用的逐點掃描方法,這種缺點相當容易理解。替換的基于機器視覺的設置也運行不太好,尤其是對于光滑的表面。至少可以說,實際上通常需要高曲率的光滑對象的形狀測量。目前,例如,在明亮的照明中使用外觀檢查,手動進行光滑的對象的質量控制。這種檢查的結果高度取決于特定的負責檢查人員的專業知識,并且還隨著時間和制造工藝本身變化。使用人工檢查,僅僅可獲得相當模糊的定性結果;更具有特征地,或者至少更確切地說,表示缺陷或3d形狀的數值實際上依然是秘密。然而,很多光滑的產品被視為高質量或‘高端’產品,因此,在其制造期間或者緊接在制造之后,應優選地識別甚至很小的缺陷。跟蹤光滑表面的一種光學方法是基于使用平板數字顯示器(例如,TFT顯示器)和照相機。顯示器可被設置為顯示條紋圖案,并且照相機可觀察通過測試表面反射的圖案。然后,關于在原始和反射版本之間的圖案的相變的分析可相當精確地并且在總體的執行時間顯示表面的斜率,但是對象的最大適用曲率相當有限,即,為了獲得適當精度的綜合分析結果,對象依然應當比較平坦。
技術實現思路
目標在于,至少緩解一個或多個上述問題并且提供一種用于測量可選地具 ...
【技術保護點】
一種用于光學測量可選的光滑目標對象(106,206)的表面的設備(101,201,601),測量例如表面形狀和/或相關的表面缺陷,所述設備包括:漫射半透明照明結構(102,202,302),其限定空心表面形狀,優選彎曲表面形狀,所述漫射半透明照明結構被配置為至少部分包圍所述目標對象,優選地至少大致半球狀地包圍所述目標對象,所述表面進一步配備有優選大致針孔狀并且可選地配備有透鏡的至少兩個光圈(212,712),若干光源(208),光學耦合至所述照明結構,用于通過所述照明結構的所述表面照亮所述目標對象,至少兩個成像裝置(104,204),均被配置為通過所述至少兩個光圈中的一個光圈對所述目標對象成像,以及控制實體(210),被配置為指示所述若干光源在所述照明結構的所述表面上形成預定的照明圖案的圖像序列,以便使用通過所述表面投射的所述圖案照亮所述目標對象,指示所述至少兩個成像裝置獲得所述目標對象的相對于每個照明圖案的圖像,并且通過利用所利用的所述圖案以及所獲得的圖像,獲得所述目標對象的預定的與表面相關的性能。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2012.01.05 FI 201250141.一種用于光學測量可選的光滑目標對象(106,206)的表面的設備(101,201,601),測量例如表面形狀和/或相關的表面缺陷,所述設備包括: 漫射半透明照明結構(102,202,302),其限定空心表面形狀,優選彎曲表面形狀,所述漫射半透明照明結構被配置為至少部分包圍所述目標對象,優選地至少大致半球狀地包圍所述目標對象,所述表面進一步配備有優選大致針孔狀并且可選地配備有透鏡的至少兩個光圈(212,712), 若干光源(208),光學耦合至所述照明結構,用于通過所述照明結構的所述表面照亮所述目標對象, 至少兩個成像裝置(104,204),均被配置為通過所述至少兩個光圈中的一個光圈對所述目標對象成像,以及 控制實體(210),被配置為指示所述若干光源在所述照明結構的所述表面上形成預定的照明圖案的圖像序列,以便使用通過所述表面投射的所述圖案照亮所述目標對象,指示所述至少兩個成像裝置獲得所述目標對象的相對于每個照明圖案的圖像,并且通過利用所利用的所述圖案以及所獲得的圖像,獲得所述目標對象的預定的與表面相關的性能。2.根據權利要求1所述的設備,被配置為應用多個圖像的圖像數據,通過確定包括兩個成像裝置(104,204)中的每一個的成像元素的成像元素對(404,405),確定所述目標對象的表面元素(406)的位置和/或方向,其中所述成像元素對例如為像素對,其中,鑒于所述照明結構的兩個發射光表面位置(408,409)以及從目標對象的表面元素反射的相關光線,所述表面元素相對于這兩個成像元素成鏡像角。3.根據權利要求2所 述的設備,被配置為基于在所述成像元素對確定期間發現的所述鏡像角來確定所述表面兀素(406)的方向(406a)。4.根據權利要求2或3所述的設備,被配置為基于所述成像元素對和關于所述兩個成像裝置之間的不同成像元素的關系的校準信息,確定所述目標對象的所述表面元素(406)的位置,所述信息優選地指示關于所述成像裝置的所述成像元素之間的諸如交叉位置的潛在光線交叉點的知識,任選地指示關于交叉點與如同所述成像裝置的多個參考點相距的距離的知識。5.根據前述權利要求中任一項所述的設備,被配置為 基于所獲得的多個圖像的圖像數據,為第一成像裝置的諸如像素的第一成像元素(404)確定所述照明結構的匹配的第一發射光表面位置(408),所述匹配的第一發射光表面位置通過所述目標對象的實際的鏡像表面元素(406)將光提供給所述第一成像元素, 通過利用所述第一成像元素和所述照明結構的相關的第一光圈確定第一線路(410),所述第一線路限定多個潛在的表面元素,每個所述潛在的表面元素具有確定的方向(406a)并且相對于所述第一表面位置和所述第一成像元素成鏡像角,所述多個潛在的表面元素還包含所述實際的鏡像表面元素(406), 基于所獲得的多個圖像的圖像數據,通過所述照明結構的匹配的第二發射光表面位置(409),確定第二成像裝置的諸如像素的第二成像元素(405),其中,所述第二成像元素和所述照明結構的相關的第二光圈限定第二線路,所述第二線路與所述第一線路在所述多個潛在的表面元素中的一個潛在的表面元素有交叉點,所述第二線路還相對于所述第二表面位置和所述第二成像元素成鏡像角,因此,所述多個潛在的表面元件中的所述一個潛在的表面元素表示包括其方向的所述實際的鏡像表面元素,以及 利用與所述設備有關的所述成像裝置的所述第一成像元素、第二成像元素以及相關的相互校準信息,確定所述實際的鏡像表面元素(406)的位置。6.根據前述權利要求中任一項所述的設備,其中,至少一個成像裝置包括諸如基于CMOS (互補金屬氧化物半導體)或CCD(電荷耦合裝置)技術的照相機的照相機。7.根據前述權利要求中任一項所述的設備,其中,至少一個光源包括LED(發光二極管)芯片、LED封裝或諸如OLED (有機LED)的其他基于LED的或與LED相關的光源。8.根據前述權利要求中...
【專利技術屬性】
技術研發人員:海莫·凱雷寧,彼得里·萊赫托寧,
申請(專利權)人:合歐米成像公司,
類型:發明
國別省市:芬蘭;FI
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