本實用新型專利技術涉及一種化學反應裝置,尤其涉及一種薄液膜電解池,包括探針,千分尺,電解池本體,萬用表,水平臺,蓋板,工作電極,對比電極,參比電極,支柱,所述探針與所述千分尺導電相連,所述萬用表連接千分尺與工作電極,電解池本體位于水平臺與蓋板之間,電解池本體具有凸沿,水平臺與蓋板分別具有與凸沿配合的凹槽,實現電解池本體的密封固定;所述水平臺上設有工作電極槽,槽中鑲嵌工作電極,位于探針垂直方向的正下方。本實用新型專利技術的有益效果在于:1、電解池蓋上設有固定球,可實現電解池反應時的固定安裝,使用時更加方便安全;2、能夠實現檢測薄液膜的厚度,讀數精確到0.001mm;3、設備反應靈敏,檢測結果精確。(*該技術在2024年保護過期,可自由使用*)
【技術實現步驟摘要】
薄液膜電解池
本技術涉及一種化學反應裝置,尤其涉及一種薄液膜電解池。
技術介紹
直流電通過電解質溶液(或熔融液)而發生氧化還原反應的過程叫做電解。借助 于電流引起氧化還原反應的裝置,也就是將電能轉變為化學能的裝置稱為電解池(或電解 槽)。電解池主要應用于工業制純度高的金屬。在電化學研究過程中,有時需要測量薄液膜 的厚度,當薄液膜的厚度達到毫米級別時,依靠手工測量不能滿足精度需要,目前市場上的 電解池產品尚不能實現此功能。
技術實現思路
為解決上述技術問題,本技術提供一種薄液膜電解池,該電解池能夠測量導 電液體的薄液膜厚度,靈敏度較高。 一種薄液膜電解池,包括探針,千分尺,電解池本體,萬用表,水平臺,蓋板,工作電 極,對比電極,參比電極,支柱,所述探針與所述千分尺導電相連,所述萬用表連接千分尺與 工作電極,電解池本體位于水平臺與蓋板之間,電解池本體具有凸沿,水平臺與蓋板分別具 有與凸沿配合的凹槽,實現電解池本體的密封固定;所述水平臺上設有工作電極槽,槽中鑲 嵌工作電極,位于探針垂直方向的正下方。 其中,所述水平臺為可調節式水平臺,支柱兩端具有螺旋部,支柱上端高于蓋板, 由螺帽固定于蓋板上,支柱下端穿過水平臺,自下向上依次設置支腳,螺母A,螺旋部,螺母 B,螺母C,其中,所述支腳,螺母A,螺旋部,螺母B,螺母C均位于水平臺下方。 其中,蓋板上可以安裝水平儀,用于檢測電解池是否水平放置。 其中,所述探針優選鉬針。 其中,所述探針與所述千分尺導電相連,具體為所述探針與千分尺之間安裝導電 彈簧,銅塊,所述千分尺、導電彈簧、銅塊、探針外側周圍增設保護套,防止裝置腐蝕;探針延 伸至保護套外側,所述導電彈簧優選鍍金材質。 其中,所述參比電極優選魯金毛細管。 其中,所述支柱數量優選4個。 其中,所述水平臺上設置有與支柱配合的安裝孔,用于穿過支柱;所述蓋板上設置 有與支柱配合的安裝孔,用于穿過支柱。 本技術作為電解池工作時,電解池內放置需要反應的樣品,將電源正負極分 別連接工作電極和對比電極,完成反應。 作為檢測薄液膜厚度的裝置工作時:反應結束后,放出反應過程中多余的液體,檢 測工作電極槽中殘留的薄液膜厚度。本技術優選千分尺測量精度為0. ooimm,旋轉千分 尺使探針慢慢靠近工作電極。當探針接觸到工作電極表面時,萬用表的指針偏轉,此時停止 旋轉并記錄千分尺的讀數。然后反向旋轉千分尺,使探針遠離工作電極,然后向電解池內的 工作電極槽中注入待測溶液,使工作電極表面形成一層薄液膜,再次旋轉千分尺使探針靠 近電極,當探針接觸到溶液表面時,萬用表的指針同樣會發生偏轉,停止旋轉并記錄此時千 分尺的讀數。千分尺上的兩次讀數相減就得到待測薄液膜厚度。 本技術的有益效果在于:1、電解池蓋上設有固定球,可實現電解池反應時的 固定安裝,使用時更加方便安全;2、能夠實現檢測薄液膜的厚度,讀數精確到0.001mm ;3、 設備反應靈敏,檢測結果精確。 【附圖說明】 圖1為本技術電解池蓋結構示意圖; 圖2為本技術水平臺俯視結構示意圖; 圖3為本技術水平臺結構示意圖; 圖4為本技術蓋板仰視結構示意圖; 圖5為本技術電解池本體的剖面圖; 圖6為本技術千分尺及探針部分剖面圖。 【具體實施方式】 下面結合具體實施例對本技術作進一步詳細說明,給出的實施例僅為了闡明 本技術,而不是為了限制本技術的范圍。 1-探針,11-導電彈簧,12-銅塊,13-保護套,2-電解池本體,21-凸沿,3-千分尺, 4-萬用表,5-水平臺,51-凹槽,52-工作電極槽,6-蓋板,61-安裝孔,7-工作電極,71-對 比電極,8-支柱,81-螺旋部,82-螺帽,83-支腳,84-螺母A,85-螺母B,86-螺母C,9-參比 電極,10-水平儀。 實施例1 : 一種薄液膜電解池,包括探針1,千分尺3,電解池本體2,萬用表4,水平臺5,蓋板 6,工作電極7,對比電極71,參比電極9,支柱8,探針1與千分尺3導電相連,具體為所述探 針1與千分尺13之間安裝導電彈簧11,銅塊12,千分尺3、導電彈簧11、銅塊12、探針1外 側周圍增設保護套13,防止裝置腐蝕;探針1延伸至保護套13外側。 萬用表4連接千分尺3與工作電極7,電解池本體2位于水平臺5與蓋板6之間, 電解池本體2具有凸沿21,水平臺5與蓋板6分別具有與凸沿21配合的凹槽51,實現電解 池本體2的密封固定;水平臺5上設有工作電極槽52,槽中鑲嵌工作電極7位于探針1垂 直方向的正下方。 水平臺5為可調節式水平臺,支柱兩端具有螺旋部81,支柱8上端高于蓋板6,由 螺帽82固定于蓋板6上,支柱8下端穿過水平臺5,自下向上依次設置支腳83,螺母A84,螺 旋部81,螺母B85,螺母C86,位于水平臺下方。蓋板6上可以安裝水平儀10。 探針1優選鉬針。探針1與千分尺3導電相連,參比電極9優選魯金毛細管。支 柱8數量優選4個。水平臺5上設置有與支柱8配合的安裝孔61,用于穿過支柱8 ;蓋板6 上設置有與支柱8配合的安裝孔61,用于穿過支柱8。 以上通過實施例對本技術進行了詳細說明,但所述內容僅為本技術的較 佳實施例,利用本技術所述的技術方案,或本領域的技術人員在本技術技術方案 的啟發下,設計出類似的技術方案,而達到上述技術效果的,均是落入本技術的保護范 圍。本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種薄液膜電解池,包括探針,千分尺,電解池本體,萬用表,水平臺,蓋板,工作電極,對比電極,參比電極,支柱,其特征在于,所述探針與所述千分尺導電相連,所述萬用表連接千分尺與工作電極,電解池本體位于水平臺與蓋板之間,電解池本體具有凸沿,水平臺與蓋板分別具有與凸沿配合的凹槽,實現電解池本體的密封固定;所述水平臺上設有工作電極槽,槽中鑲嵌工作電極,位于探針垂直方向的正下方。
【技術特征摘要】
1. 一種薄液膜電解池,包括探針,千分尺,電解池本體,萬用表,水平臺,蓋板,工作電 極,對比電極,參比電極,支柱,其特征在于,所述探針與所述千分尺導電相連,所述萬用表 連接千分尺與工作電極,電解池本體位于水平臺與蓋板之間,電解池本體具有凸沿,水平臺 與蓋板分別具有與凸沿配合的凹槽,實現電解池本體的密封固定;所述水平臺上設有工作 電極槽,槽中鑲嵌工作電極,位于探針垂直方向的正下方。2. 根據權利要求1所述的薄液膜電解池,其特征在于,所述水平臺為可調節式水平臺, 支柱兩端具有螺旋部,支柱上端高于蓋板,由螺帽固定于蓋板上,支柱下端穿過水平臺,自 下向上依次設置支腳,螺母A,螺旋部,螺母B,螺母C,其中,所述支腳,螺母A,螺旋部,螺母 B,螺母C均位于水平臺下方。3. 根據權利要求1所述的薄液膜電解池,其特征在于,...
【專利技術屬性】
技術研發人員:王學彬,
申請(專利權)人:天津市高仕睿聯科技有限公司,
類型:新型
國別省市:天津;12
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