本實用新型專利技術(shù)為一種可控振幅小口徑非球面拋光裝置,該裝置的組成包括拋光頭、磁致伸縮主體元件和底座;拋光頭通過軸與磁致伸縮元件的孔進行過盈配合,磁致伸縮元件通過四個磁致伸縮細(xì)棒構(gòu)成的十字凹槽與底座的十字凸臺進行過盈配合;所述的磁致伸縮主體元件的材質(zhì)為鎵磁致伸縮材料Fe83Ga17,其底部通過線切割開出十字凹槽,十字凹槽的四邊成為四根磁致伸縮細(xì)棒;頂部設(shè)置有開孔,直徑與拋光頭的軸匹配;每根磁致伸縮細(xì)棒上分別繞上線圈。本實用新型專利技術(shù)具有體積小、結(jié)構(gòu)簡單、使用方便等優(yōu)點,可以在小零件上進行拋光作業(yè),在加工不同材料和不同形狀的零件時,不需要更換拋光頭。(*該技術(shù)在2024年保護過期,可自由使用*)
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【專利摘要】本技術(shù)為一種可控振幅小口徑非球面拋光裝置,該裝置的組成包括拋光頭、磁致伸縮主體元件和底座;拋光頭通過軸與磁致伸縮元件的孔進行過盈配合,磁致伸縮元件通過四個磁致伸縮細(xì)棒構(gòu)成的十字凹槽與底座的十字凸臺進行過盈配合;所述的磁致伸縮主體元件的材質(zhì)為鎵磁致伸縮材料Fe83Ga17,其底部通過線切割開出十字凹槽,十字凹槽的四邊成為四根磁致伸縮細(xì)棒;頂部設(shè)置有開孔,直徑與拋光頭的軸匹配;每根磁致伸縮細(xì)棒上分別繞上線圈。本技術(shù)具有體積小、結(jié)構(gòu)簡單、使用方便等優(yōu)點,可以在小零件上進行拋光作業(yè),在加工不同材料和不同形狀的零件時,不需要更換拋光頭。【專利說明】-種可控振幅的小口徑非球面拋光裝置
本技術(shù)涉及一種新型拋光裝置,特別涉及小口徑非球面的拋光裝置,核心部 分為一種由鐵鎵磁致伸縮材料制作的振動元件。該拋光裝置利用鐵鎵合金的磁致伸縮特 性,可在拋光裝置的振動端輸出振動,為小口徑非球面零件提供高效率和高質(zhì)量的拋光加 工。 技術(shù)背景 小口徑非球面零件是一種非常重要的產(chǎn)品構(gòu)件,例如在光學(xué)等系統(tǒng)中使用小口徑 非球面零件能夠改善成像質(zhì)量,提高儀器的光學(xué)性能,減少光學(xué)零件的數(shù)目,從而簡化儀器 結(jié)構(gòu),減輕儀器重量和降低生產(chǎn)成本。隨著光電通訊、生物工程、航空航天產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展, 小口徑非球面零件的需求急劇增長。 小口徑非球面的表面質(zhì)量不僅要求達到納米級的表面粗糙度,而且要求有亞微米 級的形狀精度和極小的亞表面損傷。另外小口徑非球面的加工空間較小,加工工具很難對 其進行加工。目前,小口徑非球面加工采用單點金剛石的超精密車削和樹脂結(jié)合劑微粉砂 輪的超精密磨削加工方法。超精密的車削和磨削加工不可避免地會在零件表面形成加工紋 路和表面缺陷層,這些表面質(zhì)量缺陷會直接影響到零件的性能。為了進一步提高小口徑非 球面的加工精度,還需要在超精密車削、磨削加工后進行超精密拋光。 目前,針對非球面的超精密拋光可以分為接觸型拋光和非接觸型拋光,接觸型拋 光有:氣囊拋光,磁流變拋光,手工拋光等;非接觸型拋光方式有:射流拋光,離子束拋光, 化學(xué)拋光等。考慮到小口徑非球面加工空間狹小,以及成本、高精度的拋光要求,主要利用 氣囊拋光、手工拋光、射流拋光等。采用氣囊拋光方法,雖然可以獲得很高的加工精度,但不 同的加工型面需要不同的拋光頭,加工適應(yīng)性不強,且拋光頭需要不斷的修整來保持加工 精度,使加工效率和精度受到影響;手工拋光不需要自動化的拋光設(shè)備,加工成本較低,但 手工拋光存在加工效率低且加工精度不穩(wěn)定等問題;射流拋光依靠磨粒射流沖擊作用去除 材料,適用于小口徑深凹非球面的拋光,但拋光去除率較低。
技術(shù)實現(xiàn)思路
針對現(xiàn)有拋光加工方法中存在的問題,考慮到小口徑非球面零件的加工特點, 結(jié)合磁致伸縮材料特性,設(shè)計了一種基于磁致伸縮材料的可控振幅的拋光裝置。該拋光 裝置主要由拋光頭、磁致伸縮元件、底座三部分構(gòu)成。其中,拋光頭采用高硬度的不銹鋼 (12Crl7Ni7)車削而成,并在圓形頭部加裝聚氨酯橡膠(IRHD90)套,提高打磨頭的耐磨程 度,并提高拋光精度。底座采用具有較高導(dǎo)磁能力的工業(yè)10號鋼。主體元件采用圓柱形鐵 鎵磁致伸縮材料(Fe 83Ga17),通過線切割加工將圓柱形材料的一端切割出四根磁致伸縮細(xì) 棒,并在每根細(xì)棒上繞上線圈,通過改變線圈內(nèi)電流的大小,改變線圈內(nèi)的磁場強度,使四 根磁致伸縮細(xì)棒有不同程度的伸長,導(dǎo)致拋光頭三維運動。通過與底座配合,固定主體元件 的四根磁致伸縮棒。底座一方面和主體部分構(gòu)成磁路,提高線圈內(nèi)的磁場強度,另一方面提 供自由度約束,方便夾具固定。 本技術(shù)的技術(shù)方案為: -種可控振幅小口徑非球面拋光裝置,其組成包括拋光頭、磁致伸縮主體元件和 底座; 所述的拋光頭的材質(zhì)為不銹鋼,下部為軸,中部為圓柱體,上部為圓臺狀,頂部為 球面,上部和頂部一體套有相同形狀的的聚氨酯橡膠套; 所述的磁致伸縮主體元件的材質(zhì)為圓柱狀鐵鎵磁致伸縮材料Fe83Ga17,其底部通 過線切割開出十字凹槽,十字凹槽的四邊成為四根磁致伸縮細(xì)棒,四根磁致伸縮細(xì)棒均勻 對稱分布,長度和粗細(xì)相同;頂部設(shè)置有開孔,直徑與拋光頭的軸匹配;每根磁致伸縮細(xì)棒 上分別繞上線圈;十字凹槽的兩條凹槽的寬度相同; 所述的底座為圓柱形棒材,直徑同磁致伸縮主體元件;底座的頂部開有十字凸臺, 十字凸臺的每條凸臺的寬度同十字凹槽的凹槽寬度; 拋光頭通過軸與磁致伸縮元件的孔進行過盈配合,磁致伸縮元件通過四個磁致伸 縮細(xì)棒構(gòu)成的十字凹槽與底座的十字凸臺進行過盈配合。 所述的磁致伸縮主體元件為圓柱形棒材,直徑為l〇mm,長度為40mm ;十字凹槽的 凹槽寬度均為3. 6mm,深度為20mm ;磁致伸縮主體元件另一端孔的直徑為3mm,深度為8mm。 所述的底座采用工業(yè)10號鋼,長度為20mm,直徑為10mm的圓柱形棒材;十字凸臺 的凸臺寬度為3. 6mm,高度為5mm。 所述的拋光頭為不銹鋼圓柱形棒材,長度為40mm,直徑為6mm ;拋光頭的直徑為 3mm,長度為7. 5mm ;球形頭上球的半徑為1mm,圓臺的高度5. 41mm,下圓周直徑是6mm,上圓 周直徑是1. 44mm。 所述的磁致伸縮主體元件的四根磁致伸縮細(xì)棒上分別繞有的線圈的線徑為 0· 2mm,阻數(shù)為250阻。 所述的聚氨酯橡膠套的厚度為1?2mm。 本技術(shù)的有益效果為:本技術(shù)通過控制輸入的各路電流之間的相位差, 可以輸出多種拋光運動形式:線性、橢圓或圓;控制輸入電流的大小或頻率,可以輸出可控 的振動幅度。本技術(shù)同時注重磁路結(jié)構(gòu),使磁致伸縮主體元件和底座構(gòu)成閉合的磁路, 減少了漏磁,提高了磁場的利用率,減少的所需線圈的體積。 本技術(shù)是一種接觸型拋光裝置,具有體積小、結(jié)構(gòu)簡單、使用方便等優(yōu)點,可 以在小零件上進行拋光作業(yè)(直徑10mm以下),在加工不同材料和不同形狀的零件時,不需 要更換拋光頭,只需要通過控制電流改變拋光運動形式,或者通過控制電流的大小和頻率 改變振動的振幅,來滿足不同的加工需求。在工作頻率在6-9kHz的范圍內(nèi),振幅可調(diào)范圍 為0-30 μ m,最大材料去除率可以達到0. 5 μ m/min。 【專利附圖】【附圖說明】 圖1為鐵鎵磁致伸縮材料的λ -H回線。 圖2為拋光裝置的整體裝配圖。 圖3為拋光裝置的磁致伸縮主體元件結(jié)構(gòu)圖。 圖4為拋光裝置的底座結(jié)構(gòu)圖。 圖5為拋光裝置的拋光頭結(jié)構(gòu)圖。 圖6為電流頻率為8000Hz的條件下拋光裝置輸出的徑向振幅波形。 其中,1-聚氨酯橡膠套;2-拋光頭;3-磁致伸縮主體元件;4-線圈;5-底座; 6-孔;7-十字凹槽;8-磁致伸縮細(xì)棒;9-十字凸臺;10-凹槽平面;11-球頭刀;12-軸。 【具體實施方式】 下面結(jié)合附圖和技術(shù)方案詳細(xì)說明本技術(shù)的具體實施,但它們不是對本實用 新型作任何限制。 本技術(shù)所述的一種可控振幅小口徑非球面拋光裝置如圖2所示,其組成包 括:拋光頭2、磁致伸縮主體元件3和底座5 ; 所述的拋光頭2的結(jié)構(gòu)如圖5,其材質(zhì)為不銹鋼,下部為軸12,中部為圓柱體,上部 為圓臺狀,頂部為球面,上本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
一種可控振幅小口徑非球面拋光裝置,其特征為該裝置的組成包括拋光頭、磁致伸縮主體元件和底座;所述的拋光頭的材質(zhì)為不銹鋼,下部為軸,中部為圓柱體,上部為圓臺狀,頂部為球面,上部和頂部一體套有相同形狀的的聚氨酯橡膠套;?所述的磁致伸縮主體元件的材質(zhì)為圓柱狀鐵鎵磁致伸縮材料Fe83Ga17,其底部通過線切割開出十字凹槽,十字凹槽的四邊成為四根磁致伸縮細(xì)棒,四根磁致伸縮細(xì)棒均勻?qū)ΨQ分布,長度和粗細(xì)相同;頂部設(shè)置有開孔,直徑與拋光頭的軸匹配;每根磁致伸縮細(xì)棒上分別繞上線圈;十字凹槽的兩條凹槽的寬度相同;所述的底座為圓柱形棒材,直徑同磁致伸縮主體元件;底座的頂部開有十字凸臺,十字凸臺的每條凸臺的寬度同十字凹槽的凹槽寬度;拋光頭通過軸與磁致伸縮元件的孔進行過盈配合,磁致伸縮元件通過四個磁致伸縮細(xì)棒構(gòu)成的十字凹槽與底座的十字凸臺進行過盈配合。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:王博文,胡永志,趙智忠,李驥,富大偉,
申請(專利權(quán))人:河北工業(yè)大學(xué),
類型:新型
國別省市:天津;12
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