本實用新型專利技術提供一種光罩盒位置監控系統,至少包括:載有光罩盒的傳送主體;設于傳送主體上表面且將光罩盒嵌于其中的矩形組件;矩形組件第一邊設有第一半反射鏡和一光源,位于該第一邊上用于接收所述第一半反射鏡反射光的第二半反射鏡;第一半反射鏡的透射光和第二半反射鏡的反射光依次經過該光罩盒的外殼和中心底座;矩形組件中與第一邊平行的另一邊設有依次用于接收第一半反射鏡透射光及第二半反射鏡反射光的第一、第二傳感器;設于傳送主體上表面的至少兩個活動支柱;活動支柱經過第一半反射鏡透射光。本實用新型專利技術減少傳送過程中因位置不精確導致傳送失敗的幾率和機械手臂受到撞擊而刮傷光罩的幾率,并減小因宕機對光罩產生影響的風險。(*該技術在2024年保護過期,可自由使用*)
【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本技術提供一種光罩盒位置監控系統,至少包括:載有光罩盒的傳送主體;設于傳送主體上表面且將光罩盒嵌于其中的矩形組件;矩形組件第一邊設有第一半反射鏡和一光源,位于該第一邊上用于接收所述第一半反射鏡反射光的第二半反射鏡;第一半反射鏡的透射光和第二半反射鏡的反射光依次經過該光罩盒的外殼和中心底座;矩形組件中與第一邊平行的另一邊設有依次用于接收第一半反射鏡透射光及第二半反射鏡反射光的第一、第二傳感器;設于傳送主體上表面的至少兩個活動支柱;活動支柱經過第一半反射鏡透射光。本技術減少傳送過程中因位置不精確導致傳送失敗的幾率和機械手臂受到撞擊而刮傷光罩的幾率,并減小因宕機對光罩產生影響的風險。【專利說明】一種光罩盒位置監控系統
本技術涉及用于光罩盒位置監控系統,特別是涉及一種用于光罩傳輸中的光罩盒位置監控系統。
技術介紹
光罩載具分為光罩盒(Mask Package)以及光罩傳送裝置(Reticle SMIF Pod),光罩盒為光罩最基本保護裝置,該產品通常以低氣度逸散(out gassing)塑料材料為主,如ABS、PMMA、Polycarbonate等,這些材質可降低霧化(Haze)及靜電防護(ESD)發生,高端光罩和則使用不銹鋼材質,其防護效果更佳,當光罩制作完畢后,除使用期間外,無論是搬移或保存,都需全程放置在光罩盒內以確保光罩潔凈度。光罩盒需求與新的光罩產量同步,也就是說跟新款芯片開發量有密切關系。 光罩傳送裝置則是依據隔離進出料標準機械接口技術(Standard MechanicalInterface)所設計開發,光罩傳送裝置在半導體黃光制程中,透過自動化搬運設備移動光罩之用,當傳送移動時,閘蓋完全密合以保持內務高度潔凈,當光罩使用時則嵌入曝光機臺,打開閘蓋取出光罩進行作業,由于光罩并不與外界空氣接觸,因而晶圓廠可以大幅減少高潔凈度無塵室面積,以及潔凈氣體供應設備投資。 目前現有技術中的阿斯麥光刻機臺(ASML Scanner)中光罩的傳送,是經過升降機將光罩盒傳送到交換位置交與機械手臂。光罩盒在升降機上的相對位置會影響傳送結果。如果兩者位置不好,與機械手臂交接時,會造成真空偵測異常,導致光罩盒傳送失敗,同時機械手臂也會受撞擊,造成光罩的劃傷或變形,導致晶圓失效。所以升降機裝載光罩盒的過程中,光罩盒的位置是極其重要的。 當前,我們采用的方法是機臺自身帶有光罩盒位置偵測儀,該光罩盒位置偵測儀只能大致判斷光罩盒與升降機兩者的位置,由于機臺結構緊湊,目測又很難清楚的判斷,該偵測手段較粗糙,并不能保證光罩盒精準的位置,光罩盒位置的偏移造成宕機事件時有發生,給機臺運行留下的隱患。 因此,有必要提出一種能精確監控光罩盒在傳送過程中處于升降機上位置的系統,來克服現有技術中存在的若干問題。
技術實現思路
鑒于以上所述現有技術的缺點,本技術的目的在于提供一種光罩傳輸系統,用于解決現有技術中由于光罩盒在傳送過程中發生位置偏移而導致宕機以及劃傷光罩并致使晶圓失效的問題。 為實現上述目的及其他相關目的,本技術提供一種光罩盒位置監控系統,其特征在于,所述系統至少包括:上表面載有光罩盒的傳送主體;所述光罩盒具有遮光的中心底座和透光的外殼;固定于所述傳送主體上表面由邊框構成且將所述光罩盒嵌于其中的矩形組件;所述矩形組件的第一邊邊上設有第一半反射鏡和位于該第一半反射鏡的反射面一側的光源,位于所述第一邊上且用于接收所述第一半反射鏡反射光的第二半反射鏡;第一半反射鏡的透射光和所述第二半反射鏡的反射光分別依次經過所述光罩盒的外殼和中心底座;所述矩形組件中與所述第一邊相平行的另一第一邊上設有依次用于接收所述第一半反射鏡透射光以及第二半反射鏡反射光的第一、第二傳感器;設于所述傳送主體上表面的至少兩個活動支柱;所述活動支柱位于所述矩形組件內支撐所述光罩盒且經過所述第一半反射鏡透射光。 作為本技術的光罩盒位置監控系統的一種優選方案,所述光源發出的至所述第一半反射鏡的反射面的入射光與該反射面的夾角呈45度;所述第二半反射鏡的反射面與所述第一半反射鏡的反射面相對且相互平行;所述第二半反射鏡與所述第一半反射鏡位于沿所述矩形組件的所述第一邊的同一直線上。 作為本技術的光罩盒位置監控系統的一種優選方案,所述系統還包括用于接收所述第二半反射鏡的透射光的全反射鏡和用于接收所述全反射鏡反射光的第三傳感器;所述全反射鏡與所述第一、第二半反射鏡位于所述矩形組件的所述第一邊上;所述第二半反射鏡位于所述全反射鏡與所述第一半反射鏡之間;所述全反射鏡的反射光經過所述光罩盒的外殼和至少一個活動支柱;所述第三傳感器位于與所述第一邊相平行的另一第一邊上。 作為本技術的光罩盒位置監控系統的一種優選方案,所述全反射鏡與所述第一、第二半反射鏡位于同一直線上且所述全反射鏡的反射面與所述第一半反射鏡的反射面相對且相互平行;所述第一至第三傳感器位于沿所述矩形組件的所述另一第一邊的同一直線上。 作為本技術的光罩盒位置監控系統的一種優選方案,所述第二半反射鏡與所述第一半反射鏡的距離等于該第二半反射鏡與所述全反射鏡之間的距離。 作為本技術的光罩盒位置監控系統的一種優選方案,所述系統還包括用于推動所述光罩盒且卡扣于所述矩形組件中兩條彼此平行的第二邊的抓手;所述抓手與一彈簧連接;所述彈簧連接于一馬達;所述第一至第三傳感器分別連接于所述馬達。 作為本技術的光罩盒位置監控系統的一種優選方案,所述矩形組件的兩條相互平行的第二邊中每條第二邊上均設有一個所述抓手。 作為本技術的光罩盒位置監控系統的一種優選方案,所述馬達與所述彈簧的連接端為凸輪機構,所述馬達不工作時所述彈簧處于拉伸狀態。 作為本技術的光罩盒位置監控系統的一種優選方案,所述光源為紅外激光源。 如上所述,本技術的光罩盒位置監控系統,具有以下有益效果:該光罩盒位置監控系統可監測光罩盒在所述傳送主體上的位置,當光罩盒位置不準確時,可自動調整所述光罩盒在傳送主體上的位置,使的所述光罩盒處于最精準的位置。降低了因光罩盒在傳送過程中處于不準確的傳送位置而導致宕機以及機械手臂劃傷光罩的風險,提高了制程的效率以及產品的良率。 【專利附圖】【附圖說明】 圖1為本技術的傳送主體以及位于該傳送主體上的光罩盒以及矩形組件的結構示意圖。 圖2為圖1的爆炸圖。 圖3為本技術的光罩盒位置監控系統的示意圖。 圖4為本技術的光罩盒位置監控系統的結構示意圖。 圖5為本技術的光罩盒位置監控系統的矩形組件的上蓋示意圖。 圖6為本技術中馬達與光罩盒位置監控系統之間連接組件的結構示意圖。 元件標號說明 10光罩盒 101 外殼 102中心底座 11傳送主體 12螺絲 13矩形組件 131、132 第一邊 133、134 第二邊 14第一半反射鏡 15光源 16第二半反射鏡 17第一傳感器 18第二傳感器 19活動支柱 20全反射鏡 21第三傳感器 22抓手 23彈簧 24馬達 25凸輪機構 26馬達連接組件 SpS4 透射光 S2、S3、S5 反射光 【具體實施方式】 以本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種光罩盒位置監控系統,其特征在于,所述系統至少包括:?上表面載有光罩盒的傳送主體;所述光罩盒具有遮光的中心底座和透光的外殼;?固定于所述傳送主體上表面由邊框構成且將所述光罩盒嵌于其中的矩形組件;?所述矩形組件的第一邊上設有第一半反射鏡和位于該第一半反射鏡的反射面一側的光源,位于所述第一邊上且用于接收所述第一半反射鏡反射光的第二半反射鏡;?第一半反射鏡的透射光和所述第二半反射鏡的反射光分別依次經過所述光罩盒的外殼和中心底座;?所述矩形組件中與所述第一邊相平行的另一第一邊上設有依次用于接收所述第一半反射鏡透射光以及第二半反射鏡反射光的第一、第二傳感器;?設于所述傳送主體上表面的至少兩個活動支柱;所述活動支柱位于所述矩形組件內支撐所述光罩盒且經過所述第一半反射鏡透射光。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員:潘鋒,
申請(專利權)人:中芯國際集成電路制造北京有限公司,
類型:新型
國別省市:北京;11
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