本發(fā)明專利技術(shù)提出一種用于監(jiān)測放射源的定位儀，包括：探測器，用于探測放射源并生成所述放射源的探測器圖像；攝像機，所述攝像機在縱向與所述探測器平齊設(shè)置，用于拍攝所述放射源的可見光圖像；以及相差調(diào)整裝置，所述相差調(diào)整裝置用于調(diào)整所述攝像機的拍攝區(qū)域以使所述探測器和所述攝像機的攝像頭處于同一軸向上，以便消除所述探測器圖像上的放射源與所述可見光圖像上的放射源之間的相差。根據(jù)本發(fā)明專利技術(shù)實施例的用于監(jiān)測放射源的定位儀，可消除探測器圖像中的放射源與可見光圖像上的放射源之間視差。本發(fā)明專利技術(shù)還提出了一種監(jiān)測放射源的方法。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【專利摘要】本專利技術(shù)提出一種用于監(jiān)測放射源的定位儀，包括：探測器，用于探測放射源并生成所述放射源的探測器圖像；攝像機，所述攝像機在縱向與所述探測器平齊設(shè)置，用于拍攝所述放射源的可見光圖像；以及相差調(diào)整裝置，所述相差調(diào)整裝置用于調(diào)整所述攝像機的拍攝區(qū)域以使所述探測器和所述攝像機的攝像頭處于同一軸向上，以便消除所述探測器圖像上的放射源與所述可見光圖像上的放射源之間的相差。根據(jù)本專利技術(shù)實施例的用于監(jiān)測放射源的定位儀，可消除探測器圖像中的放射源與可見光圖像上的放射源之間視差。本專利技術(shù)還提出了一種監(jiān)測放射源的方法。【專利說明】
本專利技術(shù)涉及放射源監(jiān)測
，特別涉及一種用于監(jiān)測放射源的定位儀及監(jiān)測 放射源的方法。
技術(shù)介紹
在一些放射性物質(zhì)監(jiān)測設(shè)備中，為了標(biāo)定放射源的位置，其監(jiān)測畫面主要由兩部 分組成：探測器圖像和可見光圖像。探測器圖像由探測器利用輻射探測技術(shù)得出，可見光圖 像由攝像機通過視頻監(jiān)控技術(shù)得出，但在監(jiān)測畫面中，輻射探測標(biāo)定的放射源位置與視頻 監(jiān)控畫面中的放射源位置有一定的偏差。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本申請是基于專利技術(shù)人對以下事實和問題的發(fā)現(xiàn)作出的：專利技術(shù)人發(fā)現(xiàn)，輻射探測標(biāo) 定的放射源位置與視頻監(jiān)控畫面中的放射源位置存在的偏差，稱之為放射源在可見光圖像 與探測器圖像融合過程中的視差。其產(chǎn)生視差的原因是探測器與攝像頭不在同一個軸向 上，兩者之間在水平方向有一定的距離，導(dǎo)致探測器圖像與可見光圖像之間有一定的相差， 如圖1所示。由產(chǎn)生視差的原因分析得出，如果能將探測器區(qū)域的可見光呈現(xiàn)在視頻監(jiān)控 設(shè)備上，即可解決視差問題。 本專利技術(shù)旨在至少解決上述技術(shù)問題之一。 為此，本專利技術(shù)的一個目的在于提出一種可消除探測器圖像中的放射源與可見光圖 像上的放射源之間視差的用于監(jiān)測放射源的定位儀。 本專利技術(shù)的另一目的在于提出一種監(jiān)測放射源的方法。 為了實現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)第一方面的實施例提出了一種用于監(jiān)測放射源的定位 儀，包括：探測器，用于探測放射源并生成所述放射源的探測器圖像；攝像機，所述攝像機 在縱向與所述探測器平齊設(shè)置，用于拍攝所述放射源的可見光圖像；以及相差調(diào)整裝置，所 述相差調(diào)整裝置用于調(diào)整所述攝像機的拍攝區(qū)域以使所述探測器和所述攝像機的攝像頭 處于同一軸向上，以便消除所述探測器圖像上的放射源與所述可見光圖像上的放射源之間 的相差。 根據(jù)本專利技術(shù)實施例的用于監(jiān)測放射源的定位儀，通過調(diào)整攝像機的拍攝區(qū)域以使 探測器和攝像機的攝像頭處于同一軸向上，從而可以有效地消除探測器圖像上的放射源與 可見光圖像上的放射源之間的相差，提高對放射源進行定位的定位精度。 根據(jù)本專利技術(shù)上述實施例的用于監(jiān)測放射源的定位儀還可以具有如下附加的技術(shù) 特征： 在一些示例中，所述相差調(diào)整裝置利用潛望鏡成像原理實現(xiàn)所述探測器和所述攝 像機的攝像頭處于同一軸向上。 在一些示例中，所述相差調(diào)整裝置為潛望鏡，所述潛望鏡的進光口對準(zhǔn)所述探測 器的探測區(qū)域，所述潛望鏡的出光口對準(zhǔn)所述攝像頭。 在一些示例中，所述攝像機位于所述探測器的下方。 本專利技術(shù)第二方面的實施例提供了一種監(jiān)測放射源的方法，包括以下步驟：調(diào)整攝 像機的拍攝區(qū)域以使探測器和所述攝像機的攝像頭處于同一軸向上以消除探測器圖像上 的放射源與可見光圖像上的放射源之間的相差；在調(diào)整完成后，利用所述探測器探測放射 源并生成所述放射源的探測器圖像以及利用所述攝像機拍攝所述放射源的可見光圖像。 根據(jù)本專利技術(shù)實施例的監(jiān)測放射源的方法，通過調(diào)整攝像機的拍攝區(qū)域以使探測器 和攝像機的攝像頭處于同一軸向上，從而可以有效地消除探測器圖像上的放射源與可見光 圖像上的放射源之間的相差，提高對放射源進行定位的定位精度。 另外，根據(jù)本專利技術(shù)上述實施例的監(jiān)測放射源的方法還可以具有如下附加的技術(shù)特 征： 在一些示例中，根據(jù)潛望鏡成像原理實現(xiàn)所述探測器和所述攝像機的攝像頭處于 同一軸向上。 在一些示例中，其中，利用潛望鏡使所述探測器和所述攝像機的攝像頭處于同一 軸向上，其中，所述潛望鏡的進光口對準(zhǔn)所述探測器的探測區(qū)域，所述潛望鏡的出光口對準(zhǔn) 所述攝像頭。 本專利技術(shù)的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變 得明顯，或通過本專利技術(shù)的實踐了解到。 【專利附圖】【附圖說明】 本專利技術(shù)的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從結(jié)合下面附圖對實施例的描述中將變 得明顯和容易理解，其中 ： 圖1是現(xiàn)有的定位儀的對放射源進行定位的原理示意圖； 圖2是根據(jù)本專利技術(shù)一個實施例的用于監(jiān)測放射源的定位儀的示意圖； 圖3是根據(jù)本專利技術(shù)另一個實施例的用于監(jiān)測放射源的定位儀的示意圖；以及 圖4是根據(jù)本專利技術(shù)一個實施例的監(jiān)測放射源的方法的流程圖。 【具體實施方式】 下面詳細描述本專利技術(shù)的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終 相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附 圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本專利技術(shù)，而不能理解為對本專利技術(shù)的限制。 在本專利技術(shù)的描述中，需要理解的是，術(shù)語"中心"、"縱向"、"橫向"、"上"、"下"、"前"、 "后"、"左"、"右"、"堅直"、"水平"、"頂"、"底"、"內(nèi)"、"外"等指示的方位或位置關(guān)系為基于 附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本專利技術(shù)和簡化描述，而不是指示或暗示所 指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā) 明的限制。此外，術(shù)語"第一"、"第二"僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要 性。 在本專利技術(shù)的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語"安裝"、"相 連"、"連接"應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可 以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是 兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本 專利技術(shù)中的具體含義。 參照下面的描述和附圖，將清楚本專利技術(shù)的實施例的這些和其他方面。在這些描述 和附圖中，具體公開了本專利技術(shù)的實施例中的一些特定實施方式，來表示實施本專利技術(shù)的實施 例的原理的一些方式，但是應(yīng)當(dāng)理解，本專利技術(shù)的實施例的范圍不受此限制。相反，本專利技術(shù)的 實施例包括落入所附加權(quán)利要求書的精神和內(nèi)涵范圍內(nèi)的所有變化、修改和等同物。 以下結(jié)合附圖描述根據(jù)本專利技術(shù)實施例的用于監(jiān)測放射源的定位儀及監(jiān)測放射源 的方法。 圖2是根據(jù)本專利技術(shù)一個實施例的用于監(jiān)測放射源的定位儀的示意圖。如圖2所示， 根據(jù)本專利技術(shù)一個實施例的用于監(jiān)測放射源的定位儀200,包括：探測器210、攝像機220和相 差調(diào)整裝置230。 具體地，探測器210用于探測放射源并生成放射源的探測器圖像。攝像機220在 縱向與探測器210平齊設(shè)置，用于拍攝放射源的可見光圖像。相差調(diào)整裝置230用于調(diào)整 攝像機220的拍攝區(qū)域以使探測器210和攝像機220的攝像頭處于同一軸向上，以便消除 探測器圖像上的放射源與可見光圖像上的放射源之間的相差。 具體地說，相差調(diào)整裝置230可利用潛望鏡成像原理實現(xiàn)探測器210和攝像機220 的攝像頭處于同一軸向上，本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
一種用于監(jiān)測放射源的定位儀，其特征在于，包括：探測器，用于探測放射源并生成所述放射源的探測器圖像；攝像機，所述攝像機在縱向與所述探測器平齊設(shè)置，用于拍攝所述放射源的可見光圖像；以及相差調(diào)整裝置，所述相差調(diào)整裝置用于調(diào)整所述攝像機的拍攝區(qū)域以使所述探測器和所述攝像機的攝像頭處于同一軸向上，以便消除所述探測器圖像上的放射源與所述可見光圖像上的放射源之間的相差。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：龔光華，何峰，張彌，劉亞強，王石，劉邁，
申請(專利權(quán))人：北京辛耕普華醫(yī)療科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：北京;11
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