本發明專利技術涉及支承軸、使用了該支承軸的磁盤用玻璃基板的端面研磨方法、及磁盤用玻璃基板的制造方法，該支承軸在進行磁盤用玻璃基板的內周端面研磨及/或外周端面研磨時，向磁盤用玻璃基板的中央開口部插入，用于磁盤用玻璃基板的定位，其特征在于，所述支承軸的與磁盤用玻璃基板的內周端面接觸的部分的表面粗糙度Ra為0.9μm以下。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】【專利摘要】本專利技術涉及支承軸、使用了該支承軸的磁盤用玻璃基板的端面研磨方法、及磁盤用玻璃基板的制造方法，該支承軸在進行磁盤用玻璃基板的內周端面研磨及/或外周端面研磨時，向磁盤用玻璃基板的中央開口部插入，用于磁盤用玻璃基板的定位，其特征在于，所述支承軸的與磁盤用玻璃基板的內周端面接觸的部分的表面粗糙度Ra為0.9μm以下。【專利說明】
本專利技術涉及。
技術介紹
作為在磁盤記錄裝置等中使用的環形狀的磁盤用基板，近年來，由于高密度記錄化的要求，主要使用平坦性、平滑性優異的玻璃基板。 磁盤用玻璃基板(以下也記載為“玻璃基板”)為了抑制污染物質的附著或HDD裝置的主軸的摩擦接觸引起的磨損、由其引起的玻璃或金屬微粉的產生，通常在其制造工序中利用刷子等對玻璃基板的內外周端面進行研磨加工。 在對內周端面進行研磨時，使用例如專利文獻I記載那樣的方法:首先，將玻璃基板的中央開口部(在玻璃基板的中央部設置的開口部)向支承軸插入，由此一邊進行位置對合一邊形成玻璃基板層疊體。接著，將玻璃基板層疊體設置于工件夾具，將支承軸拔出，向玻璃基板層疊體的中央孔插入研磨刷而對內周端面進行研磨。 另外，在對外周端面進行研磨時，使用如下的方法:向磁盤用玻璃基板的中央開口部插入支承軸，由此進行玻璃基板的位置對合，進而，利用支承軸對玻璃基板層疊體的內周部進行支承，并使外周端面部與研磨刷接觸而進行外周端面研磨。 然而，在這些端面研磨工序中，存在進行玻璃基板的位置對合、內周端面的支承的支承軸損傷玻璃基板的內周端面，減少其強度，或反之玻璃基板損傷支承軸而無法使用等問題。 為了應對這些問題，例如在專利文獻2中提出了不使用支承軸的玻璃基板層疊體用工件夾具。 【在先技術文獻】 【專利文獻】 【專利文獻I】日本國特開2011-230276號公報 【專利文獻2】日本國特開2012-003824號公報
技術實現思路
【專利技術要解決的課題】 近年來，伴隨著磁盤的記錄密度的高密度化，有時使用如下的方法:在磁記錄用磁性層的成膜中、成膜前或成膜后，進行將玻璃基板(或磁盤)加熱成300?400°C的處理來提聞記錄再生特性。 而且，由于磁盤的記錄密度極度高密度化，存在因熱搖晃而磁化消失的問題，但是為了克服該問題，提出了使用非常高的抗磁力(矯頑力)的磁性材料的熱輔助磁記錄等新技術。在該技術中，作為磁性膜，將CoPt系合金、FePt系合金等在將基板溫度加熱成400°C?700°C附近的狀態下進行成膜。 如上述那樣，在為了使磁盤的記錄密度為高密度化而需要將玻璃基板加熱成高溫的情況下，使用高耐熱性的玻璃基板等，但有時對玻璃基板進行急冷及/或急加熱，與以往相比，作用于玻璃基板的熱沖擊變得非常大。存在有當玻璃基板的內周端面或其附近存在傷痕等缺陷時，因該熱沖擊而缺陷擴大，玻璃基板或磁盤整體的機械特性下降、進而導致玻璃基板或磁盤整體的破壞的可能性的問題。 這樣，伴隨著磁盤的記錄密度的高密度化，與以往相比，作用于玻璃基板的熱沖擊變得非常大，因該熱沖擊而缺陷擴大，因此以往不會成為問題的微小的傷痕等缺陷處于內周端面或其附近的情況成為問題。 作為在玻璃基板的內周端面上產生微小的傷痕等缺陷的原因之一，在向玻璃基板的中央開口部插入支承軸時，在從玻璃基板層疊體拔出支承軸時，存在支承軸向玻璃基板的內周端面施加的沖擊。 在專利文獻2中，提出了未使用對玻璃基板的內周端面施加沖擊的支承軸的玻璃基板層疊體用工件夾具的方案，但是在該方法中，難以高精度地使玻璃基板的位置對合，可能無法充分滿足玻璃基板的加工精度(圓度、同心度)。 因此，本專利技術鑒于在制造高記錄密度的磁盤的工序中當大的熱沖擊作用于玻璃基板(或磁盤)的情況下玻璃基板或磁盤整體的機械特性下降的問題，其目的在于提供一種支承軸，其在進行玻璃基板的內周端面研磨及/或外周端面研磨時向玻璃基板的中央開口部插入而用于玻璃基板的位置對合的支承軸，即向玻璃基板的內周端面施加的沖擊小且能夠大幅減少向內周端面的微小的傷痕的產生。 【用于解決課題的方案】 為了解決上述課題，本專利技術提供一種支承軸，在進行磁盤用玻璃基板的內周端面研磨及/或外周端面研磨時，向磁盤用玻璃基板的中央開口部插入，用于磁盤用玻璃基板的定位，其特征在于，所述支承軸的與磁盤用玻璃基板的內周端面接觸的部分的表面粗糙度Ra為0.9 μ m以下。 【專利技術效果】 根據本專利技術的支承軸，在進行玻璃基板的內周端面研磨及/或外周端面研磨時，對于支承軸即使進行磁盤用玻璃基板(層疊體)的拆裝等，向玻璃基板的內周端面的微小的傷痕等的缺陷的產生也能夠比以往大幅減少。 【專利附圖】【附圖說明】 圖1是磁盤用玻璃基板的說明圖。 圖2(A)及圖2(B)是本專利技術的第一實施方式的支承軸的說明圖。 圖3是在本專利技術的第一實施方式的支承軸上支承有磁盤用玻璃基板層疊體的結構的簡要說明圖。 圖4是使用本專利技術的第二實施方式的支承軸對磁盤用玻璃基板層疊體的外周端面進行研磨的方法的說明圖。 圖5是本專利技術的第二實施方式的對磁盤用玻璃基板層疊體的內周端面進行研磨時使用的工件夾具的結構例的說明圖。 圖6是在本專利技術的第二實施方式的對磁盤用玻璃基板層疊體的內周端面進行研磨用的工件夾具上設置有磁盤用玻璃基板層疊體的結構的說明圖。 【具體實施方式】 以下，參照附圖，說明用于實施本專利技術的方式，但本專利技術并不局限于下述的實施方式，不脫離本專利技術的范圍而能夠向下述的實施方式施加各種變形及置換。 在本實施方式中，對于本專利技術的支承軸進行說明。 本專利技術的支承軸是在進行磁盤用玻璃基板的內周端面研磨及/或外周端面研磨時向磁盤用玻璃基板的中央開口部插入且用于磁盤用玻璃基板的位置對合的支承軸，其特征在于，所述支承軸的與磁盤用玻璃基板的內周端面接觸的部分的表面粗糙度(算術平均粗糙度)Ra為0.9μπι以下。 首先，說明磁盤用玻璃基板的結構。圖1示出玻璃基板的立體剖視圖的例子。在圖1中，玻璃基板I具有在主平面2的中心具有中央開口部(以下，也稱為“內周”)3的環形狀。 玻璃基板I的外周側的側面是外周端面4，中央開口部3的側面是內周端面7。 外周端面4包括:相對于主平面2具有90度的角度的外周側面部5 ;在外周側面部5的上下設置且與主平面2和外周側面部5相接的外周倒角部6。 內周端面7包括:相對于主平面2具有90度的角度的內周側面部8 ;及在內周側面部8的上下設置且與主平面2和內周側面部8相接的內周倒角部9。 接下來，使用圖2、圖3，說明本專利技術的支承軸的概要。 關于支承軸的形狀，只要根據支承的玻璃基板層疊體的尺寸、內周端面研磨、外周端面研磨用的裝置的規格等進行規定即可，沒有限定，但可以使用例如圖2(A)及2(B)所示那樣的形狀的結構。 圖2 (A)及2 (B)示出本專利技術的支承軸20的側視圖。 支承軸20具備內周支承部(軸部)21和固定部22。 內周支承部21在進行玻璃基板(層疊體)的位置對合時，在向玻璃基板的中央開口部插入且對玻璃基板的內周端面進行支承的部分，將多個玻璃基板裝配于內周支承部21，由此使玻璃基板的位置對合，對玻璃基板的內周端面進行支承，能夠形成玻璃基板層疊體。 內周支承部2本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種支承軸，所述支承軸在進行磁盤用玻璃基板的內周端面研磨及/或外周端面研磨時，向磁盤用玻璃基板的中央開口部插入而用于磁盤用玻璃基板的定位，所述支承軸的特征在于，所述支承軸的與磁盤用玻璃基板的內周端面接觸的部分的表面粗糙度Ra為0.9μm以下。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：大塚晴彥，
申請(專利權)人：旭硝子株式會社，
類型：發明
國別省市：日本;JP
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