成膜裝置以及成膜方法制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及成膜裝置以及成膜方法。實施方式的成膜裝置為，從移動的噴嘴向旋轉的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉由所涂布的上述處理液形成膜。該成膜裝置具備保持上述基板的保持部、使上述保持部旋轉的驅動部、向上述保持部所保持的上述基板的表面供給上述處理液的處理液供給部以及至少控制上述驅動部的控制部。而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的第一轉速慢的第二轉速旋轉，而由所涂布的上述處理液形成膜。

【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本專利技術涉及。實施方式的成膜裝置為，從移動的噴嘴向旋轉的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉由所涂布的上述處理液形成膜。該成膜裝置具備保持上述基板的保持部、使上述保持部旋轉的驅動部、向上述保持部所保持的上述基板的表面供給上述處理液的處理液供給部以及至少控制上述驅動部的控制部。而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的第一轉速慢的第二轉速旋轉，而由所涂布的上述處理液形成膜。【專利說明】關聯文獻的引用:本申請以2013年5月31日申請的在先日本專利申請2013-115277號的優先權利益為基礎且要求該優先權利益，并通過引用將上述專利申請的內容全部包含于本申請。
后述的實施方式總體上涉及。
技術介紹
以往，存在如下的技術:在使噴嘴從基板的中心側朝向外周端側移動的同時，從該噴嘴向旋轉的基板的表面供給處理液，在基板的表面上螺旋狀地涂布處理液，然后，使基板以比涂布處理液時的轉速快的轉速旋轉，而由所涂布的處理液形成膜。 如果采用這種技術，則能夠實現膜厚的均勻化。 然而，在處理液的涂布結束后，當使基板以比涂布處理液時的轉速快的轉速旋轉時，處于基板表面的處理液的一部分飛散，處理液的利用效率變差。 因此，希望開發出能夠實現處理液的利用效率提高以及膜厚的均勻化的技術。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供能夠實現處理液的利用效率提高以及膜厚的均勻化的。 實施方式的成膜裝置為，從移動的噴嘴向旋轉的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉而由所涂布的上述處理液形成膜。 該成膜裝置具備:保持上述基板的保持部；使上述保持部旋轉的驅動部；向上述保持部所保持的上述基板的表面供給上述處理液的處理液供給部；以及至少控制上述驅動部的控制部。 而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的第一轉速慢的第二轉速旋轉，由所涂布的上述處理液形成膜。 本專利技術能夠提供能夠實現處理液的利用效率提高以及膜厚的均勻化的。 【專利附圖】【附圖說明】 圖1是用于例示本實施方式的成膜裝置I的模式截面圖。 圖2是用于例示本實施方式的成膜裝置I的模式平面圖。 圖3是用于例示處理液110的供給和基板100的表面上的處理液110的涂布方式的模式圖。 圖4是用于例示比較例的膜120的形成的模式圖。 圖5是用于例示比較例的膜120的形成的模式圖。 圖6是用于例示成膜裝置I的作用以及成膜方法的流程圖。 【具體實施方式】 以下，參照附圖來例示實施方式。另外，在各附圖中，對于相同的構成要素賦予相同的符號，并適當省略詳細說明。 圖1是用于例示本實施方式的成膜裝置I的模式截面圖。 圖2是用于例示本實施方式的成膜裝置I的模式平面圖。 此外，圖2是圖1的A-A線向視圖。 圖3是用于例示處理液110的供給和基板100的表面上的處理液110的涂布方式的模式圖。 如圖1和圖2所示，在成膜裝置I中設置有保持部2、驅動部3、罩4、處理液供給部 5、第一流動性控制部6、第二流動性控制部7以及控制部8。 保持部2用于載放基板100并且保持所載放的基板100。 保持部2設置在罩4的內部。保持部2具有載放部2a和軸部2b。 載放部2a呈圓板狀,一個面成為載放基板100的載放面2aI。另外,載放部2a對載放面2al上所載放的基板100進行保持。例如，能夠通過使用了未圖示的真空泵等的吸附來進行基板100的保持。 軸部2b的一個端部設置在載放部2a的與載放面2al相反側的面上。另外，軸部2b的另一個端部與驅動部3連接。 驅動部3使保持部2旋轉。 驅動部3設置在罩4的內部。驅動部3例如能夠具備能夠使轉速變化的伺服馬達等控制馬達。 罩4被設置為至少包圍保持部2的周圍。 罩4抑制被涂布到基板100的表面上的處理液110向成膜裝置I的外部飛散。 罩4在中央部具有設置保持部2的空間4a。在空間4a的外側，設置有朝向罩4的底部傾斜的空間4b。空間4a以及空間4b的上方開口。另外，罩4的上面4e處于比載放部2a所載放的基板100的表面(上面)高的位置。 另外，在罩4的底部設置有排出口 4c。在排出口 4c連接有未圖示的回收部。從基板100排出的處理液110經由空間4b被導向到罩4的底部，并經由排出口 4c由未圖示的回收部回收。 處理液供給部5向由保持部2保持并旋轉的基板100的表面供給處理液110。 在該情況下，如圖3所示，在使噴嘴5a從基板100的中心側朝向外周端側移動的同時，從噴嘴5a向旋轉的基板100的表面供給處理液110。 于是，在基板100的表面上螺旋狀地涂布處理液110。 處理液供給部5具有噴嘴5a、收容部5b、供給部5c以及移動部5d。 在噴嘴5a的一端設置有吐出口 5al，在另一端設置有供給口 5a2。 收容部5b收容處理液110。 處理液110例如能夠為光致抗蝕劑(photo resist)液等。 供給部5c經由噴嘴5a將收容部5b所收容的處理液110向基板100的表面供給。供給部5c例如能夠具有泵、流量調節閥等。 移動部5d具有保持部5dl、軸部5d2、支持部5d3以及驅動部5d4。 保持部5dl設置在軸部5d2上，并沿著軸部5d2移動。另外，保持部5dl使吐出口5al側朝向載放部2a地保持噴嘴5a。 軸部5d2被設置為橫跨載放面2al的上方。 支持部5d3分別設置在軸部5d2的兩端。支持部5d3能夠設置在罩4的上面4e 坐μ~y|-~ 1.0 驅動部5d4與軸部5d2的一個端部連接。 移動部5d使保持部5dl所保持的噴嘴5a的位置變化。 例如，能夠使保持部5dl為螺母，使軸部5d2為滾珠絲杠，使驅動部5d4為伺服馬達等控制馬達。 第一流動性控制部6進行控制，以使由所涂布的處理液110形成的膜120的處于基板100的外周端附近的區域的流動性提高。 第二流動性控制部7進行控制，以使由所涂布的處理液110形成的膜120的流動性降低。 此外，與第一流動性控制部6以及第二流動性控制部7相關的詳細內容將后述。 控制部8對成膜裝置I中所設置的各要素的動作進行控制。 控制部8例如進行如下的控制:基于載放部2a的基板100的保持控制；基于驅動部3的保持部2的轉速控制(基板100的轉速控制)；基于供給部5c的處理液110的供給控制；基于驅動部5d4的噴嘴5a的位置控制；基于供給部6c的溶劑的供給控制；基于干燥單元7a的溶劑的蒸發控制；以及基于驅動部5d4的干燥單元7a的位置控制等。 在此，對于比較例的由處理液110形成的膜120的狀態進行例示。 圖4和圖5是用于例示比較例的膜120的狀態的模式圖。 在基板100的表面上形成膜120時，首先，如在圖3中例示的那樣，在使噴嘴5a從基板100的中心側朝向外周端側移動的同時，從噴嘴5a向旋轉的基板100的表面供給處理液 110。 于是，在基板100的表面上螺旋狀地涂布處理液110。 接下來，使基板100以比涂布處理液110時的轉速快的轉速旋轉。 如此，基板100的表面上螺旋狀地涂布的處理液110朝向基板100的外側擴本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種成膜裝置，從移動的噴嘴向旋轉的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉由所涂布的上述處理液形成膜，其中，具備：保持部，保持上述基板；驅動部，使上述保持部旋轉；處理液供給部，向上述保持部所保持的上述基板的表面供給上述處理液；以及控制部，至少控制上述驅動部，上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的第一轉速慢的第二轉速旋轉，而由所涂布的上述處理液形成膜。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：佐藤強，貴志壽之，
申請(專利權)人：株式會社東芝，
類型：發明
國別省市：日本;JP