浮雕釉的制作方法技術

本發明專利技術提供一種浮雕釉的制作方法，通過下述技術方案來實現：（1）將陶瓷生坯或素燒坯清理干凈，適當補水；（2）在不要釉面形成浮雕的部位施以透明釉或色釉；（3）在需要形成的浮雕部位或區域采用噴涂，刷涂或浸泡、蘸取方式施釉，干燥后釉層厚度保證0.6—0.8mm，均勻平滑；（4）施釉完成后，先在850－900°C溫度下排膜，再逐步升溫至1190－1220°C，保溫時間5－10分鐘，然后熄火冷卻。在陶瓷釉面上形成自然浮雕的方法融傳統和現代陶瓷釉面裝飾工藝于一體，以物理和化學反應的結果有機、科學地更新了手工雕飾。它不僅大大節約了生產成本，提高生產效率，更主要的是能取得人工所不能及的特殊效果，而且廣泛適用于日用陶瓷，工藝陶瓷和建筑衛生陶瓷等生產領域。

【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本專利技術提供一種，通過下述技術方案來實現：（1）將陶瓷生坯或素燒坯清理干凈，適當補水；（2）在不要釉面形成浮雕的部位施以透明釉或色釉；（3）在需要形成的浮雕部位或區域采用噴涂，刷涂或浸泡、蘸取方式施釉，干燥后釉層厚度保證0.6—0.8mm，均勻平滑；（4）施釉完成后，先在850－900°C溫度下排膜，再逐步升溫至1190－1220°C，保溫時間5－10分鐘，然后熄火冷卻。在陶瓷釉面上形成自然浮雕的方法融傳統和現代陶瓷釉面裝飾工藝于一體，以物理和化學反應的結果有機、科學地更新了手工雕飾。它不僅大大節約了生產成本，提高生產效率，更主要的是能取得人工所不能及的特殊效果，而且廣泛適用于日用陶瓷，工藝陶瓷和建筑衛生陶瓷等生產領域。【專利說明】
本專利技術屬于陶瓷工藝品制作
，尤其涉及一種。
技術介紹
要使陶瓷表面形成凹凸分明的浮雕且具有立體美感，傳統方法是采用雕刻，堆填或轉印等手段在陶瓷素坯上人為而成。但這樣產生的效果很不理想一凹陷部位積釉較厚，凹凸不明顯，棱角模糊，缺乏立體感，況且工藝復雜，成本昂貴。 在陶瓷生產實踐中，由于某些工序操作不當，一般會導致釉燒產品出現局部或大面積縮釉，從而嚴重影響產品質量和經濟效益。然而，就是這種“不良現象”卻給了我們一個意外的收獲。
技術實現思路
本專利技術提供一種，本專利技術方法簡單易行，產生的浮雕效果十分明顯，其線條流暢，紋理清晰，釉面光滑細膩，富有很強的觀賞性和適用性。 本專利技術，通過下述技術方案來實現:(1)將陶瓷生坯或素燒坯清理干凈，適當補水；(2)在不要釉面形成浮雕的部位施以透明釉或色釉；(3)在需要形成的浮雕部位或區域采用噴涂，刷涂或浸泡、蘸取方式施釉，干燥后釉層厚度保證0.6—0.8mm，均勻平滑；(4)施釉完成后，先在850— 900° C溫度下排膜，再逐步升溫至1190 — 1220° C，保溫時間5 — 10分鐘,然后熄火冷卻。 在陶瓷釉面上形成自然浮雕的方法融傳統和現代陶瓷釉面裝飾工藝于一體，以物理和化學反應的結果有機地科學地更新了手工雕飾。它不僅大大節約了生產成本，提高生產效率，更主要的是能取得人工所不能及的特殊效果，而且廣泛適用于日用陶瓷，工藝陶瓷和建筑衛生陶瓷等生產領域，特別是工藝陶瓷的應用，能適應國內外、特別是歐美市場的需求。 【具體實施方式】 下面通過具體的實施例對本專利技術作進一步的說明。 首先，將陶瓷生坯或素燒坯清理干凈，適當補水；其次，在不要釉面形成浮雕的部位如器皿瓷內壁施以通常的透明釉或色釉； 再次，運用傳統的轉印印花工藝在必要的區域形成五彩繽紛的圖案，花紋以及人物鳥 J1.口 ο 最后，在需要形成的部位或區域如器皿瓷的外表壁，扁平瓷的外邊沿采用噴涂，刷涂或浸泡、蘸取方式施釉，干燥后釉層厚度最好保證0.6-0.8_，均勻平滑，以便在干燥過程中因干裂而產生大量裂紋，釉層被裂紋分割成無數小塊，形成浮雕的雛形。 藝術裝飾:在自然浮雕釉中加入通常的陶瓷色基材料就能形成各種顏色的陶瓷釉，或者加入下列組成和配比所構成的色基材料也能夠達到如此效果。 由硅酸鋯52— 72%，氯化鈷9一29%，氧化鉻綠2 —10% (重量百分比)構成黑色色基材料，以5.3:100的比例加入自然浮雕釉，燒成后制品的“浮雕”即為黑色。 由氧化鐵紅6 — 26%，氯化鉻綠4 - 24%，氧化鋅39 — 59%，氧化鋁10 — 30% (重量百分比)構成棕色色基材料，以1.96:100的比例加入的比例加入自然浮雕釉，燒成后制品的“浮雕”即為棕色。 由氧化鐵紅,鋯英石,氧化鎘,鉻酸鉀,氧化錫,氧化鎂以及分散劑構成的紅色色基材料，以2 — 6:100的比例加入自然浮雕釉，燒成后的制品“浮雕”即為紅色。 由氧化二釩，氧化鋯，氧化鈷，氧化鋅構成的藍色色基材料，以2 — 6:100(重量比)的比例加入自然浮雕釉，燒成后制品的“浮雕”為藍色。 此外，還可以在陶瓷生坯或素燒坯上涂覆陶瓷行業常用的顏色涂料，然后施以浮雕釉就能形成有顏色背景的浮雕釉面。也可以將色基材料噴涂于施釉后的釉層上，釉燒后同樣形成有顏色的塊狀凸起浮雕。 制品燒成:施釉過程完成后，采用氧化燒成。如制品貼有花紙應先在850 — 900° C溫度下排膜，再逐步升溫至1210° C (最佳溫度應是1190 - 1220° C)，保溫時間5 — 10分鐘，然后熄火冷卻。這樣所得的陶瓷制品釉面就會自然形成凹凸分明，感覺細膩的浮雕形狀。 當然，值得注意的是最佳釉燒溫度必須因陶瓷釉組成變化而稍有變化，總之應高于陶瓷釉的玻化溫度，但如溫度過高時陶瓷釉的粘度太小，流動性過大而影響浮雕效果。 在陶瓷釉面上形成自然浮雕的方法融傳統和現代陶瓷釉面裝飾工藝于一體，以物理和化學反應的結果有機地科學地更新了手工雕飾。它不僅大大節約了生產成本，提高生產效率，更主要的是能取得人工所不能及的特殊效果，而且廣泛適用于日用陶瓷，工藝陶瓷和建筑衛生陶瓷等生產領域，特別是工藝陶瓷的應用，能適應國內外、特別是歐美市場的需求。在廣交會上受到很多客戶的青睞，為企業創造了效益。【權利要求】1.一種，其特征在于包括以下步驟: (1)將陶瓷生坯或素燒坯清理干凈，適當補水； (2)在不要釉面形成浮雕的部位施以透明釉或色釉； (3)在需要形成的浮雕部位或區域采用噴涂，刷涂或浸泡、蘸取方式施釉，干燥后釉層厚度保證0.6—0.8mm，均勻平滑； (4)施釉完成后，先在850— 900° C溫度下排膜，再逐步升溫至1190 — 1220° C，保溫時間5 — 10分鐘,然后熄火冷卻。【文檔編號】C04B41/86GK104230380SQ201310252164【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年6月24日 優先權日:2013年6月24日 【專利技術者】魏紅霞 申請人:魏紅霞本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種浮雕釉的制作方法，其特征在于包括以下步驟：（1）將陶瓷生坯或素燒坯清理干凈，適當補水；（2）在不要釉面形成浮雕的部位施以透明釉或色釉；（3）在需要形成的浮雕部位或區域采用噴涂，刷涂或浸泡、蘸取方式施釉，干燥后釉層厚度保證0.6—0.8mm，均勻平滑；（4）施釉完成后，先在850－900°C溫度下排膜，再逐步升溫至1190－1220°C，保溫時間5－10分鐘，然后熄火冷卻。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：魏紅霞，
申請(專利權)人：魏紅霞，
類型：發明
國別省市：江蘇;32