與足底吻合的部件、定制鞋的工業化生產方法及鞋技術

本發明專利技術涉及一種與足底吻合的部件，所述的部件針對不同足底形態進行區域劃分，并且針對足底形態設置相應的凸起使其與足底形態吻合。本發明專利技術還涉及一種定制鞋工業化生產方法，包括根據足底形態制作相應部件或鞋的半成品或成品、檢測足部參數和參數比較，選擇相應的匹配鞋或將半成品制作為成品。本發明專利技術還涉及一種包含上述部件及采用上述方法制備的鞋。本發明專利技術根據不同類別人群足部解剖結構及生理特點，制作相應的具有保護作用的鞋。采用本發明專利技術所述的方法定制的鞋與現有技術先檢測后制作制得的鞋子舒適性幾乎相同，足底壓力呈均勻分布，并且降低了生產成本，提高生產效率，可以順利地實現量化生產。

【技術實現步驟摘要】
與足底吻合的部件、定制鞋的工業化生產方法及鞋
本專利技術涉及一種鞋及鞋定制方法，屬于制鞋領域。
技術介紹
足骨由7塊跗骨、5塊跖骨和14塊趾骨組成。跗骨和跖骨借韌帶連結，形成足弓。足弓可起緩沖震蕩的作用。 足弓的主要功能是使重力從踝關節經距骨向前分散到跖骨小頭，向后傳向跟骨，以保證直立時足底支撐的穩固性。當身體跳躍或從高處落下著地時，足弓彈性起著重要的緩沖震蕩的作用。在行走，尤其是長途跋涉時，足弓的彈性對身體重力下傳和地面反彈力間的節奏有著緩沖作用，同時還有保持足底的血管和神經免受壓迫等作用。足弓的維持一是楔形骨保證了拱形的砌合，二是韌帶的彈性和肌肉收縮，使肌腱緊張，后者是維持足弓的能動因素。如韌帶或肌肉(腱)損傷，先天性軟組織發育不良或足骨骨折等均可導致足弓塌陷，形成扁平足。 足弓可分為縱弓及橫弓。足縱弓又分為內側縱弓和外側縱弓兩部。內側縱弓在足的內側緣，由跟骨、距骨、舟骨、3塊楔骨和內側第I?3跖骨構成，弓背的最高點為距骨頭。外側縱弓在足的外側緣，由跟骨、骰骨及第4、5跖骨構成，骰骨為弓的最高點。橫弓由各跖骨的后部及跗骨的前部構成，以第2楔骨最高。 正常人在站立時，人體的重力在足部沿著縱足弓和橫足弓的方向分布，這樣人體重力在足部的分布是均衡的。足弓正常的人站在足底壓力檢測儀上，所呈現的足底印跡顏色是均衡的，沒有壓力過度集中的高壓點。 足弓低平或高弓足的人，由于足弓結構異常，人體重力在足底的分布呈現不均衡狀態，部分足底壓力過度集中，出現高壓點。這類人群在日常的站立或行走過程中，由于足底壓力分布不均衡，會引起足內翻或外翻，進而會加重骨骼的畸形，嚴重者還會引起下肢關節損傷或變形，甚至還會造成脊柱側彎。因此，一雙合腳的鞋子不但讓人感覺舒適，還會對足弓形成全方位的保護。 目前市場上的足部保護裝置僅僅能夠起到避免足部被外物刺傷割傷或保暖的作用。雖然有扁平足的矯正鞋墊，但是僅僅是以一種堅硬的足弓托將足弓頂住，其完全沒有考慮足底的解剖結構及足弓的構成。堅硬的足弓托雖然能夠暫時托住足弓，但是由于會對足底筋膜、血管和神經造成嚴重的壓迫，會引起足底肌肉和韌帶松弛，無法形成正常的生理反射，會加重足弓的損傷。當然有部分鞋子在內底設置足弓托支撐足弓，但是由于此類產品均是同一模具制作，并且每個人的足部結構，尤其是足弓形成又不盡相同，因此 由于足弓正常的人和足弓畸形的人在生物力學、人體工程學和解剖結構都不盡相同，因此對多數人來說，如果穿著同一規格的鞋子不但不能起到有效保護足弓的作用，還會造成人為的損傷，其舒適度也較差。定制的鞋子價格異常昂貴，也無法量化生產。市場上還沒有針對不同的足底解剖結構設計的鞋子。 對于定制鞋，除要求鞋底結構與足弓形態盡可能吻合，以分散足底壓力，增加舒適性外，腳掌的寬度，即第一跖趾關節至第五跖趾關節的寬度，也對鞋子的舒適性有較大的影響。腳長度不同的人腳掌的寬度不同，即使腳長度相同的人，其腳掌的寬度也不盡相同。如何在獲得腳掌寬度的數據前即制作出相應的鞋底，并且實現工業化生產，也成為本領域技術人員待解決的技術問題。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種針對不同足底解剖結構設計的部件及鞋，所述的部件及鞋對不同足底結構形成有效的保護。 本專利技術的另一目的是提供一種價格低廉的定制鞋，所述的定制鞋較現有技術的定制鞋成本降低約80%以上，并且能夠量化生產。 本專利技術的另一目的是提供一種實現定制鞋量化生產的方法。 為解決上述問題，本專利技術的技術方案包括: 所述的部件為足底支撐元件，所述的足底支撐元件與足底的解剖結構相吻合；所述的足底解剖結構包括生理結構和病理結構；所述的病理結構包括足弓低平，足弓高拱，足內翻，足外翻或拇趾外翻等。 所述的支撐元件還可以針對足部解剖結構，調整人體在足部的壓力分布，以達到均衡分散人體重力，可以使人在運動或行走時更加舒適，同時可以到達矯姿的目的。 所述的支撐元件包括鞋大底、鞋中底或鞋內底。 將足底進行三維劃分，從踵部到腳趾的方向為X軸，從足外側到足內側的方向為Y軸，垂直足底平面的方向為Z軸。 相應地，將本專利技術所述的支撐元件也進行三維劃分，從踵部到腳趾的方向為X軸，從足外側到足內側的方向為y軸，垂直足底平面的方向為z軸。 為更好說明本專利技術技術方案，專利技術人對本專利技術的支撐元件進行如下區域劃分: 第一條線是把足跟內側緣同大拇趾內側緣連成一切線； 第二條線是足跟中心點同第三趾中心點連成線； 第三條線是第一條線與第二條線之間夾角的平分線。 當足部骨骼正常時，X軸與X軸、Y軸與y軸、Z軸與z軸重合。此種情況下，內側凸起外側緣為第二條線。 對于足弓正常的人，本專利技術所述的部件可以與足底完全吻合，即實現與足底的全面接觸，足弓托不會過高或過低，使人體重力在足部均衡分散，能夠舒緩足部疲勞，避免由于壓力不均對足部造成的潛在損傷。 當足部骨骼畸形時，如扁平足、高弓足，X軸與X軸、Y軸與y軸或Z軸與Z軸會發塵不同程度的側移。 當發生扁平足時，足弓塌陷或低平，人體足部壓力的重心內移，嚴重扁平足的患者會出現足外翻癥狀。扁平足的患者Z軸方向的重力線a在Y軸方向內移。重力線a內移的角度(Θ)因足外翻的嚴重程度不同而存在差異。外翻越嚴重，Θ越大。針對此種情形，本專利技術所述的部件在與足底相對應的內側設置凸起部分，使人在站立時內側足底在水平位置上高于外側。通過設置不同高度的凸起，并且對凸起坡度與水平方向的夾角進行設計，可以使得內移的重力線a恢復到與Z軸重合的狀態(z軸與Z軸重合)，即夾角Θ為O。這就使得人體的重力沿Z軸方向作用在足弓上，能夠在足部均衡分散，可以矯正足外翻。 本專利技術還可以將所述的部件在與足底相對應的外側設置凹陷，使外側足底在水平位置低于內側；本專利技術還可以將所述的部件在與足底相對應的內側設置凸起，對應的外側設置凹陷。上述方案均可實現重力線a與Z軸的重合，即能夠實現對足外翻的矯正及足底壓力的均衡分散。 不同程度扁平足患者的足弓塌陷情況也不同，因此本專利技術根據不同的扁平足狀況設計相應的足底支撐元件，內側凸起也根據扁平足的情況進行調整。 根據上述三條線，可以進行內側凸起的設置: 輕度扁平足:內側凸起的外側緣(即y軸方向)第二條線以內，即內側凸起的外側緣未及第二條線； 中度和重度扁平足:內側凸起外側緣在第三條線以內。 所述的內側凸起X軸長度<跟骨至第一跖趾關節的長度。 優選地，所述的凸起坡面與水平方向的夾角不超過66.7度； 更優選地，所述的凸起坡面與水平方向的夾角為5?45度； 進一步優選地，所述的凸起坡面與水平方向的夾角為30度。 當發生高弓足時，患者足弓拱起過高，足底前掌與足跟之間的印跡是中斷或僅僅極少相連，人體壓力完全集中在足底前掌和足跟部分，嚴重的會導致人體重力線a外移，在行走時會引起足內翻。重力線a在Y軸方向外移，重力線a外移的角度(β)因足內翻的嚴重程度不同而存在差異。內翻越嚴重，β越大。 針對此種情形，本專利技術所述的部件與橫足弓對應的部分設置成凸起，使其在水平線上高于足前掌和足跟部分，或者將所述的部件對應的腳掌和足跟部分設置成凹陷，使其在水平線上低于對應的橫足弓部分。通過設置不同高度的凸起，并且對凸起坡度與水平方向(Y本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種與足底吻合的部件，包括支撐元件，所述的支撐元件進行如下區域劃分：第一條線是把對應的足跟內側緣同大拇趾內側緣連成一切線；第二條線是對應的足跟中心點同第三趾中心點連成一直線線；第三條線是第一條線與第二條線之間夾角的平分線；所述的支撐元件與正常足、扁平足和高弓足的足底吻合，其特征在于，所述的支撐元件包括以下結構：I.正常足支撐元件內側設置凸起，所述的內側凸起外側緣為第二條線；或II.扁平足支撐元件內側設置凸起，使人在站立時內側足底在水平位置上高于外側，針對不同程度的扁平足，所述的支撐元件包括以下結構：i.輕度扁平足：內側凸起的外側緣在第二條線以內；ii.中度和重度扁平足：內側凸起外側緣在第三條線以內；或III.高弓足所述的在支撐元件與橫足弓對應的部分設置成凸起，所述的凸起在水平線上高于足前掌和足跟部分，或將所述的部件對應的腳掌和足跟部分設置成凹陷，所述的凹陷在水平線上低于對應的橫足弓部分。

【技術特征摘要】
1.一種與足底吻合的部件，包括支撐元件，所述的支撐元件進行如下區域劃分: 第一條線是把對應的足跟內側緣同大拇趾內側緣連成一切線； 第二條線是對應的足跟中心點同第三趾中心點連成一直線線； 第三條線是第一條線與第二條線之間夾角的平分線； 所述的支撐元件與正常足、扁平足和高弓足的足底吻合，其特征在于，所述的支撐元件包括以下結構: 1.正常足 支撐元件內側設置凸起，所述的內側凸起外側緣為第二條線；或 I1.扁平足 支撐元件內側設置凸起，使人在站立時內側足底在水平位置上高于外側，針對不同程度的扁平足，所述的支撐元件包括以下結構: 1.輕度扁平足:內側凸起的外側緣在第二條線以內； i1.中度和重度扁平足:內側凸起外側緣在第二條線以內；或 II1.高弓足 所述的在支撐元件與橫足弓對應的部分設置成凸起，所述的凸起在水平線上高于足前掌和足跟部分，或將所述的部件對應的腳掌和足跟部分設置成凹陷，所述的凹陷在水平線上低于對應的橫足弓部分。2.根據權利要求1所述的與足底吻合的部件，其特征在于，所述的正常足和扁平足內側凸起X軸長度<跟骨至第一跖趾關節的長度。3.根據權利要求1或2所述的與足底吻合的部件，其特征在于，所述的凸起坡面與水平方向的夾角不超過66.7度；優選的，所述的凸起坡面與水平方向的夾角為5?45度；更優選的，所述的凸起坡面與水平方向的夾角為30度。4.根據權利要求1-3所述的與足底吻合的部件，其特征在于，所述的高弓足外側凸起內側緣在第二條線以外，或所述的凸起在第二條線外側足底對應的部分高于第二條線內側足底對應的部分；或 所述的外側凸起在X軸方向長度<跟骨到第四或第五跖趾關節的長度。5.根據權利要求1-4所述的與足底吻合的部件，其特征在于，所述的凸起坡面與水平方向的夾角不超過66.7度；優選的，所述的凸起坡面與水平方向的夾角5?45度；更優選的，所述的凸起坡面與水平方向的夾角為5?30度。6.一種定制鞋的工業化生產方法，包括以下步驟: (1)針對...

【專利技術屬性】
技術研發人員：崔卜東，崔渭然，
申請(專利權)人：曹晶晶，
類型：發明
國別省市：北京;11