一種脫細胞真皮基質及其制備方法和用途技術

本發明專利技術提供一種可以作為角膜修補材料的脫細胞真皮基質。所述脫細胞真皮基質包括乳頭層，厚度為100～800μm；本發明專利技術還提供了一種脫細胞真皮基質的制備方法以及所述脫細胞真皮基質的使用前的處理方法。在本發明專利技術的在另一方面，提供了本發明專利技術所述的脫細胞真皮基質在制備角膜修補材料中的用途。本發明專利技術的脫細胞真皮基質具有透明角膜針對性，發明專利技術人比較了超薄脫細胞乳頭層皮膚補片、人全層皮膚、全層角膜的切片，結果說明超薄脫細胞乳頭層皮膚補片內細胞去除完全，保留的細胞外基質排列整齊，接近角膜纖維的排列。因此，本發明專利技術的脫細胞真皮基質可以作為角膜修補材料用于治療和/或改善角膜變薄等眼部疾病。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種脫細胞真皮基質，其中，所述脫細胞真皮基質由真皮乳頭層制備獲得，并且所述脫細胞真皮基質的厚度為100～800μm；優選地，所述脫細胞真皮基質的規格為0.5cm×0.5cm～2cm×2cm，優選為1cm×1cm；優選地，所述脫細胞真皮基質來自人皮膚，更優選地，為尸體皮膚。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：楊淑珍，
申請(專利權)人：楊淑珍，
類型：發明
國別省市：北京;11