【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
一方面,本專利技術涉及一種根據權利要求1的前序部分的光學顯微鏡。 另一方面,本專利技術涉及一種根據權利要求16的前序部分的用于利用光學顯微鏡 記錄圖像的方法。
技術介紹
針對技術表面的特征化,并且尤其是針對粗糙度測量值和形貌的推導,當今使用 共焦的顯微術作為標準方法。該方法例如在M. Rahlwes,J. Seewig的技術表面的光學測量 (Optisches Messen technischer Oberfl^ichen ),Beuth 出版社,柏林,2009 中進行了描 述。 在很多共焦系統中,對試樣的掃描在此在所有三個空間方向上進行,也就是說,一 方面涉及點掃描系統,其中,光束在試樣上沿χ/y方向進行引導。為了推導出高度信息,另 一方面需要試樣相對于探測器單元進行運動,也即是沿Z方向運動。對于每個χ-y位置來 說都可以由依賴于Z位置的強度最大值推導出高度信息以及進而形貌。在該方法中,一方 面不利的是由于針對3D形貌的掃描所需要的長時間。另一方面,精度即高度測量的精確度 強烈地依賴于試樣表面相對于探測器單元的調節精確度,并且因此始終是有限的。換而言 之,高精度需要高精確且昂貴的例如基于壓電的機械調節元件。 為了避開χ-y掃描的缺點,已經長時間地存在有共焦的寬視場系統,在這些共焦 的寬視場系統中通常使用面掃描攝像機,并且這些共焦的寬視場系統因此具有高度的并行 化。對此的示例是同樣由Rahlwes和Seewig所描述的利用尼普科夫盤(Nipkow-Scheibe) 的旋轉盤方法。在此,多個點同時根據共焦原理被探測。 ...
【技術保護點】
一種光學顯微鏡,所述光學顯微鏡具有:多色光源(10),所述多色光源用于向試樣(60)方向發射出照射光(15);聚焦器件(50),所述聚焦器件用于將照射光(15)聚焦到所述試樣(60)上,其中,所述聚焦器件(50)具有縱向色差以產生深度分辨率;和探測裝置(80),所述探測裝置包括二維陣列的探測元件以檢測來自所述試樣(60)的試樣光(16),其特征在于,為了既檢測所述試樣光(16)的共焦部分又檢測所述試樣光(16)的非共焦部分,從所述試樣(60)到所述探測裝置(80)的光學路徑中沒有用于完全濾除非共焦部分的元件。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2012.05.16 DE 102012009836.71. 一種光學顯微鏡,所述光學顯微鏡具有: 多色光源(10),所述多色光源用于向試樣(60)方向發射出照射光(15); 聚焦器件(50),所述聚焦器件用于將照射光(15)聚焦到所述試樣¢0)上,其中,所述 聚焦器件(50)具有縱向色差以產生深度分辨率;和 探測裝置(80),所述探測裝置包括二維陣列的探測元件以檢測來自所述試樣(60)的 試樣光(16), 其特征在于, 為了既檢測所述試樣光(16)的共焦部分又檢測所述試樣光(16)的非共焦部分,從所 述試樣¢0)到所述探測裝置(80)的光學路徑中沒有用于完全濾除非共焦部分的元件。2. 根據權利要求1所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 在所述光源(10)與所述聚焦器件(50)之間存在有結構化的元件(30),所述結構化的 元件用于從由所述光源(10)發射出的照射光(15)產生結構化的照射光(15)。3. 根據權利要求2所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 在所述結構化的元件(30)與所述試樣(60)之間存在有分光鏡(40),所述分光鏡對于 照射光(15)來說是能穿透的,而對于來自所述試樣(60)的試樣光(16)來說是反射性的, 或者反過來。4. 根據權利要求3所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 所述分光鏡(40)是偏振分光鏡(40),并且在所述偏振分光鏡(40)與所述試樣之間存 在有λ/4板(41),以便轉動試樣光(16)的偏振方向,并且進而將試樣光(16)進一步引導 至探測裝置(80)。5. 根據權利要求2所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 來自所述試樣(60)的試樣光(16)通過所述結構化的元件(30)來引導至所述探測裝 置(80)上,并且 所述結構化的元件(30)的結構尺寸足夠大,以允許所述試樣光(16)的非共焦部分穿 過。6. 根據權利要求2至5中任一項所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 所述結構化的元件(30)在一側是被鏡化處理的,其中,來自所述試樣(60)的試樣光 (16)被引導至所述結構化的元件(30)的被鏡化處理的側上,并且在那里部分反射且部分 透射, 所述探測裝置(80)具有第一探測器和第二探測器(81、82), 所述第一探測器(81)布置成用于測量來自所述試樣(60)并在所述結構化的元件(30) 上透射的試樣光(16),并且 所述第二探測器(82)布置成用于測量來自所述試樣(60)并在所述結構化的元件(30) 上反射的試樣光(16)。7. 根據權利要求2至6中任一項所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 所述結構化的元件(30)具有尼普科夫盤、微透鏡陣列、光柵,尤其是1D光柵或2D光 柵,菲涅爾雙棱鏡或用于產生散斑圖樣的元件。8. 根據權利要求1至7中任一項所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 所述聚焦器件(50)包括光折射和/或光衍射的微透鏡陣列(48)以產生依賴于波長的 焦點位置(51)。9. 根據權利要求1至8中任一項所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 存在有用于選出照射光(15)的能可變調節的光譜范圍的波長選擇裝置(20),以便通 過所述聚焦器件(50)將照射光(15)聚焦至沿所述光學顯微鏡的光軸的不同的位置上,并 且 存在有用于借助所述波長選擇裝置(20)選出光譜范圍的電子控制器件(90)。10. 根據權利要求9所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 所述波長選擇裝置(20)具有棱鏡、光柵、濾色器和/或聲光可調諧濾波器(AOTF)。11. 根據權利要求2至10中任一項所述的光學顯微鏡, 其特征在于, 存在有用于將照射光(15)有選擇地引導至第一光路或第二光路(17、18)的轉向裝置 (25), 所述結構化的元件(30)在一側是被鏡化處理的, 其中,所述第一光路(17)的照射光(15)被引導至所述結構化的元件(30)的被鏡化處 理的側上,并且在所述結構化的元件(30)上向所述試樣(60)方向反射,并且 其中,所述第二光路(18)的照射光(15)被引導至所述結構化的元件(30)的另一側 上,并且通過所述結構化的元件(30)向試樣(60)方向透射,并且 其中,透射的照射光(15)和反射的照射光(15)在所述試樣(60)上產生所述結構化的 元件(30)的彼此相移的成像。12. 根據權利要求1...
【專利技術屬性】
技術研發人員:赫爾穆特·利珀特,拉爾夫·內茨,蒂莫·安胡特,尼爾斯·蘭霍爾茨,馬蒂亞斯·朗霍斯特,
申請(專利權)人:卡爾蔡司顯微鏡有限責任公司,
類型:發明
國別省市:德國;DE
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