【技術實現步驟摘要】
一種分體式光電直讀光譜分析儀
本專利技術涉及光譜分析
，尤其涉及一種分體式光電直讀光譜分析儀。
技術介紹
在冶金行業中，如何精確的對黑色金屬和有色金屬進行成分分析是個很棘手的問題。光譜分析法是目前使用最為廣泛的分析方法，然而由于光學儀器都比較復雜，制作精度高，檢測結果的運算十分繁瑣，所以在生產過程中的應用十分有限。本專利技術提出一種適應大場所的分體式光電直讀光譜分析儀。
技術實現思路
為了解決
技術介紹
中存在的技術問題，本專利技術提出了一種分體式光電直讀光譜分析儀，采用分體式結構，結構簡單，組裝方便快捷，便于在大場所的生產過程中應用。 本專利技術提出的一種分體式光電直讀光譜分析儀，包括從下到上依次設置的激發室、分光室和數據處理室，激發室和分光室均設置在導軌上并可沿水平方向移動，激發室內設有放置樣品的激發臺和正對樣品的激發光源，激發光源激發樣品產生特征光譜線，分光室內設有入射反光鏡、入射狹縫、凹面光柵、出射狹縫和光電倍增管，入射狹縫、出射狹縫位于以凹面光柵為中心的弧形線上，特征光譜線入射光學室內射在入射反光鏡上，并產生反射經入射狹縫照在凹面光柵上，經凹面光柵反射多條特征光譜線經多個出射狹縫射到對應的光電倍增管上；數據處理室內設有信號處理板和單片機板，數據處理室上設有多個數據輸入接口和數據輸出接口，各個光電倍增管通過信號線與對應的數據輸入接口連接，數據輸入接口同信號處理板連接，數據輸出接口通過信號線與上位計算機連接，數據輸出接口同單片機板連接。 優選地，單片機板設有固定信號處理板的插口，數據輸出接口焊接在單片機板...
【技術保護點】
一種分體式光電直讀光譜分析儀，其特征在于，包括從下到上依次設置的激發室(11)、分光室(12)和數據處理室(13)，激發室(11)和分光室(12)均設置在導軌上并可沿水平方向移動，激發室(11)內設有放置樣品的激發臺(111)和正對樣品的激發光源(112)，激發光源(112)激發樣品產生特征光譜線，分光室(12)內設有入射反光鏡(121)、入射狹縫(122)、凹面光柵(123)、出射狹縫(124)和光電倍增管(125)，入射狹縫(122)、出射狹縫(124)位于以凹面光柵(123)為中心的弧形線上，特征光譜線入射光學室(12)內射在入射反光鏡(121)上，并產生反射經入射狹縫照(122)在凹面光柵(123)上，經凹面光柵(123)反射多條特征光譜線經多個出射狹縫(124)射到對應的光電倍增管(125)上；數據處理室(13)內設有信號處理板(131)和單片機板(132)，數據處理室(13)上設有多個數據輸入接口(133)和數據輸出接口(134)，各個光電倍增管(125)通過信號線與對應的數據輸入接口(133)連接，數據輸入接口(133)同信號處理板(131)連接，數據輸出接口(134)通...
【技術特征摘要】
1.一種分體式光電直讀光譜分析儀，其特征在于，包括從下到上依次設置的激發室(11)、分光室(12)和數據處理室(13)，激發室(11)和分光室(12)均設置在導軌上并可沿水平方向移動，激發室(11)內設有放置樣品的激發臺(111)和正對樣品的激發光源(112)，激發光源(112)激發樣品產生特征光譜線，分光室(12)內設有入射反光鏡(121)、入射狹縫(122)、凹面光柵(123)、出射狹縫(124)和光電倍增管(125)，入射狹縫(122)、出射狹縫(124)位于以凹面光柵(123)為中心的弧形線上，特征光譜線入射光學室(12)內射在入射反光鏡(121)上，并產生反射經入射狹縫照(122)在凹面光柵(123)上，經凹面光柵(123)反射多條特征光譜線經多個出射狹縫(124)射到對應的光電倍增管(125)上；數據處理室(13)內設有信號處理板(131)和單片機板(132)，數據處理室(13)上設有多個數據輸入接口(133)和數據輸出接口(134)，各個光電倍增管(125)通過信號線與對應的數據輸入接口(13...
【專利技術屬性】
技術研發人員：陳進，
申請(專利權)人：合肥卓越分析儀器有限責任公司，
類型：發明
國別省市：安徽;34
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