【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體超聲波清洗領域,特別涉及。
技術介紹
現有技術的超聲波清洗器(如CDE200系列的超聲波清洗器),在制程過程中會對石英管有所消耗,隨著機臺射頻時間的增加,石英管的管壁會逐漸變薄,由于微波系統固定在石英管上,因此在制程過程中僅能消耗微波系統固定連接處的石英管。增加了超聲波清洗器的維護次數。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種減小超聲波清洗器的維護系及維護方法,將微波系統與機臺之間的連接設為活動,在制程過程中改變敷料器的位置,使得石英管在制程過程中均勻消耗,減少超聲波清洗器的維護次數,從而增加石英管的使用時間。 為了實現以上目的,本專利技術是通過以下技術方案實現的:一種減小超聲波清洗器的維護系統,其特點是,包含:機臺,其包含石英管;微波系統,其一端活動套置在石英管上。 所述的機臺還包含依次相連的氣體管線和雙噴嘴;其中所述的石英管水平設置,并與氣體管線的輸入端相連;氣體從石英管進入,并經由氣體管線輸送至雙噴嘴。 所述的機臺還包含靜電吸盤,其位于雙噴嘴的下部;氣體通過雙噴嘴噴出,并通過設置在雙噴嘴的下部的靜電吸盤沉淀,最后從機臺底部排出。 所述的微波系統包含自動調頻器、以及依次相連的定向混頻器、虛擬載荷絕緣器和微波振蕩器;所述的自動調頻器一端與定向混頻器相連,其另一端活動套置在石英管上。 所述的自動調頻器另一端通過高頻電極活動連接在石英管上,并使得所述的微波系統沿著石英管滑動。 本專利技術與現有技術相比,具有以下優點:本專利技術將微波系統與機臺之間的連接設為活動,在制程過程中改變敷料器的位置, ...
【技術保護點】
一種減小超聲波清洗器的維護系統,其特征在于,包含:機臺(1),其包含石英管(11);微波系統(2),其一端活動套置在石英管(11)上。
【技術特征摘要】
1.一種減小超聲波清洗器的維護系統,其特征在于,包含: 機臺(1),其包含石英管(11); 微波系統(2 ),其一端活動套置在石英管(11)上。2.如權利要求1所述的減小超聲波清洗器的維護系統,其特征在于,所述的機臺(I)還包含依次相連的氣體管線(12)和雙噴嘴(13); 其中所述的石英管(11)水平設置,并與氣體管線(12)的輸入端相連; 氣體從石英管(11)進入,并經由氣體管線(12)輸送至雙噴嘴(13)。3.如權利要求2所述的減小超聲波清洗器的維護系統,其特征在于,所述的機臺還包含靜電吸盤(14),其位于雙噴嘴(13)的下部; 氣體通過雙噴嘴(13)噴出,并通過設置在雙噴嘴(13)的下部的靜電吸盤(14)沉淀,最后從機臺(I)底部排出。4.如權利要求1-3任一項所述的減小超聲波清洗器的維護系統,其特征在于,所述的微波系統...
【專利技術屬性】
技術研發人員:代勇,
申請(專利權)人:上海華虹宏力半導體制造有限公司,
類型:發明
國別省市:上海;31
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