一種用于流體涂布的狹縫涂布頭腔體結構制造技術

本發明專利技術公開了一種用于流體涂布的狹縫涂布頭腔體結構，包括上游模、下游模、以及夾在上游模與下游模之間的墊片，上游模、下游模和墊片裝配形成了由流體進口、分配主腔、阻流流道、穩壓副腔、擴展流道、及流體出口組成的腔體；分配主腔設置為V型結構，阻流流道的長度H3由模頭的中心向模頭端部遞減。穩壓副腔設置為半水滴結構。本發明專利技術通過優化設計現有狹縫擠壓式涂布頭的內部腔體結構，優化流體在涂布頭腔體內流動的過程中的壓力分布以及流體在腔體中的流動性，從而改善流體涂布時存在的涂布的不均勻性及流體在腔體內沉降的問題。

【技術實現步驟摘要】
一種用于流體涂布的狹縫涂布頭腔體結構
本專利技術涉及向箔材和板材上涂布流體的狹縫涂布頭腔體結構。
技術介紹
現有的向箔材和板材上涂布流體的狹縫涂布頭的副腔截面形狀如圖1a與1b所示，是現行的擠出狹縫涂布頭2的結構，是由下游模21和上游模22及夾在下游模21和上游模22之間的墊片23用17個裝配螺栓24連接后且形成了由流體進口221、分配主腔222、阻流流道223、穩壓副腔224、擴展流道225及流體出口226組成的擠壓式狹縫涂布頭的腔體。涂布流體由與流體進口221以螺紋連接的管道輸送到流體入口進而進入涂布頭。狹縫涂布頭2的主要的缺點在于：如圖1a與1b所示，分配主腔直接就是一個半圓柱，分配主腔222出流邊沿為一條垂直于模頭中心面的直線227，穩壓副腔224的截面形狀為一下沉的半圓，這種設計沒有考慮到流體在腔體內的流動性能、流變特性以及沿主腔輸送時的沿程壓力損失，從而造成存在以下缺點:a、涂到箔材或板材上的涂層存在中間厚兩邊薄的不均勻性缺陷；b、由于其未考慮流體在此種副腔中的流動性，從而造成流體在此種結構的副腔極易形成沉降從而造成涂布的不穩定性。擠壓式狹縫涂布頭2，為了首先解決缺陷a，加入了差動螺栓組25來調節流體出口高度H1，以此來解決缺陷a的問題。但是擠壓式狹縫涂布頭2在生產使用的過程中，流體入口的速度、流體特性（比如粘度、密度以及固含量）的變化都需要不同的H1的調節量，從而造成了生產有效時間的降低，進而降低了生產的效率。為了解決缺陷b，在生產的過程中最有效的方法就是根據漿料的流動性能以經驗統計定時長對狹縫式涂布頭2進行清理，這樣就又降低了生產的效率。市場上現有的狹縫涂布頭雖然可以通過增加唇口調節裝置及增加流體的穩定性來減小以上涂布頭先天的缺陷造成的影響，但是對于長時間大規模的涂層產品的量產的產品質量依然是一個巨大的考驗。因此，現有技術存在缺陷，需要改進。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是：提供一種涂布均勻性好、流體在腔體內無沉降的狹縫涂布頭腔體結構。本專利技術的技術方案如下：一種用于流體涂布的狹縫涂布頭腔體結構，包括上游模、下游模、以及夾在上游模與下游模之間的墊片，上游模、下游模和墊片裝配形成了由流體進口、分配主腔、阻流流道、穩壓副腔、擴展流道、及流體出口組成的腔體；分配主腔設置為V型結構，阻流流道的長度H3由模頭的中心向模頭端部遞減。應用于上述技術方案，所述的狹縫涂布頭腔體結構中，分配主腔設置為截面的V型結構。應用于各個上述技術方案，所述的狹縫涂布頭腔體結構中，分配主腔設置為截面半圓柱的V型結構。應用于各個上述技術方案，所述的狹縫涂布頭腔體結構中，穩壓副腔的壁面設置為斜面。應用于各個上述技術方案，所述的狹縫涂布頭腔體結構中，穩壓副腔的截面設置為半水滴結構。應用于各個上述技術方案，所述的狹縫涂布頭腔體結構中，壁面的斜面角度為θ2，其中，θ2的取值范圍：30°≤θ2≤50°。應用于各個上述技術方案，所述的狹縫涂布頭腔體結構中，V型分配主腔的V型角度為θ1，其中，θ1的取值范圍：120°≤θ1≤180°。應用于各個上述技術方案，所述的狹縫涂布頭腔體結構中，擴展流道的長度大于阻流流道的長度。應用于各個上述技術方案，所述的狹縫涂布頭腔體結構中，上游模、下游模和墊片采用機械裝配形成腔體。采用上述方案，本專利技術通過將分配主腔設置為V型結構，阻流流道的長度H3由模頭的中心向模頭端部遞減，穩壓副腔設置為半水滴結構，從而優化設計現有狹縫擠壓式涂布頭的內部腔體結構，優化流體在涂布頭腔體內流動的過程中的壓力分布以及流體在腔體中的流動性，從而解決了流體涂布時存在的涂布的不均勻性及流體在腔體內沉降的問題。附圖說明圖1a為現有技術的結構示意圖；圖1b為現有技術的截面結構示意圖；圖2為現有涂布頭的涂布厚度分布圖；圖3為本專利技術的結構原理圖；圖4a為本專利技術的結構示意圖；圖4b為本專利技術的截面結構示意圖；圖4c為本專利技術中俯視結構示意圖。具體實施方式以下結合附圖和具體實施例，對本專利技術進行詳細說明。本實施例提供了一種用于流體涂布的狹縫涂布頭腔體結構，一般的狹縫涂布頭腔體結構如圖3所示，狹縫涂布頭1由上游模12、下游模11以及夾在上游模12與下游模11之間的墊片13共同組成，并形成了涂布流體的通道，如圖中黑色區域所示。涂布流體依次經過進口121到達分配主腔122，然后由分配主腔122分配到垂直于紙面的方向上，后再經阻流狹縫123到達穩壓副腔124，在穩壓副腔124進行壓力平衡之后進入擴展流道125，到達涂布出口后涂到箔材或者板材14之上，由于箔材或者板材14以V的速度往設定方向運動，從而在箔材或者板材14上形成了涂布層15。本實施例的流體涂布的狹縫涂布頭腔體結構如圖4a、4b和4c所示，擠壓式涂布頭3的結構，依然是由下游模31和上游模32及夾在下游模31和上游模32之間的墊片33組成，下游模31、上游模32和墊片33之間，通過機械裝配形成腔體，例如，通過17個裝配螺栓34組裝形成腔體，組裝后形成由流體進口321、分配主腔322、阻流流道323、穩壓副腔324、擴展流道325及流體出口326組成的擠壓式狹縫涂布頭的腔體。其中，流體入口的作用是用于流體由此進入涂布頭，優選的，流體入口的形狀可以設置為圓形，通過管螺紋與流體的輸送管道連接；分配主腔的作用是將涂布流體分配到整個涂布寬度上，優選的，分配主腔的可以設置為截面半圓柱的V型結構；阻流流道的作用是連接分配主腔與穩壓主腔，并通過它的阻流作用在分配主腔中蓄壓以有利于流體在分配主腔內沿涂布寬度方向的分配；穩壓副腔的作用是降低進入的流體的流速，減小流體在分配主腔內分配時由于沿程壓力損失而造成的壓力不均，優選的，穩壓副腔可以設置為更有利于流體流動的截面為半水滴的結構；擴展流道的作用是以穩定的流速、穩定的流態、沿涂布寬度方向穩定的壓力變化將流體輸送到流體出口處，優選的，擴展流道的長度大于阻流流道的長度；流體出口，流體由此離開涂布頭，涂布到箔材或板材上。其中，涂布流體由與流體進口321以螺紋連接的管道輸送到流體入口進而進入涂布頭腔內，涂布流體通過泵等裝置提供動力后由涂布頭腔體的流體進口進入，依次經過分配主腔、阻流流道、穩壓副腔及擴展流道，然后經流體出口后涂布到箔材和板材上去。并且，考慮到涂布流體的流變特性、流體的流動性以及沿分配主腔輸送時的沿程壓力損失，將分配主腔322設置為V型，如圖4c所示，分配主腔322的出口邊沿327呈現V型，此時阻流流道323的長度H3由模頭的中心向模頭端部遞減，這樣可以補償流體在分配主腔322中輸送時的沿程壓力損失。分配主腔322的出口邊沿327呈現V型，有利于增加流體在分配主腔322內分配流動時壁面處的剪切強度，從而可以增加流體的整體流動性，避免了流體靠近壁面處的蓄積。至于V型分配主腔322中的V型角度θ1的大小則需要根據流體的流變特性、涂布頭的涂覆寬度H4以及主腔流道的截面半徑，通過理論計算及實驗分析來確定，如圖4c所示，其中，優選的，V型分配主腔322中的V型角度θ1的取值范圍：120°≤θ1≤180°。再者，考慮到流體在穩壓副腔324內的流動性，將穩壓副腔324的壁面328設計為斜面，壁面328的斜面角度為θ2，其中，θ2的取值范圍為：30°≤θ2≤50°，這樣就本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于流體涂布的狹縫涂布頭腔體結構，包括上游模（12）、下游模（11）、以及夾在上游模（12）與下游模（11）之間的墊片（13），上游模（12）、下游模（11）和墊片（13）裝配形成了由流體進口（321）、分配主腔（322）、阻流流道（323）、穩壓副腔（324）、擴展流道（325）、及流體出口（326）組成的腔體；其特征在于：分配主腔（322）設置為V型結構，阻流流道（323）的長度H3由模頭的中心向模頭端部遞減。

【技術特征摘要】
1.一種用于流體涂布的狹縫涂布頭腔體結構，包括上游模（12）、下游模（11）、以及夾在上游模（12）與下游模（11）之間的墊片（13），上游模（12）、下游模（11）和墊片（13）裝配形成了由流體進口（321）、分配主腔（322）、阻流流道（323）、穩壓副腔（324）、擴展流道（325）、及流體出口（326）組成的腔體；其特征在于：分配主腔（322）設置為V型結構，阻流流道（323）的長度H3由模頭的中心向模頭端部遞減；分配主腔（322）設置為截面半圓柱的V型結構，并且，分配主腔（322）的出口邊沿（327）呈現V型設置；穩壓...

【專利技術屬性】
技術研發人員：彭建林，劉宗輝，王精華，
申請(專利權)人：深圳市旭合盛科技有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44