高爾夫球桿頭制造技術

一種高爾夫球桿頭在其中具有空心并且桿頭體積不小于100cc并且小于350cc。桿頭包括彼此聯結的桿頭主體和實質上杯狀的桿面構件。桿面構件一體地包括：桿面部分，該桿面部分具有用于擊球的桿面；和折回部，該折回部從桿面的外周邊緣向桿頭的后方延伸。桿面構件的內表面設置有凹槽，該凹槽沿著折回部與桿面部分的邊界延伸。桿面構件是沖壓形成部件，該桿面構件的折回部通過沖壓加工被彎曲。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
高爾夫球桿頭
本技術涉及一種回彈性能極好的高爾夫球桿頭。
技術介紹
日本專利申請公報No. 2009-285452公開了一種空心高爾夫球桿頭的制造方法。 該制造方法包括杯狀桿面構件的制造工藝，該桿面構件限定桿頭的桿面部分并且設置有折 回部。該制造工藝包括：將用于桿面構件的平板狀部的與折回部對應的全部部分切割并變 薄的步驟，和通過沖壓加工形成折回部的步驟。
技術實現思路
通常，具有杯狀桿面構件的高爾夫球桿頭具有以下趨勢，即回彈性能被提高并且 在桿頭的前后方向上測量的折回部的尺寸增大。 另一方面，當折回部要通過沖壓加工被設置成平板狀，因為折回部的尺寸增大變 得難以將其彎曲，所以，生產效率存在問題。 所以，本技術的目的是提供一種高爾夫球桿頭，其中，即使折回部在前后方向 上具有較大的尺寸，生產效率也能夠提高。 根據本技術，一種高爾夫球桿頭在其中具有空心并且該高爾夫球桿頭的桿頭 體積不小于IOOcc并且小于350CC，并且包括彼此聯結的桿頭主體和實質上杯狀的桿面構 件，其中 桿面構件一體地包括：桿面部分，該桿面部分具有用于擊球的桿面；和折回部，該 折回部從桿面的外周邊緣向桿頭的后方延伸， 桿面構件在空心側的內表面被設置有凹槽，該凹槽沿著折回部與桿面部分的邊界 延伸，并且 桿面構件是沖壓形成部件，該沖壓形成部件的折回部通過沖壓加工被彎曲。 根據本技術的高爾夫球桿頭可以具有以下特征（1)-(6): (1)上述凹槽是僅僅沿著邊界的底側部延伸的底側凹槽； (2)底側凹槽在桿頭的趾跟方向上從在趾跟方向上與桿面的甜蜜點的位置對應的 位置朝向桿頭的趾部并且朝向桿頭的跟部延伸至少5mm ; (3)桿面部分被設置有：第一部分，該第一部分形成在桿面部分的中心部，并且具 有恒定的厚度；第二部分，該第二部分形成在第一部分的外側，并且具有小于第一部分的厚 度的恒定的厚度；和過渡部分，該過渡部分繞著第一部分環狀地延伸，并且具有從第一部分 朝向第二部分逐漸減小的變化的厚度， 在第一部分的冠側，過渡部分延伸到邊界從而過渡部分和邊界之間的交叉處位于 甜蜜點的跟側， 在第一部分的底側，過渡部分延伸到邊界從而過渡部分和邊界之間的交叉處位于 甜蜜點的趾側， 桿面部分在過渡部的趾側的部分和桿面部分在過渡部的跟側的部分構成第二部 分，并且 底側凹槽具有趾側端，趾側端位于第一部分的底側的交叉處的范圍內； (4)底側凹槽在桿頭的趾跟方向上從桿面的甜蜜點朝向桿頭的趾部和朝向桿頭的 跟部延伸至少5mm，并且 甜蜜點和桿面的跟側端之間在趾跟方向上的距離大于甜蜜點和桿面的趾側端之 間在趾跟方向上的距離； (5)底側凹槽在桿頭的趾跟方向上從桿面的甜蜜點朝向桿頭的趾部和朝向桿頭的 跟部延伸至少5mm，并且 底側凹槽具有跟側端和趾側端，從而甜蜜點和底側凹槽的跟側端之間在趾跟方向 上的距離大于甜蜜點和底側凹槽的趾側端之間在趾跟方向上的距離； (6)在凹槽處測量的桿面構件的厚度為0. 5至2. 0mm。 因此，雖然桿面構件是折回部在沖壓加工過程中被彎曲的沖壓形成部件，由于凹 入部的相對小的厚度，折回部能夠被容易地彎曲，所以，桿頭特別是杯狀的桿面構件的生產 效率能夠被提高。 進一步，該凹槽有利于在被1?爾夫球擊中時桿面部分的偏斜，所以，根據本實用新 型的高爾夫球桿頭的回彈性能能夠被提高。 在包括說明書和權利要求的本申請中，除非另作說明，關于桿頭的尺寸、位置、方 向等等以桿頭的標準狀態為參照。 這里，桿頭的標準狀態為桿頭被放置在水平面HP上從而桿身（未顯示）的軸線以 規定的桿頭傾角α傾斜同時保持軸線在堅直平面上，并且桿面相對于水平面HP形成規定 的桿面傾角（實際桿面傾角）。附帶地，在只有桿頭的情況下，桿身插入孔的中心線能夠被 用來代替桿身的軸線。 前后方向為平行于投影在水平面HP上的直線的方向，其中該直線通常被繪制成 垂直于桿面并且經過桿頭的重心G。 趾跟方向為平行于水平面HP并垂直于前后方向的方向。 甜蜜點SS為桿面和通常繪制成垂直于桿面并且經過桿頭的重心G的直線的交 點。 桿面2的外周邊緣能夠通過脊線被限定，如果該脊線是容易辨認的。然而，如果由 于弧度平滑的變化使得桿面2的外周邊緣不清楚，則改為使用如下虛擬的脊線，該脊線基 于曲率變化被限定。如圖4(A)所示，在各個切割平面Ε1、Ε2……上，該切割平面包括在甜 蜜點SS和桿頭的重心G之間延伸的直線，如圖4(B)所示，從中心SS到桿面的外圍的過程 中桿面部分的剖面線Lf的曲率半徑（r)首次變得低于200_的點被確定。則虛擬的脊線 被限定為這些點的軌跡。 【附圖說明】 圖1是根據本技術的實施例的方法制造的高爾夫球桿頭的立體圖。 圖2是在標準狀態下的高爾夫球桿頭的前視圖。 圖3是高爾夫球桿頭的分解立體圖。 圖4㈧和4(B)分別是為了說明桿面的外周邊緣的桿頭的前視圖和截面圖。 圖5是說明從板材剪裁用于桿面構件的平板狀部分的圖。 圖6(A)_6(C)是為了說明桿面構件的制造工藝的平板狀部分的示意截面圖。 圖7是用于桿面構件的平板狀部的后視圖。 圖8是圖6 (C)的凹入部的放大截面圖。 圖9是用于桿面構件的平板狀部的后視圖。 圖10是為了說明在用于桿面構件的平板狀部上執行的沖壓加工的平板狀部的凹 入部的放大截面圖。 圖11是桿面構件的后視圖。 圖12是沿圖11中A-A線的截面圖。 【具體實施方式】 現在結合附圖詳細描述根據本技術的實施例的高爾夫球桿頭及其制造方法。 如圖3所示，桿頭1在其中被設置有空心⑴并且具有空心結構。 該實施例中的桿頭1的桿頭體積不小于IOOcc (立方厘米）并且小于350cc。典型 地，具有這樣的桿頭體積的桿頭用于球道木或實用型球桿。這種桿頭具有許多機會擊打放 置在地面上的高爾夫球而不是放在球座上的高爾夫球，所以，其具有許多機會在桿面的下 部擊中1?爾夫球。 根據本技術，雖然桿頭1的桿頭體積被限制，但是桿號和桿面傾角沒有被限 制。 桿頭1包括桿面部分3、冠部分4、底部分5、側部分6和插口部分7。 桿面部分3的前表面限定用于擊打高爾夫球的桿面2。桿面2具有圍繞其周圍延 伸的外周邊緣，并且包括上邊緣2a、下邊緣2b、趾側邊緣2c和跟側邊緣2d。桿面2可以設 置有劃線和/或沖標記（未顯示）。 冠部分4從桿面2的上邊緣2a向桿頭的后方延伸，以便形成桿頭的頂表面。 底部分5從桿面2的下邊緣2b向桿頭的后方延伸，以便形成桿頭的底面。 側部分6在冠部分4和底部分5之間延伸，并通過桿頭的背側從桿面2的趾側邊 緣2c向桿面2的跟側邊緣2d延伸。 插口部分7形成在桿頭1的跟側。插口部分7是管狀的，并且設置有桿身插入孔 7a，桿身（未顯示）被插入到該桿身插入孔7a中。 桿頭1包括桿面構件IA和桿頭主體1B，如圖3所示。 在該實施例中，桿面構件IA和桿頭主體IB都由金屬材料制成。例如，不銹鋼、馬 氏體鋼、鈦合金等等能夠適合用作該金屬材料。然而，桿頭主體IB可以本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種高爾夫球桿頭，其特征在于，所述高爾夫球桿頭在其中具有空心并且所述高爾夫球桿頭的桿頭體積不小于100cc并且小于350cc，并且包括彼此聯結的桿頭主體和實質上杯狀的桿面構件；其中，?所述桿面構件一體地包括：桿面部分，所述桿面部分具有用于擊球的桿面；和折回部，所述折回部從所述桿面的外周邊緣向所述桿頭的后方延伸；?所述桿面構件在所述空心側的內表面設置有凹槽，所述凹槽沿著所述折回部與所述桿面部分的邊界延伸，并且?所述桿面構件是沖壓形成部件，所述桿面構件的折回部通過沖壓加工被彎曲。

【技術特征摘要】
2013.08.08 JP 2013-1654831. 一種高爾夫球桿頭，其特征在于，所述高爾夫球桿頭在其中具有空心并且所述高爾 夫球桿頭的桿頭體積不小于100CC并且小于350CC，并且包括彼此聯結的桿頭主體和實質 上杯狀的桿面構件；其中， 所述桿面構件一體地包括：桿面部分，所述桿面部分具有用于擊球的桿面；和折回部， 所述折回部從所述桿面的外周邊緣向所述桿頭的后方延伸； 所述桿面構件在所述空心側的內表面設置有凹槽，所述凹槽沿著所述折回部與所述桿 面部分的邊界延伸，并且 所述桿面構件是沖壓形成部件，所述桿面構件的折回部通過沖壓加工被彎曲。2. 如權利要求1所述的高爾夫球桿頭，其特征在于， 所述凹槽為僅僅沿著所述邊界的底側部延伸的底側凹槽。3. 如權利要求2所述的高爾夫球桿頭，其特征在于， 所述底側凹槽在所述桿頭的趾跟方向上從在所述趾跟方向上與所述桿面的甜蜜點的 位置對應的位置朝向所述桿頭的趾部并且朝向所述桿頭的跟部延伸至少5mm。4. 如權利要求2所述的高爾夫球桿頭，其特征在于， 所述桿面部分設置有： 第一部分，所述第一部分形成在所述桿面部分的中心部，并且具有恒定的厚度； 第二部分，所述第二部分形成在所述第一部分的外側，并且具有小于所述第一部的厚 度的恒定的厚度；和 過渡部分，所述過渡部分繞著所述第一部分環狀地延伸，并且具有從所述第一部分朝 向所述第...

【專利技術屬性】
技術研發人員：阿部浩史，
申請(專利權)人：鄧祿普體育用品株式會社，
類型：新型
國別省市：日本;JP