本發明專利技術公開了所述系統包括移動支架、控制器、和設置于移動支架上的調制器、吸附裝置，吸附裝置和調制器分別與移動支架滑動配合連接，調制器上設有光學感應裝置，光學感應裝置和吸附裝置均與控制器電性連接；光學感應裝置用于對基板進行光學異物檢測，控制器用于接收光學感應裝置的感應信號；控制器中運行有異物判斷模塊，異物判斷模塊根據光學感應裝置的感應信號對基板上是否存在異物作出判斷；若基板上存在異物，控制器啟動吸附裝置對異物進行吸附。本發明專利技術通過在調制器上僅設置一組光學感應裝置，即可對基板上的異物進行檢測，通過吸附裝置對基板上所存在的異物進行清除處理，實現對基板各位置處的光學異物檢測，可實現全面監控檢測，避免了調制器和基板受到異物劃傷。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及。
技術介紹
在陣列測試中調制器(modulator)下表面膜層距離玻璃基板僅有50um,玻璃基板上出現硬物易劃傷調制器下表面膜層。現有技術的解決方案是在調制器(modulator)上加裝一個吹氣裝置，將玻璃基板上可能出現的異物吹走，避免大顆粒異物劃傷調制器(modulator)下表面膜層,不能實現對基板的全面監控,異物清除效率低下。 中國專利文獻CN 1910745A公開了一種基板吸附裝置及基板貼合裝置，用于檢測致使基板損傷的異物混入，如圖1所示，基板吸附裝置包括:具有用于保持基板清潔的吸附面2’的工作臺1’;設置在工作臺1’的吸附面2’上的多個吸附口 3’；以及通過排氣通路與吸附口 3’連接的真空泵4’。此外，還包括檢測排氣通路內的壓力的壓力傳感器5’，在工作臺1’的除設置吸附口 3’的位置以外的區域形成有在工作臺1’的吸附面2’和工作臺1’的側面都開放的多個泄露槽6’。上述專利文獻是通過在基板工作臺1’的吸附面2’上設置多個吸附口 3’，通過排氣通路與吸附口 2’連接的真空泵4’來吸附異物，同時通過所設置的壓力傳感器5’來檢測排氣通路內的壓力大小，根據壓力大小檢測有無異物，并確定出存在異物的位置，其結構復雜，需要對各個吸附口 2’進行壓力傳感器5’的布置，成本較高。
技術實現思路
為了解決現有技術的問題，減少調制器損失的風險，簡化異物檢測結構。本專利技術提供了。 所述技術方案如下: 一方面本專利技術提供了所述系統包括移動支架、控制器、和設置于所述移動支架上的調制器、吸附裝置，所述吸附裝置和調制器分別與所述移動支架滑動配合連接，所述調制器上設有光學感應裝置，所述光學感應裝置和吸附裝置均與所述控制器電性連接；所述光學感應裝置用于對基板進行光學異物檢測，所述控制器用于接收所述光學感應裝置的感應信號；所述控制器中運行有異物判斷模塊，所述異物判斷模塊根據所述光學感應裝置的感應信號對基板上是否存在異物作出判斷；若基板上存在異物，所述控制器啟動所述吸附裝置對異物進行吸附。 所述的光學感應裝置包括一光學信號發射端和一光學信號接收端，所述光學信號發射端和光學信號接收端水平間隔設置于所述調制器的同一外側面上，所述光學信號發射端所發出的光學信號與基板平面平行，所述光學信號發射端所發出的光學信號與基板平面的距離為40-45 μ m。 所述調制器的各個外側面均設有一所述光學感應裝置，所述光學感應裝置卡置于所述調制器上。 所述的光學感應裝置包括一光學信號發射端、一光學信號接收端和至少一全反射鏡，所述光學信號發射端與所述光學信號接收端分別水平設置于所述調制器的兩外側面上；所述全反射鏡設置于所述調制器的外側面上，且與所述光學信號發射端所發出的光學信號相對應，用于將所述光學信號發射端所發出的光學信號水平反射至所述光學信號接收端。 所述調制器為具有方形橫截面或矩形橫截面的倒梯形結構，所述全反射鏡包括三個90度全反射鏡，其分別設置于所述調制器相鄰兩側面的連接處；所述光學信號發射端與所述光學信號接收端呈90°水平設置，且分別對應設置于所述調制器的相鄰兩側面上；所述光學信號發射端所發出的光學信號經三個所述全反射鏡依次反射后進入所述光學信號接收端。 所述吸附裝置包括:空氣過濾吸附端、真空抽吸端和壓縮氣體注入端；所述空氣過濾吸附端設置于所測基板的上方，所述空氣過濾器吸附端分別與所述的真空抽吸端和壓縮氣體注入端通過管路連接。 所述的光學感應裝置為激光感應器。 另一方面，本專利技術還提供了一種基于基板陣列測試的異物處理方法，所述方法包括以下步驟:通過安裝于調制器上的光學感應裝置對基板進行光學掃描，并將感應信號傳輸至控制器；控制器中的異物判斷模塊根據感應信號對基板上是否存在異物作出判斷；若光學感應裝置檢測到基板上存在異物，控制器控制吸附裝置移至異物所在位置，并對異物進行吸附；吸附結束后吸附裝置歸復原位。 所述的通過安裝于調制器上的光學感應裝置對基板進行光學掃描，并將光學信號傳輸至控制器，其具體方法是:光學感應裝置中的光學信號發射端向基板表面發射光學信號，光學信號經基板表面反射后由光學信號接收端接收信號，光學信號接收端將所接收到的光學信號信息傳輸至控制器。 所述的控制器中的異物判斷模塊根據光學信號對基板上是否存在異物作出判斷，其具體方法是:光學信號接收端接收到光學信號發射端的光學信號時，異物判斷模塊判斷基板上不存在異物；光學信號接收端未接收到光學信號發射端的光學信號時，異物判斷模塊判斷基板上存在異物。 本專利技術提供的技術方案帶來的有益效果是: 本專利技術通過在調制器上安裝光學感應裝置，同時還安裝有吸附裝置和控制器，光學感應裝置通過光學信號的傳輸對基板上是否存在異物作出檢測，控制器中的異物判斷模塊根據所述光學感應裝置的感應信號對基板上是否存在異物作出判斷；若基板上存在異物，控制器啟動所述吸附裝置對異物進行吸附。本專利技術通過對光學信號發射端所發出的光學信號是否被光學信號接收端接收來判斷基板上是否存在異物，若存在異物，所發出的光學信號會被異物阻擋，從而使得光學信號接收端無法接收到光學信號，進而判斷基板上存在異物，然后通過吸附裝置對異物進行吸附即可完成，結構簡單易行，不需要在工作臺上成型復雜的泄漏槽和吸附口結構，簡化了工作臺結構，降低了運營成本；通過調制器的移動對基板各處進行光學異物檢測，獲取基板異物，從而避免了調制器和基板受到異物劃傷。 【附圖說明】 為了更清楚地說明本專利技術實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。 圖1是專利文獻CN 1910745A中公開的異物處理結構示意圖； 圖2是本專利技術所提供的異物處理系統結構示意圖； 圖3是圖2中所示的第一種光學感應裝置結構示意圖； 圖4是提供的第二種光學感應裝置結構示意圖； 圖5是提供的第三種光學感應裝置結構示意圖； 圖6是提供的第四種光學感應裝置結構示意圖； 圖7是本專利技術所提供的異物感知流程圖； 圖8是圖2中的吸附裝置結構簡圖。 圖中: 1’ -工作臺；2’ -吸附面；3’ -吸附口 ；4’ -真空泵；5’ -壓力傳感器；6’ -泄漏槽；1-移動支架；2_調制器；3_吸附裝置，31-空氣過濾吸附端；32_壓縮氣體注入端；33_真空抽吸端；4_基板；5_檢測平臺；6_光學感應裝置，61-光學信號發射端，62-光學信號接收端，63-全反射鏡；7_光學信號。 【具體實施方式】 為使本專利技術的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖對本專利技術實施方式作進一步地詳細描述。 如圖2所示，本專利技術提供了一種基于基板陣列測試的異物處理系統，包括移動支架1和設置于移動支架上1的調制器2，調制器2與移動支架1滑動配合連接，用于對位于其下方的基板4進行掃描，系統還包括設置于調制器2上的光學感應裝置6、吸附裝置3和控制器，光學感應裝置6和吸附裝置3均與控制器電連接；吸附裝置3設置于移動支架1上，二者采用滑動配合連接。光學感應裝置6用于對基板4進行光學異物檢測，控制器用于接本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種基于基板陣列測試的異物處理系統，其特征在于，所述系統包括移動支架、控制器和設置于所述移動支架上的調制器、吸附裝置，所述吸附裝置和調制器分別與所述移動支架滑動配合連接，所述調制器上設有光學感應裝置，所述光學感應裝置和吸附裝置均與所述控制器電性連接；所述光學感應裝置用于對基板進行光學異物檢測，所述控制器用于接收所述光學感應裝置的感應信號；所述控制器中運行有異物判斷模塊，所述異物判斷模塊根據所述光學感應裝置的感應信號對基板上是否存在異物作出判斷；若基板上存在異物，所述控制器啟動所述吸附裝置對異物進行吸附。
【技術特征摘要】
1.一種基于基板陣列測試的異物處理系統，其特征在于，所述系統包括移動支架、控制器和設置于所述移動支架上的調制器、吸附裝置，所述吸附裝置和調制器分別與所述移動支架滑動配合連接，所述調制器上設有光學感應裝置，所述光學感應裝置和吸附裝置均與所述控制器電性連接；所述光學感應裝置用于對基板進行光學異物檢測，所述控制器用于接收所述光學感應裝置的感應信號；所述控制器中運行有異物判斷模塊，所述異物判斷模塊根據所述光學感應裝置的感應信號對基板上是否存在異物作出判斷；若基板上存在異物，所述控制器啟動所述吸附裝置對異物進行吸附。2.根據權利要求1所述的異物處理系統，其特征在于，所述的光學感應裝置包括一光學信號發射端和一光學信號接收端，所述光學信號發射端和光學信號接收端水平間隔設置于所述調制器的同一外側面上，所述光學信號發射端所發出的光學信號與基板平面平行，所述光學信號發射端所發出的光學信號與基板平面的距離為40-45 μ m。3.根據權利要求2所述的異物處理系統，其特征在于，所述調制器的各個外側面均設有一所述光學感應裝置，所述光學感應裝置卡置于所述調制器上。4.根據權利要求1所述的異物處理系統，其特征在于，所述的光學感應裝置包括一光學信號發射端、一光學信號接收端和至少一全反射鏡，所述光學信號發射端與所述光學信號接收端分別水平設置于所述調制器的兩外側面上；所述全反射鏡設置于所述調制器的外側面上，且與所述光學信號發射端所發出的光學信號相對應，用于將所述光學信號發射端所發出的光學信號水平反射至所述光學信號接收端。5.根據權利要求4所述的異物處理系統，其特征在于，所述調制器為具有方形橫截面或矩形橫截面的倒梯形結構，所述全反射鏡包括三個90度全反射鏡，其分別設置于所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉洋，王麗君，
申請(專利權)人：昆山國顯光電有限公司，
類型：發明
國別省市：江蘇;32
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