【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種新型高速制備各種功能、結(jié)構(gòu)薄膜的技術(shù)及設(shè)備 一、
: 本專利技術(shù)為一種使用噴液霧化-多元共析激光化學(xué)氣相沉積法制備各種功能、結(jié)構(gòu)薄膜的技術(shù)及設(shè)備,屬于新材料技術(shù)中表面加工、涂層
。 二、
技術(shù)介紹
: 化學(xué)氣相沉積法制備薄膜具有制備過程簡單、成本低、沉積均勻、產(chǎn)品性能高等優(yōu)點(diǎn),因此在大規(guī)模生產(chǎn)制備各種功能、結(jié)構(gòu)薄膜方面具有巨大的實(shí)用前景。但從工業(yè)化應(yīng)用角度考慮,使用常規(guī)化學(xué)氣相沉積法的沉積速率仍相對偏低,使得生產(chǎn)效率相對偏低。因此,如何提高常規(guī)化學(xué)氣相沉積法的沉積速率,成為了提高生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本的一個重要考慮因素。 另一方面,常規(guī)的化學(xué)氣相沉積法制備薄膜時所采用的原料供給系統(tǒng)為固體原料罐分別加熱法。即把固體原料放入各自的加熱罐中,使固體原料蒸發(fā),然后將原料蒸氣通過載流氣輸送到基板表面。該法在制備多元成分薄膜時,存在無法實(shí)現(xiàn)薄膜成分的精確控制的難題。該法另一缺點(diǎn)為在大規(guī)模制備薄膜的應(yīng)用中,無法長時間提供精確、穩(wěn)定、持續(xù)的原料蒸氣,使得薄膜成分偏離計量比,嚴(yán)重影響其各項(xiàng)性能指標(biāo)。另外,采用固體原料罐加熱法制備薄膜的過程中,還存在原料利用率低的缺點(diǎn)。 三、
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
: 本專利技術(shù)的目的在于提供一種新型高速制備各種功能、結(jié)構(gòu)薄膜的技術(shù)及設(shè)備,以解決常規(guī)化學(xué)氣相沉積法在大規(guī)模制備各種薄膜時存在的諸多難題,從而能在極大速率下大規(guī)模精確、穩(wěn)定、持續(xù)地制備各種氧化物以及非氧化薄膜。 針對常規(guī)化學(xué)氣相沉積法沉積速率較慢的問題,本專利技術(shù)專利的解決方法為:通過將激光引入反應(yīng)腔體照射基板表面,能大幅度降低原料分子間的 ...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種新型高速制備各種功能、結(jié)構(gòu)薄膜的技術(shù)及設(shè)備,其部件包括:液體原料箱(1)、液體原料抽取管(2)、液體原料輸送部件(3)、液體原料輸送管(4)、壓力室(5)、載流氣體存儲罐(6)、噴液霧化?多元共析揮發(fā)腔(7)、原料蒸氣輸送管(8)、混合噴管(9)、反應(yīng)劑氣體存儲罐(10)、基板(11)、加熱臺(12)、連續(xù)激光發(fā)生器(13)、激光束放大器(14)、反應(yīng)腔體(15)、激光引入窗(16)、真空泵(17)、設(shè)備控制柜(18)以及連接電纜(19)。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種新型高速制備各種功能、結(jié)構(gòu)薄膜的技術(shù)及設(shè)備,其部件包括:液體原料箱(1)、液體原料抽取管(2)、液體原料輸送部件(3)、液體原料輸送管(4)、壓力室(5)、載流氣體存儲罐¢)、噴液霧化-多元共析揮發(fā)腔(7)、原料蒸氣輸送管(8)、混合噴管(9)、反應(yīng)劑氣體存儲罐(10)、基板(11)、加熱臺(12)、連續(xù)激光發(fā)生器(13)、激光束放大器(14)、反應(yīng)腔體(15)、激光引入窗(16)、真空泵(17)、設(shè)備控制柜(18)以及連接電纜(19)。2.如權(quán)利要求1中的壓力室(5),其特征在于,它是一個與載流氣體存儲罐(6)連通的密閉室。3.如權(quán)利要求1中的噴液霧化-多元共析揮發(fā)腔(7),其特征在于,它是一個中空的加熱密閉腔體,腔體一端開有一頂點(diǎn)指向腔體內(nèi)部的錐形孔,錐形孔的底面圓與壓力室(5)密封連通,腔體另一端的側(cè)面或者底面安裝有原料蒸氣輸出口。4.如權(quán)利要求1中的液體原料輸送管(4),其特征在于,輸送管一端與壓力室(5)密封連通,且其頂端懸掛插入到如權(quán)利要求3中所述的噴液霧化-多元共析揮發(fā)腔(7)的錐形孔中,導(dǎo)管頂端與錐形孔之間的垂直距離為0.01-5mm,導(dǎo)管另一端與液體原料輸送部件(3)的液體輸出口連...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:不公告發(fā)明人,
申請(專利權(quán))人:趙培,
類型:發(fā)明
國別省市:湖北;42
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