被測定物的測定方法技術

本發明專利技術是一種測定方法，其特征在于，所述測定方法是測定檢體中的被測定物的有無或量的方法，其包括如下工序：過濾工序，將具有在垂直于主面的方向上貫通的多個空隙部的空隙配置結構體用作物理過濾器，從所述檢體中過濾所述被測定物，將所述被測定物保持于所述空隙配置結構體；測定工序，對保持了所述被測定物的所述空隙配置結構體照射電磁波，檢測因所述空隙配置結構體而被散射的電磁波的特性。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及。更詳細而言，涉及將被測定物保持于具有空隙部的空隙配置結構體，對該空隙配置結構體照射電磁波，檢測因空隙配置結構體而被散射的電磁波的特性，由此測定被測定物的有無或量的測定方法。
技術介紹
一直以來，為了分析物質的特性，采用如下測定方法:在空隙配置結構體保持被測定物，對保持了該被測定物的空隙配置結構體照射電磁波，對其透射光譜等進行解析從而檢測被測定物的有無或量。具體來說，可以舉出例如對附著于金屬網過濾器的蛋白質等被測定物照射太赫茲波而對透射光譜進行解析的手法。 作為采用這樣的電磁波的透射光譜的解析手法的現有技術，專利文獻I中公開了如下的測定方法:從相對于與空隙配置結構體的主面垂直的方向傾斜的方向，向具有保持了被測定物的空隙區域的空隙配置結構體(具體為網狀的導體板)照射電磁波，測定透過空隙配置結構體的電磁波，測定值的頻率特性所產生的跌落(尹^ 7 7°)波形的位置由于被測定物的存在而發生移動，從而基于此檢測被測定物的特性。 以往，采用所述測定方法測定檢體中所含的被測定物的情況下，通常，首先從檢體中提取出被測定物后，在將提取出的被測定物保持在空隙配置結構體的狀態下進行利用電磁波的測定。因此，在測定之前需要另外的被測定物的提取工序，存在用于測定的操作工序增加的問題。 另外，例如，在使用膜過濾器等從液體、氣體等檢體中過濾提取被測定物的情況下，需要通過轉印等將提取出的被測定物轉載至空隙配置結構體的工序，由于難以將提取出的被測定物全部移動至空隙配置結構體，因此有時測定結果有較大偏差。 現有技術文獻 專利文獻 專利文獻1:日本特開2008 - 185552號公報
技術實現思路
專利技術要解決的課題 本專利技術鑒于上述問題，其目的在于，提供能夠解決需要從檢體提取被測定物的情況下的操作工序的增加、測定結果的偏差的問題，并以簡便的工序高精度地測定檢體中所含的被測定物的。 用于解決課題的手段 本專利技術為一種測定方法，其特征在于，所述測定方法是測定檢體中的被測定物的有無或量的方法，并包括如下工序: 過濾工序，將具有在垂直于主面的方向上貫通的多個空隙部的空隙配置結構體用作過濾器，從所述檢體中過濾所述被測定物，將所述被測定物保持于所述空隙配置結構體； 測定工序，對保持了所述被測定物的所述空隙配置結構體照射電磁波，檢測因所述空隙配置結構體而被散射的電磁波的特性。 所述空隙配置結構體的空隙部的大小優選為所述被測定物不能通過、或難以通過的大小。 所述空隙配置結構體的表面優選按照被測定物容易吸附的方式進行修飾。 所述檢體優選為液體或氣體。 所述被測定物優選為液體中的微生物，或者，氣體中的無機物、有機物、或其復合物。 專利技術效果 在本專利技術中，空隙配置結構體兼任提取過濾器和測定器件，因此能夠以簡便的工序高精度地測定檢體中所含的被測定物。 【附圖說明】 圖1是用于說明本專利技術所使用的空隙配置結構體的結構的示意圖。 圖2是用于說明本專利技術中的測定工序的一例的概要的示意圖。 圖3是用于說明實施例1的操作方法的示意圖。(a)為俯視圖，(b)為剖視圖。 圖4是表示實施例1中，被空隙配置結構體提取出的酵母的SEM照片的圖。 圖5是表示在實施例1中，提取出檢體I?3后的空隙配置結構體的透過率特性的圖。 圖6是表示在實施例1中，空隙配置結構體上的酵母數與空隙配置結構體的透過率峰的關系的圖表。 【具體實施方式】 本專利技術中，測定檢體中的被測定物的有無或量是指，對作為液體或氣體等檢體中所含的被測定物的化合物進行定量，可以舉出例如:測定溶液中等的微量的被測定物的含量的情形；進行被測定物的鑒定的情形等。檢體優選為液體或氣體。另外，所述被測定物優選為液體中的微生物，或者，氣體中的無機物、有機物、或其復合物。 本專利技術的測定方法的特征在于，包括如下工序: (I)過濾工序，將具有在垂直于主面的方向上貫通的多個空隙部的空隙配置結構體用作過濾器，從檢體中過濾被測定物，將被測定物保持于空隙配置結構體； (2)測定工序，對保持了被測定物的空隙配置結構體照射電磁波，檢測因空隙配置結構體而被散射的電磁波的特性。 (空隙配置結構體) 本專利技術所使用的空隙配置結構體具有在垂直于其主面的方向上貫通的多個空隙部。例如，多個該空隙部在空隙配置結構體的主面上的至少一個方向上周期性地配置。但是，對于空隙部而言，可以是空隙部全部周期性地配置，也可以是在不破壞本專利技術的效果的范圍內，一部分空隙部周期性地配置，而其他空隙部非周期性地配置。 空隙配置結構體優選為準周期結構體或周期結構體。準周期結構體是指，雖然不具有平移對稱性但排列保持秩序性的結構體。作為準周期結構體，例如可以舉出作為一維準周期結構體的斐波納契結構、作為二維準周期結構體的彭羅斯結構。周期結構體是指，具有以平移對稱性代表的各種空間對稱性的結構體，根據其對稱的維度而分類為一維周期結構體、二維周期結構體、三維周期結構體。一維周期結構體可以舉出例如線柵結構、一維衍射光柵等。二維周期結構體可以舉出例如網過濾器、二維衍射光柵等。在這些周期結構體之中，適宜使用二維周期結構體。 作為二維周期結構體，可以舉出例如圖1所示那樣的呈矩陣狀以固定間隔配置有空隙部的板狀結構體(柵格狀結構體)。圖1(a)所示的空隙配置結構體I為，從其主面1a側觀察時正方形的空隙部11沿著與該正方形的各邊平行的兩個排列方向(圖中的縱向和橫向)以相等的間隔設置的板狀結構體。 空隙配置結構體的空隙部的大小、配置、空隙配置結構體的厚度等沒有特別限制，但空隙配置結構體的空隙部的大小優選為被測定物不能通過、或難以通過的大小。另外，根據空隙配置結構體的材質特性、使用的電磁波的頻率等來適當設計。 具體來說，例如，在空隙部如圖1 (a)所示那樣沿縱橫規則配置的空隙配置結構體I中，圖1(b)中d所表示的空隙部的孔尺寸優選為被測定物的大小(例如，連接被測定物的表面上的2點間的直線中最長的直線的長度)以下，最優選空隙部的孔尺寸與被測定物的大小為同等程度。具體的孔尺寸根據被測定物的大小來決定，沒有特別限定，但優選為0.15?150 μm，從測定靈敏度提高的觀點出發，孔尺寸更優選為0.9?9 μπι。 需要說明的是，用于測定的電磁波的波長優選設定為這樣的孔尺寸的十分之一以上且十倍以下。由此，散射的電磁波的強度變得更強，變得更容易檢測信號。 另外，在空隙部如圖1 (a)所示沿縱橫規則配置的空隙配置結構體I中，圖1 (b)中s所表示的空隙部的柵格間隔(間距)優選為用于測定的電磁波的波長的十分之一以上且十倍以下。通過按這種方式設置，散射變得更容易發生。具體的柵格間隔優選為0.15?150 μ m，從測定靈敏度提高的觀點出發，柵格間隔更優選為1.3?13 μ m。 另外，空隙配置結構體的厚度優選為用于測定的電磁波的波長的5倍以下。通過按這種方式設置，散射的電磁波的強度變得更強，從而變得容易檢測信號。 空隙配置結構體的整體的尺寸沒有特別限制，根據照射的電磁波的光束點的面積等來決定。 空隙配置結構體優選至少其表面的一部分由導體形成。空隙配置結構體I的表面是指，圖1(a)所示的主面10a、側面1b和空隙部的內壁Il本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種測定方法，其特征在于，所述測定方法是測定檢體中的被測定物的有無或量的方法，其包括如下工序：過濾工序，將具有在垂直于主面的方向上貫通的多個空隙部的空隙配置結構體用作過濾器，從所述檢體中過濾所述被測定物，將所述被測定物保持于所述空隙配置結構體；測定工序，對保持了所述被測定物的所述空隙配置結構體照射電磁波，檢測因所述空隙配置結構體而被散射的電磁波的特性。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2012.07.25 JP 2012-1650491.一種測定方法，其特征在于， 所述測定方法是測定檢體中的被測定物的有無或量的方法，其包括如下工序: 過濾工序，將具有在垂直于主面的方向上貫通的多個空隙部的空隙配置結構體用作過濾器，從所述檢體中過濾所述被測定物，將所述被測定物保持于所述空隙配置結構體； 測定工序，對保持了所述被測定物的所述空隙配置結構體照射電磁波，檢測因所述...

【專利技術屬性】
技術研發人員：神波誠治，近藤孝志，白井伸明，岡田俊樹，長谷川慎，
申請(專利權)人：株式會社村田制作所，
類型：發明
國別省市：日本;JP