使用近場(chǎng)光學(xué)力的方法技術(shù)

描述了使用近場(chǎng)光研究、探尋、分析和探測(cè)顆粒、物質(zhì)和類似物的方法。描述了使用近場(chǎng)光識(shí)別顆粒、物質(zhì)和類似物的結(jié)合配偶體、調(diào)制物、抑制劑和類似物的方法。在某些實(shí)施方式中，該方法包括固定或陷俘顆粒、物質(zhì)和類似物。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
測(cè)量物質(zhì)的至少一種性質(zhì)的方法，所述方法包括：在光阱的近場(chǎng)光附近定位物質(zhì)；從光源引導(dǎo)光至所述物質(zhì)；探測(cè)所述光對(duì)所述物質(zhì)的影響；并且基于所探測(cè)的影響測(cè)量所述物質(zhì)的至少一種性質(zhì)。

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：R·哈特，B·科德維斯，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：微流控光學(xué)公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：美國(guó);US