本發明專利技術提供一種脫鹽處理裝置以及脫鹽處理裝置的運行方法。本發明專利技術的脫鹽處理裝置(1)具備靜電脫鹽處理部(10、60)，在再生工序之前的脫鹽工序，在根據脫鹽部(4)的保有水量與供給水流量來推導出的期間，向供給水中投入防垢劑，在經過規定時間之后或者達到規定的離子濃度之后，停止防垢劑的投入。本發明專利技術的脫鹽處理裝置(1)在靜電脫鹽處理部(10)的停止時向供給水中投入防垢劑，在經過規定時間之后或者達到規定的離子濃度之后，停止防垢劑的投入。或者，在靜電脫鹽處理部(30、60)的停止時，將基于脫鹽部(4)的保有水量的低離子濃度水輸送到靜電脫鹽處理部(30、60)。由此，可靠地防止靜電脫鹽處理裝置內的水垢的析出。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】【專利摘要】本專利技術提供一種。本專利技術的脫鹽處理裝置(1)具備靜電脫鹽處理部(10、60)，在再生工序之前的脫鹽工序，在根據脫鹽部(4)的保有水量與供給水流量來推導出的期間，向供給水中投入防垢劑，在經過規定時間之后或者達到規定的離子濃度之后，停止防垢劑的投入。本專利技術的脫鹽處理裝置(1)在靜電脫鹽處理部(10)的停止時向供給水中投入防垢劑，在經過規定時間之后或者達到規定的離子濃度之后，停止防垢劑的投入。或者，在靜電脫鹽處理部(30、60)的停止時，將基于脫鹽部(4)的保有水量的低離子濃度水輸送到靜電脫鹽處理部(30、60)。由此，可靠地防止靜電脫鹽處理裝置內的水垢的析出。【專利說明】
本專利技術涉及脫鹽處理裝置及其運行方法。
技術介紹
對來自工廠的工業排水，實施重金屬成分、浮游粒子等的除去、基于微生物的有機物的分解除去等凈化處理。在工業用水的確保困難的場所，被凈化處理的處理水被再利用為工業用水。在該情況下，在重金屬成分、浮游粒子、有機物等被除去之后，實施對包含在排水中的離子成分進行除去的脫鹽處理。 此外，在利用河水、地下水時，在由于鹽分多而導致存在障礙的情況下，實施對包含在水中的離子成分進行除去的脫鹽處理。 作為脫鹽處理裝置，已知反滲透膜式脫鹽裝置、靜電脫鹽處理裝置(例如專利文獻I)等。 反滲透膜式脫鹽裝置在內部具有反滲透膜(RO膜)。若包含離子的水流入反滲透膜式脫鹽裝置，則反滲透膜(RO膜)僅使水透過。透過了反滲透膜的水(處理水)被再利用為工業用水等。在反滲透膜的上游側，成為不能通過反滲透膜的離子被濃縮了的水(濃縮水)。該濃縮水被從反滲透膜式脫鹽裝置排出，從而被排出到水處理裝置I的系統外。若處理水相對于流入水的比例變高，則濃縮水的水垢成分濃度成為飽和溶解度以上，產生水垢。 在專利文獻I中所述的靜電脫鹽處理裝置中，首先，在一對電極之間施加相反極性的電壓。若以該狀態使被處理液在電極之間流通，則離子成分被吸附在電極(脫鹽工序)。若即使電極的離子吸附性能接近飽和狀態，還將電極短路或者施加與離子吸附時相反的電壓，則吸附的離子成分從電極脫離。在與離子成分的脫離同時或者脫離后，使被處理液或者離子濃度比被處理液低的液體在電極間流通，從電極間除去離子并將離子成分排出(成分回收工序(再生工序))。然后，反復脫鹽工序與再生工序而得到處理水(脫鹽水)。 在被處理水(排水、河水、地下水等)中，作為鹽分，包含碳酸鈣(CaCO3)、石膏(CaSO4)、氟化鈣(CaF2)。若超過飽和溶解度，則這些作為結晶性的固形成分(水垢)而析出。例如，若在PH7.3下包含碳酸鈣275mg/l，則由于超過飽和溶解度，水垢析出。但是，即使調制該溶液，10分鐘后水垢不析出，也會在I天后析出。 在反滲透膜式脫鹽裝置中，為了通過膜來連續地除去離子成分，則由于高的水回收率的運行，導致濃縮水側的離子濃度總是較高，長時間(I天以上)保持在飽和溶解度以上，因此水垢析出。 另一方面，在靜電脫鹽處理裝置中，在再生工序中，由于離子從電極脫離，導致在電極間存在濃縮水。若再生工序為10分鐘以內，則在水垢析出之前開始脫鹽工序。由于脫鹽工序開始，導致電極間的水中的離子濃度小于飽和溶解度，因此水垢析出被防止。由于該特性，專利文獻I所述的靜電脫鹽處理裝置與反滲透膜式脫鹽裝置相比，在得到高的水回收率(能夠再利用的水的回收率)這方面是有利的。 在先技術文獻 專利文獻 專利文獻1:日本專利4090635號公報(權利要求書，第0019?0023段)
技術實現思路
-專利技術要解決的課題- 由于若處理水(脫鹽水)量相對于向靜電脫鹽處理裝置的供給水量的比例變高，則包含在供給水中的離子的大部分被包含在濃縮水中，因此濃縮水的離子濃度變高。在為超過飽和溶解度的離子濃度的情況下，離子濃度越高，越短時間產生水垢。例如，在PH6.2下，氟濃度為18.5mg/l，鈣濃度為675mg/l的水溶液中，雖然水垢未在10分鐘后析出，但在I天之后析出。但是，在pH6.2下，氟濃度為37mg/l，鈣濃度為1350mg/l的水溶液中，水垢在10分鐘以內析出。 此外，在基于上述靜電脫鹽處理裝置的水處理中，雖然在再生工序結束時刻，濃縮水的各種離子濃度平均降低為小于飽和溶解度，但在脫鹽處理裝置內部，為了濃度一致性，存在仍然超過飽和溶解度的位置。通常，由于在再生工序結束后立即再次開始脫鹽工序，因此超過飽和溶解度的位置由于脫鹽工序開始，立刻恢復為小于飽和溶解度。但是，在向靜電脫鹽處理裝置的供給水量為規定值以下的情況下，或者在處理水量達到規定值，不需要制造處理水等情況下，未再次開始脫鹽工序。在這種情況下，由于離子濃度超過飽和濃度的濃縮水長時間滯留在電極間，因此水垢析出。 由于析出的水垢，導致靜電脫鹽處理裝置的內部流通路(流路)被關閉，被處理液不能以規定的流量流通。因此，需要即使在生成離子被高度濃縮的濃縮水的情況下，水垢也不會析出。 本專利技術的目的在于，在具有靜電脫鹽處理裝置的脫鹽處理裝置中，可靠地防止靜電脫鹽處理裝置內的水垢的析出。 -解決課題的手段- 本專利技術的第I方式是一種脫鹽處理裝置，包含:脫鹽部，其具備靜電脫鹽處理部，該靜電脫鹽處理部包含:相互相反極性地帶電的一對對置的電極、位于該電極之間并且能夠流通包含離子的供給水的流路、以及被設置在各個所述電極的所述流路側的離子交換膜；投入部，其在所述靜電脫鹽處理部的上游側，與所述供給水流通的配管連接，并向所述供給水投入防垢劑；和控制部，所述控制部包含再生時控制部以及停止時控制部的至少一方，其中，所述再生時控制部在通過所述靜電脫鹽處理部進行脫鹽的期間內，在基于所述脫鹽部的保有水量與所述供給水的流速來決定的期間使來自所述投入部的所述防垢劑的投入開始，并且在從所述防垢劑的投入開始起經過了規定時間時，或者在從所述靜電脫鹽處理部排出的所述供給水中的所述離子的濃度達到了規定量時，使來自所述投入部的所述防垢劑的投入停止，所述停止時控制部在所述靜電脫鹽處理部的停止時，從所述投入部投入規定量的所述防垢劑，并且在從所述靜電脫鹽處理部的停止時的所述防垢劑的投入開始起經過了規定時間時，使來自所述投入部的所述防垢劑的投入停止。 本專利技術的第2方式是一種第I方式的脫鹽處理裝置的運行方法，包含:脫鹽工序，在針對一對對置的電極而使一方電極帶正電、使另一方電極帶負電的狀態下，使包含離子的供給水通過所述電極之間，從而使負離子吸附在所述一方電極，使正離子吸附在所述另一方電極，從所述供給水中除去所述離子；再生工序，在使所述一方電極帶負電、使所述另一方電極帶正電的狀態下，使所述供給水通過所述電極之間，從而使所述負離子從所述一方電極脫離并釋放到所述供給水中，使所述正離子從所述另一方電極脫離并釋放到所述供給水中，來再生所述電極；和添加工序，向所述供給水中添加防垢劑，所述添加工序包含再生時添加工序以及停止時添加工序的至少一方，所述再生時投入工序包含:第I投入工序，該第I投入工序在所述脫鹽工序的期間內，在基于所述脫鹽部的保有水量與所述供給水的流速來決定的期間向所述供給水中投入所述防垢劑；和第I投入停止工序，該第I投入停止工序在從所述第I投入工序的開始起經過了規定時間時，或者本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種脫鹽處理裝置，包含：脫鹽部，其具備靜電脫鹽處理部，該靜電脫鹽處理部包含：相互相反極性地帶電的一對對置的電極、位于該電極之間并且能夠流通包含離子的供給水的流路、以及被設置在各個所述電極的所述流路側的離子交換膜；投入部，其在所述靜電脫鹽處理部的上游側，與所述供給水流通的配管連接，并向所述供給水投入防垢劑；和控制部，所述控制部包含再生時控制部以及停止時控制部的至少一方，其中，所述再生時控制部在通過所述靜電脫鹽處理部進行脫鹽的期間內，在基于所述脫鹽部的保有水量與所述供給水的流速來決定的期間使來自所述投入部的所述防垢劑的投入開始，并且在從所述防垢劑的投入開始起經過了規定時間時，或者在從所述靜電脫鹽處理部排出的所述供給水中的所述離子的濃度達到了規定量時，使來自所述投入部的所述防垢劑的投入停止，所述停止時控制部在所述靜電脫鹽處理部的停止時，從所述投入部投入規定量的所述防垢劑，并且在從所述靜電脫鹽處理部的停止時的所述防垢劑的投入開始起經過了規定時間時，使來自所述投入部的所述防垢劑的投入停止。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
【專利技術屬性】
技術研發人員：上村一秀，音在步積，寺崎健，鈴木英夫，中小路裕，
申請(專利權)人：三菱重工機電系統株式會社，三菱重工業株式會社，
類型：發明
國別省市：日本;JP
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