一種激光直寫式光刻機的聚焦系統(tǒng)及控制方法技術方案

本發(fā)明專利技術公開了一種激光直寫式光刻機的聚焦系統(tǒng)及控制方法，屬于半導體行業(yè)和印刷電路板行業(yè)激光直寫光刻技術領域，包括曝光光頭、曝光光路以及曝光基板，其中，曝光基板設置有多種不同的厚度；還包括設置在曝光光路左端的步進電機、設置在曝光光路內(nèi)部的左棱鏡和右棱鏡；其中，右棱鏡直角邊與水平面平齊、斜邊朝下的固定在曝光光路的內(nèi)部右側，左棱鏡直角邊與水平面平齊、斜邊朝上，通過連接軸與步進電機連接，并通過步進電機控制可左右運動的設置在曝光光路的內(nèi)部左側，左棱鏡的斜邊與右棱鏡的斜邊始終保持平行。本發(fā)明專利技術避免了由機械結構和電機組成的調(diào)焦系統(tǒng)在調(diào)焦過程中產(chǎn)生的圖像畸變問題，提升曝光質(zhì)量，改善和提升產(chǎn)品良率。

【技術實現(xiàn)步驟摘要】

【技術保護點】
一種激光直寫式光刻機的聚焦系統(tǒng)，包括曝光光頭（3）、曝光光頭（3）下方設置的曝光光路（4）以及曝光基板（6），其中，所述的曝光基板（6）設置有多種不同的厚度；其特征在于，還包括設置在曝光光路（4）左端的步進電機（1）、設置在曝光光路（4）內(nèi)部的左棱鏡（2）和右棱鏡（5）；其中，所述的右棱鏡（5）直角邊與水平面平齊、斜邊朝下的固定在曝光光路（4）的內(nèi)部右側，所述的左棱鏡（2）直角邊與水平面平齊、斜邊朝上，通過連接軸與步進電機（1）連接，并通過步進電機（1）控制可左右運動的設置在曝光光路（4）的內(nèi)部左側，左棱鏡（2）的斜邊與右棱鏡（5）的斜邊始終保持平行。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：李陽，曹旸，
申請(專利權)人：江蘇影速光電技術有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：江蘇;32