一種應用于痕量氣體濃度和氣溶膠消光同時測量的腔增強吸收光譜裝置及方法制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及一種應用于痕量氣體濃度和氣溶膠消光同時測量的腔增強吸收光譜裝置及方法，LED溫度采用半導體制冷片控制以保證光強輸出的穩定；光學腔兩端的高反鏡曲率半徑相同，反射率大于99.9％，組成穩定的光學諧振腔。腔增強吸收光譜通常通過測量腔內有無氣體吸收時的光強，高反鏡的鏡片反射率隨波長的變化曲線，最終得到腔內吸收氣體的濃度。本發明專利技術可實現痕量氣體濃度和氣溶膠消光的同時測量，將實際測量得到總吸收系數分為兩個部分，一部分為隨波長作快變化的痕量氣體吸收結構，另一部分為隨波長作慢變化氣體散射和氣溶膠消光系數。對測量得到的總吸收系數進行非線性最小二乘擬合可以計算出待測痕量氣體的濃度，最后從總吸收系數扣除氣體吸收結構和氣體散射即得到氣溶膠消光系數。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種應用于痕量氣體濃度和氣溶膠消光同時測量的腔增強吸收光譜裝置，其特征在于：該裝置包括：寬帶光源(1)，第一透鏡(2)，第二透鏡(11)，濾光片(10)，光闌(3)，第一高反鏡(4)，第二高反鏡(9)，第一吹掃保護氣路進氣口(5)，第二吹掃保護氣路進氣口(8)，采樣氣路進氣口(6)，排氣口(7)，濾光片(10)，光纖(12)，光譜儀(13)和光學腔(14)；光學腔(14)兩端安裝第一高反鏡(4)和第二高反鏡(9)，寬帶光源(1)發出的光通過第一透鏡(2)準直后，經過光闌(3)后進入光學腔(14)，光束在光學腔(14)內經多次反射吸收，光學腔(14)上開有第一吹掃保護氣路進氣口(5)，第二吹掃保護氣路進氣口(8)，采樣氣路進氣口(6)和排氣口(7)，第一吹掃保護氣路進氣口(5)和第二吹掃保護氣路進氣口(8)在光學腔(14)下方，采樣氣路進氣口(6)和排氣口(7)在光學腔(14)上方，從光學腔出射的光輻射經濾光片(10)以及第二透鏡(11)耦合進入光纖(12)后傳輸至光譜儀(13)，進行信號處理。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：秦敏，段俊，方武，盧雪，沈蘭蘭，謝品華，劉文清，
申請(專利權)人：中國科學院合肥物質科學研究院，
類型：發明
國別省市：安徽;34