一種測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡制造技術(shù)

本實(shí)用新型專利技術(shù)公開了一種測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，包括標(biāo)準(zhǔn)鏡面，所述標(biāo)準(zhǔn)鏡面上鍍制有分光膜；所述分光膜能夠確保標(biāo)準(zhǔn)鏡面的外反射率趨于零。由此可知：本實(shí)用新型專利技術(shù)干涉顯示出來(lái)的影像清晰，避免了增加濾網(wǎng)測(cè)量的網(wǎng)格干擾。另外，本實(shí)用新型專利技術(shù)可以用在平面和球面及其它各類標(biāo)準(zhǔn)鏡的表面，鍍過(guò)膜后的標(biāo)準(zhǔn)鏡能測(cè)量銀高反膜，鋁高反膜及介質(zhì)高反膜的反射鏡，并測(cè)量硅片，鍺片，硒化鋅，硫化鋅，金屬片及角錐的面形，廣泛地應(yīng)用于光學(xué)加工及測(cè)量領(lǐng)域。（*該技術(shù)在2024年保護(hù)過(guò)期，可自由使用*）

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及一種測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，屬于光學(xué)元件生產(chǎn)制造領(lǐng)域。
技術(shù)介紹
平面標(biāo)準(zhǔn)鏡的工作原理，如圖1所示:從光源6處發(fā)出的光束經(jīng)過(guò)分光鏡5，光線1通過(guò)準(zhǔn)直儀3由點(diǎn)光源轉(zhuǎn)換成平行光，部分光線由標(biāo)準(zhǔn)鏡2的表面返回形成Ικ，另一半光線通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)鏡2到達(dá)被測(cè)反射鏡I表面，由被測(cè)反射鏡表面反射回來(lái)的光線It，IjP It兩路光線形成干涉返回至分光鏡5，由于角度關(guān)系全部折反，通過(guò)CXD攝像頭可觀察到兩路光線的干涉條紋。如圖2所示，I是被測(cè)反射鏡，2是標(biāo)準(zhǔn)鏡，被測(cè)面的反射率的范圍在20 ;當(dāng)入射光I。經(jīng)過(guò)標(biāo)準(zhǔn)鏡的標(biāo)準(zhǔn)面返回后的反射光線I κ只有入射光I ^的4%，而通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)鏡經(jīng)過(guò)被測(cè)面反射回來(lái)的光線It為入光線的18-92%，這樣兩束反射光的強(qiáng)度差異太大151 κ，導(dǎo)致干涉條紋非常不清晰，并且不能完全分析，這樣分析出來(lái)的結(jié)果非常不準(zhǔn)確。目前市場(chǎng)上已經(jīng)用到的解決方法:1、在標(biāo)準(zhǔn)鏡頭前面增加濾網(wǎng)，此方法雖然能較為清晰的反映出干涉條紋，但是整個(gè)干涉面有濾網(wǎng)的紋路，這樣實(shí)際的鏡片表面的面形精度受到濾網(wǎng)的影響。2、增加樹脂膜，這是一張非常薄的膜，很脆弱，容易破，雖然能測(cè)得高反射率鏡片的面形，但是價(jià)格昂貴還易破，不是一般公司所能承受的。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，該標(biāo)準(zhǔn)鏡通過(guò)在普通平面標(biāo)準(zhǔn)面上鍍制分光膜形成；鍍膜后標(biāo)準(zhǔn)面的面型沒有變化，鍍膜面可以經(jīng)得起反復(fù)清潔擦拭；另外，該分光膜可以保證所述標(biāo)準(zhǔn)鏡的外反射率趨于零。由此可知:本技術(shù)干涉顯示出來(lái)的影像清晰，避免了增加濾網(wǎng)測(cè)量的網(wǎng)格干擾。另外，本技術(shù)可以用在平面和球面及其它各類標(biāo)準(zhǔn)鏡的表面，鍍過(guò)膜后的標(biāo)準(zhǔn)鏡能測(cè)量銀高反膜，鋁高反膜及介質(zhì)高反膜的反射鏡，并測(cè)量硅片，鍺片，砸化鋅，硫化鋅，金屬片及角錐的面形，廣泛地應(yīng)用于光學(xué)加工及測(cè)量領(lǐng)域。為實(shí)現(xiàn)以上的技術(shù)目的，本技術(shù)將采取以下的技術(shù)方案:一種測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，包括標(biāo)準(zhǔn)鏡面，所述標(biāo)準(zhǔn)鏡面上鍍制有分光膜，該分光膜的厚度為20?SOnm ;所述分光膜能夠確保標(biāo)準(zhǔn)鏡面的外反射率趨于零。作為優(yōu)選，所述標(biāo)準(zhǔn)鏡面為球面鏡或平面鏡。作為優(yōu)選，所述分光膜包括底層和面層，其中底層的材質(zhì)為二氧化鈦或氧化鋁，而面層的材質(zhì)為金屬鉻根據(jù)以上的技術(shù)方案，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，本技術(shù)具有以下的優(yōu)占.V.本技術(shù)在在普通平面標(biāo)準(zhǔn)面上鍍制分光膜形成；鍍膜后標(biāo)準(zhǔn)面的面型沒有變化，鍍膜面可以經(jīng)得起反復(fù)清潔擦拭；另外，該分光膜可以保證所述標(biāo)準(zhǔn)鏡的外反射率趨于零。由此可知:本技術(shù)干涉顯示出來(lái)的影像清晰，避免了增加濾網(wǎng)測(cè)量的網(wǎng)格干擾。另夕卜，本技術(shù)可以用在平面和球面及其它各類標(biāo)準(zhǔn)鏡的表面，鍍過(guò)膜后的標(biāo)準(zhǔn)鏡能測(cè)量銀高反膜，鋁高反膜及介質(zhì)高反膜的反射鏡，并測(cè)量硅片，鍺片，砸化鋅，硫化鋅，金屬片及角錐的面形，廣泛地應(yīng)用于光學(xué)加工及測(cè)量領(lǐng)域。【附圖說(shuō)明】圖1是普通平面標(biāo)準(zhǔn)鏡測(cè)量高反射鏡面的工作原理圖；圖2是現(xiàn)有技術(shù)中，經(jīng)過(guò)普通平面標(biāo)準(zhǔn)鏡的光路示意圖；圖3是本技術(shù)所述平面標(biāo)準(zhǔn)鏡的分光膜的光路圖；圖4是本技術(shù)所述的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡的光路圖；圖5為本技術(shù)所述平面標(biāo)準(zhǔn)鏡的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中:被測(cè)反射鏡I ;標(biāo)準(zhǔn)鏡2 ;準(zhǔn)直儀3 ;(XD攝像頭4 ;分光鏡5 ;光源6 ;底層7、面層8 ；其中，入射光1 ;標(biāo)準(zhǔn)鏡2的表面返回光線IR ;通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)鏡2到達(dá)被測(cè)反射鏡I表面、由被測(cè)反射鏡表面反射回來(lái)的光線It ;通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)鏡2到達(dá)被測(cè)反射鏡I表面、由被測(cè)反射鏡表面反射回來(lái)、經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)鏡表面的分光膜反射的光線IRl。【具體實(shí)施方式】附圖非限制性地公開了本技術(shù)所涉及優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；以下將結(jié)合附圖詳細(xì)地說(shuō)明本技術(shù)的技術(shù)方案。本技術(shù)所述的測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，包括標(biāo)準(zhǔn)鏡面，所述標(biāo)準(zhǔn)鏡面上鍍制有分光膜；所述分光膜能夠確保標(biāo)準(zhǔn)鏡面的外反射率趨于零。其中:所述分光膜采用納米級(jí)厚度，介于40nm-50nmo通過(guò)理論膜系設(shè)計(jì)，在標(biāo)準(zhǔn)鏡的表面鍍制特殊的分光膜，實(shí)現(xiàn)由標(biāo)準(zhǔn)面返回的光線^是入射光I <>的25%，入射光I 通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)鏡由被測(cè)鏡片反射回來(lái)的光線，完全能透過(guò)標(biāo)準(zhǔn)面的分光膜，也就是外反射率趨近于0%，具體如圖3所示。因此，本技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)圖4所示的光路圖，具體是:一束光經(jīng)過(guò)標(biāo)準(zhǔn)鏡，被鍍特殊分光膜的標(biāo)準(zhǔn)面分成兩路，一路由標(biāo)準(zhǔn)面反射返回即Ικ，另一路光線透過(guò)標(biāo)準(zhǔn)面到達(dá)被測(cè)反射鏡面，由被測(cè)反射鏡面反射回來(lái)的光線It是入射光的11?56%，兩路光線的強(qiáng)度為0.2?2倍的關(guān)系，經(jīng)過(guò)干涉顯示出來(lái)的影像非常清晰，具體如圖4所示。本技術(shù)可以用在平面和球面及其它各類標(biāo)準(zhǔn)鏡的表面，鍍過(guò)膜后的標(biāo)準(zhǔn)鏡能測(cè)量銀高反膜，鋁高反膜及介質(zhì)高反膜的反射鏡，并測(cè)量硅片，鍺片，砸化鋅，硫化鋅，金屬片及角錐的面形，廣泛地應(yīng)用于光學(xué)加工及測(cè)量領(lǐng)域。經(jīng)過(guò)比較，本技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)鏡上鍍膜后測(cè)出來(lái)的高反鏡的面形是最為清晰的，避免了增加濾網(wǎng)測(cè)量的網(wǎng)格干擾。【主權(quán)項(xiàng)】1.一種測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，包括標(biāo)準(zhǔn)鏡面，其特征在于，所述標(biāo)準(zhǔn)鏡面上鍍制有分光膜，該分光膜的厚度為20?SOnm ;所述分光膜能夠確保標(biāo)準(zhǔn)鏡面的外反射率趨于零。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，其特征在于:所述標(biāo)準(zhǔn)鏡面為球面鏡或平面鏡。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，其特征在于:所述分光膜包括底層和面層，其中底層的材質(zhì)為二氧化鈦或氧化鋁，而面層的材質(zhì)為金屬鉻。【專利摘要】本技術(shù)公開了一種測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，包括標(biāo)準(zhǔn)鏡面，所述標(biāo)準(zhǔn)鏡面上鍍制有分光膜；所述分光膜能夠確保標(biāo)準(zhǔn)鏡面的外反射率趨于零。由此可知：本技術(shù)干涉顯示出來(lái)的影像清晰，避免了增加濾網(wǎng)測(cè)量的網(wǎng)格干擾。另外，本技術(shù)可以用在平面和球面及其它各類標(biāo)準(zhǔn)鏡的表面，鍍過(guò)膜后的標(biāo)準(zhǔn)鏡能測(cè)量銀高反膜，鋁高反膜及介質(zhì)高反膜的反射鏡，并測(cè)量硅片，鍺片，硒化鋅，硫化鋅，金屬片及角錐的面形，廣泛地應(yīng)用于光學(xué)加工及測(cè)量領(lǐng)域。【IPC分類】G01B11-24, G02B1-14, G02B1-115【公開號(hào)】CN204314490【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420733965【專利技術(shù)人】宋治平, 范一 【申請(qǐng)人】南京茂萊光電有限公司【公開日】2015年5月6日【申請(qǐng)日】2014年11月27日本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種測(cè)量高反射鏡面形的平面標(biāo)準(zhǔn)鏡，包括標(biāo)準(zhǔn)鏡面，其特征在于，所述標(biāo)準(zhǔn)鏡面上鍍制有分光膜,該分光膜的厚度為20～80nm；所述分光膜能夠確保標(biāo)準(zhǔn)鏡面的外反射率趨于零。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：宋治平，范一，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：南京茂萊光電有限公司，
類型：新型
國(guó)別省市：江蘇;32