本實用新型專利技術涉及一種滴定裝置,具體是涉及一種氫醌測金滴定裝置。其包括底座、加熱器以及支架,所述加熱器位于所述底座上,所述支架安裝于所述底座一側,所述支架為倒“L”型,所述支架橫截面為矩形,所述支架的橫向端設有T型調節區。本實用新型專利技術結構簡單,操作方便,溫度控制穩定,便于進行滴定操作。
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種滴定裝置,具體是涉及一種氫醌測金滴定裝置。
技術介紹
測金方法采用的滴定法中的氫醌法,一般采用加熱另一種藥品(緩沖液)來提高滴定溫度,且滴定過程中不能維持溫度,一次只能測一個樣品,對于滴定過程要求極其嚴格。再者,氫醌測金滴定分析需要在80度條件下進行滴定,傳統加熱方法不能保證溫度,且滴定終點不易控制,容易造成結果偏差。例如傳統的溫度控制器已廣泛應用于需要控制溫度的儀器及作業場所,包括馬弗爐以及烘箱等;但是功率較大,溫度難以控制?,F有的水浴鍋是適用于蒸餾燒瓶用的,孔徑大,用燒杯水浴加熱瓷坩禍容易掉落水中,且溫度不宜控制。最后,傳統的滴定臺一般較簡單,鐵桿為一直桿,需要輔助工具實現延伸、變形,且沒有合適夾具適合本操作。
技術實現思路
本技術所要解決的問題是提供一種加熱簡單、攪拌迅速、方便調節以及方便肉眼觀看的一種新型氫醌測金滴定裝置。本技術的技術方案是:一種氫醌測金滴定裝置包括底座、加熱器以及支架,所述加熱器位于所述底座上,所述支架安裝于所述底座一側,所述支架為倒“L”型,所述支架橫截面為矩形,所述支架的橫向端設有T型調節區。進一步,所述T型調節區內安裝有活動夾,所述活動夾可在T型調節區滑動并通過螺栓固定。進一步,所述加熱器的周壁為透明材質制備,便于肉眼觀察滴定過程變化。進一步,所述加熱器上方設有蓋子,所述蓋子設有圓孔,方便安裝用于滴定反應的瓷坩禍。進一步,所述活動夾可安裝滴定管,固定滴定管,方便進行滴定操作。進一步,所述加熱器設有磁力攪拌系統,方便邊滴定邊攪拌,加速滴定反應。進一步,所述加熱器還設有控制系統,所述控制系統安裝在所述底座上,通過控制按鈕分別對溫度、磁力轉速進行調節。本技術的有益效果在于:本技術結構簡單,操作方便,溫度控制穩定,便于進行滴定操作。本技術支架設有T型調節區,通過調節活動夾在T型調節區的位置,可調節滴定管的前后左右的位置,便于對準下方的加熱器上的瓷坩禍。本技術加熱器的周壁為透明材質,方便實驗人員直接肉眼觀察滴定反應的進程,設計巧妙。本技術還設有磁力攪拌系統,便于對滴定液的攪拌,加快滴定反應,滴定精確度大大增加?!靖綀D說明】下面結合附圖和實施例對本技術作進一步說明。圖1為本技術一種氫醌測金滴定裝置的側視圖;【具體實施方式】以下參照附圖,詳細說明本技術一種管道連接裝置。如圖1所示,一種氫醌測金滴定裝置包括底座1、加熱器2以及支架3。加熱器2安裝在底座I上,支架3位于所述底座I的一側,支架3為倒“L”型,支架3的橫截面為矩形,所述支架3的橫向端設有T型調節區31。T型調節區31內安裝有活動夾32,所述活動夾32可在T型調節區進行前后左右的滑動,所述活動夾32通過螺栓33進行固定。為進行滴定操作,所述活動夾32下端直接安裝滴定管4,固定滴定管4,方便進行滴定操作。同時,所述活動夾32前后左右的滑動最終帶動了滴定管4的前后左右的調節。本技術加熱器2設有蓋子23,蓋子23上設有圓孔,將進行氫醌測金滴定用的瓷坩禍安裝在所述加熱器2上,方便滴定。加熱器2的周壁為透明材質制備,便于肉眼觀察滴定過程變化,進一步保證整個滴定工作的精密度。所述加熱器2設有磁力攪拌系統21,方便邊滴定邊攪拌,加速滴定反應。為了控制加熱及磁力攪拌的速度,所述加熱器2還設有控制系統22,所述控制系統22安裝在所述底座I上,通過控制按鈕分別對溫度、磁力轉速進行調節。最后說明的是,以上實施例僅用以說明本技術的技術方案,并非對本技術作任何形式上的限制,任何熟悉本領域的技術人員,在不脫離本技術技術方案范圍情況下,利用上述揭示的方法內容對本技術技術方案做出許多可能的變動和修飾,均屬于權利要求書保護的范圍。【主權項】1.一種氫醌測金滴定裝置,包括底座、加熱器以及支架,所述加熱器位于所述底座上,所述支架安裝于所述底座一側,其特征在于:所述支架為倒“L”型,所述支架橫截面為矩形,所述支架的橫向端設有T型調節區。2.如權利要求1所述的一種氫醌測金滴定裝置,其特征在于:所述T型調節區內安裝有活動夾,所述活動夾可在T型調節區滑動并通過螺栓固定。3.如權利要求1所述的一種氫醌測金滴定裝置,其特征在于:所述加熱器的周壁為透明材質制備。4.如權利要求2所述的一種氫醌測金滴定裝置,其特征在于:所述活動夾可安裝滴定管。5.如權利要求1所述的一種氫醌測金滴定裝置,其特征在于:所述加熱器上方設有蓋子,所述蓋子設有圓孔。6.如權利要求1所述的一種氫醌測金滴定裝置,其特征在于:所述加熱器設有磁力攪拌系統。7.如權利要求1所述的一種氫醌測金滴定裝置,其特征在于:所述加熱器還設有控制系統,所述控制系統安裝在所述底座上。【專利摘要】本技術涉及一種滴定裝置,具體是涉及一種氫醌測金滴定裝置。其包括底座、加熱器以及支架,所述加熱器位于所述底座上,所述支架安裝于所述底座一側,所述支架為倒“L”型,所述支架橫截面為矩形,所述支架的橫向端設有T型調節區。本技術結構簡單,操作方便,溫度控制穩定,便于進行滴定操作。【IPC分類】G01N31-18, G01N31-16【公開號】CN204330708【申請號】CN201520024577【專利技術人】秦學強 【申請人】秦學強【公開日】2015年5月13日【申請日】2015年1月12日本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種氫醌測金滴定裝置,包括底座、加熱器以及支架,所述加熱器位于所述底座上,所述支架安裝于所述底座一側,其特征在于:所述支架為倒“L”型,所述支架橫截面為矩形,所述支架的橫向端設有T型調節區。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員:秦學強,
申請(專利權)人:秦學強,
類型:新型
國別省市:山東;37
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