本實用新型專利技術(shù)公開了一種設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，所述點針工作臺的周圍設(shè)有封閉的屏蔽罩，所述屏蔽罩的側(cè)面設(shè)有信號轉(zhuǎn)換器，所述點針工作臺與屏蔽罩之間設(shè)有間隙，所述間隙的距離為10-30mm。本實用新型專利技術(shù)提供的設(shè)置屏蔽罩能保證測試結(jié)果的真實性、減少誤判率、人員操作方便。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及設(shè)備檢測領(lǐng)域，具體涉及一種設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺。
技術(shù)介紹
點針工作臺主要用于半導(dǎo)體集成電路測試及故障分析，在設(shè)計或失效分析過程中，工程師經(jīng)常須測量一些元件(電阻、電容、電感等)的電性參數(shù)，當(dāng)電性參數(shù)的精度要求非常高時，比如:集成電路meta I線寬為微米時，必須采用點針工作臺將集成電路內(nèi)部訊號聯(lián)導(dǎo)出來，便于其它的電性測試設(shè)備進(jìn)行測試、分析，但現(xiàn)有的點針工作臺沒有設(shè)置屏蔽罩，測試過程中受到很多外在因素干擾，比如:電磁波、光源、高壓電場等，測試結(jié)果的真實性比較差、誤判率高。
技術(shù)實現(xiàn)思路
鑒于目前點針工作臺存在的上述不足，本技術(shù)提供一種能保證測試結(jié)果的真實性、減少誤判率的設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺。為達(dá)到上述目的，本技術(shù)采用根據(jù)下技術(shù)方案:一種設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，所述點針工作臺的周圍設(shè)有封閉的屏蔽罩，所述屏蔽罩的側(cè)面設(shè)有信號轉(zhuǎn)換器，所述點針工作臺與屏蔽罩之間設(shè)有間隙，所述間隙的距離為 10_30mm。依照本技術(shù)的一個方面，所述屏蔽罩的材料為金屬材料，所述屏蔽罩的內(nèi)外表面涂有抗干擾油漆。依照本技術(shù)的一個方面，所述抗干擾油漆的顏色為銀銅色或黑色。依照本技術(shù)的一個方面，所述屏蔽罩的材料為磁布，所述磁布的顏色為黑色。依照本技術(shù)的一個方面，所述點針工作臺的四圍、頂部和底部均設(shè)有屏蔽罩，所述屏蔽罩的一側(cè)設(shè)有工作門。依照本技術(shù)的一個方面，所述點針工作臺包括鏡柱、臺面、樣品臺和鏡頭，所述鏡柱、樣品臺分別安裝在臺面上，所述鏡頭固定在鏡柱的頂端。本技術(shù)的優(yōu)點:由于本技術(shù)的點針工作臺的四圍、頂部和底部均設(shè)有封閉的屏蔽罩，點針工作臺與屏蔽罩之間設(shè)有間隙，屏蔽罩可以屏蔽多種外界干擾信號，比如:電磁波、光源、高壓電場等，讓芯片在無外界干擾的環(huán)境下測試樣品，這樣可以保證測試結(jié)果的真實性、減少誤判率；屏蔽罩的一側(cè)設(shè)有工作門，方便操作人員進(jìn)行操作；屏蔽罩的側(cè)面設(shè)有信號轉(zhuǎn)換器，在保證點針工作臺中的芯片在無外界干擾的環(huán)境下測試樣品的同時，便于點針工作臺將集成電路內(nèi)部訊號聯(lián)導(dǎo)出來，所以本技術(shù)的設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺能保證測試結(jié)果的真實性、減少誤判率、人員操作方便。【附圖說明】為了更清楚地說明本技術(shù)實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本技術(shù)的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本技術(shù)的一種設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺的示意圖。【具體實施方式】下面將結(jié)合本技術(shù)實施例中的附圖，對本技術(shù)實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術(shù)一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術(shù)中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術(shù)保護(hù)的范圍。如圖1所示，一種設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，所述點針工作臺的周圍設(shè)有封閉的屏蔽罩1，屏蔽罩I的側(cè)面設(shè)有信號轉(zhuǎn)換器3，點針工作臺與屏蔽罩I之間設(shè)有間隙，間隙的距離為10-30mm。在實際應(yīng)用中，點針工作臺包括鏡柱4、臺面6、樣品臺5和鏡頭2，鏡柱4、樣品臺5分別安裝在臺面6上，鏡頭2定在鏡柱4頂端，點針工作臺主要用在半導(dǎo)體集成電路測試及故障分析，在設(shè)計或失效分析過程中，工程師經(jīng)常會要量測一些元件(比如:電阻、電容、電感等)的電性參數(shù)，但是由于集成電路metal線寬僅為微米，用正常手段是無法量測，這時工程師采用點針工作臺，點針工作臺利用高精度微探針將集成電路內(nèi)部訊號聯(lián)導(dǎo)出來，便于其它的電性測試設(shè)備對此進(jìn)行測試、分析，點針工作臺的微探針最高解析度為0.25um，針座的移動精度是0.7um，滿足半導(dǎo)體集成電路測試及故障分析的要求。為了保證點針工作臺在測試樣品時免受多種外界干擾信號，屏蔽罩I的材料一般選用金屬材料或磁布，當(dāng)屏蔽罩I的材料選用金屬材料時，金屬材料的選擇須滿足以下要求:(I)當(dāng)干擾電磁場的頻率較高時，利用低電阻率的金屬材料中產(chǎn)生的渦流，形成對外來電磁波的抵消作用，從而達(dá)到屏蔽的效果。(2)當(dāng)干擾電磁波的頻率較低時，要采用高導(dǎo)磁率的材料，從而使磁力線限制在屏蔽罩I內(nèi)部，防止擴散到屏蔽的空間里。(3)在某些場合下，如果要求對高頻和低頻電磁場都具有良好的屏蔽效果時，往往采用不同的金屬材料組成多層的屏蔽罩1，整個屏蔽罩I表面必須是導(dǎo)電連續(xù)的，而且是不能有直接穿透屏蔽罩I的導(dǎo)體，這樣才能起到良好的屏蔽作用。屏蔽罩I的內(nèi)外表面涂有抗干擾油漆，抗干擾油漆的顏色可為銀銅色或黑色，這樣能進(jìn)一步加強了屏蔽罩I可以屏蔽多種外界干擾信號。當(dāng)屏蔽罩I的材料選用磁布時，磁布的顏色一般選用黑色，因磁布的抗干擾能力強，起到抗金屬和抗電磁的作用。在實際應(yīng)用中，點針工作臺與屏蔽罩I之間的間隙一般為20mm，當(dāng)點針工作臺周圍的外界干擾信號比較強時，點針工作臺的四圍、頂部和底部均設(shè)有屏蔽罩1，這樣屏蔽罩I能對點針工作臺周圍的外界干擾信號起到很好的屏蔽；屏蔽罩I的一側(cè)設(shè)有工作門，方便操作人員進(jìn)行操作。本技術(shù)的工作原理:由于本技術(shù)的點針工作臺的四圍、頂部和底部均設(shè)有封閉的屏蔽罩1，點針工作臺與屏蔽罩I之間設(shè)有間隙，屏蔽罩I可以屏蔽多種外界干擾信號，比如:電磁波、光源、高壓電場等，讓芯片在無外界干擾的環(huán)境下測試樣品，這樣可以保證測試結(jié)果的真實性、減少誤判率；屏蔽罩I的一側(cè)設(shè)有工作門，方便操作人員進(jìn)行操作；屏蔽罩I的側(cè)面設(shè)有信號轉(zhuǎn)換器，信號轉(zhuǎn)換器的作用為放大信號、增強點針工作臺的抗干擾能力，在保證點針工作臺中的芯片在無外界干擾的環(huán)境下測試樣品的同時，便于點針工作臺將集成電路內(nèi)部訊號聯(lián)導(dǎo)出來，所以本技術(shù)的設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺能保證測試結(jié)果的真實性、減少誤判率、人員操作方便。以上所述，僅為本技術(shù)的【具體實施方式】，但本技術(shù)的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本領(lǐng)域技術(shù)的技術(shù)人員在本技術(shù)公開的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本技術(shù)的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本技術(shù)的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。【主權(quán)項】1.一種設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，其特征在于，所述點針工作臺的周圍設(shè)有封閉的屏蔽罩，所述屏蔽罩的側(cè)面設(shè)有信號轉(zhuǎn)換器，所述點針工作臺與屏蔽罩之間設(shè)有間隙，所述間隙的距離為10-30mm。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，其特征在于，所述屏蔽罩的材料為金屬材料，所述屏蔽罩的內(nèi)外表面涂有抗干擾油漆。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，其特征在于，所述抗干擾油漆的顏色為銀銅色或黑色。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，其特征在于，所述屏蔽罩的材料為磁布，所述磁布的顏色為黑色。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，其特征在于，所述點針工作臺的四圍、頂部和底部均設(shè)有屏蔽罩，所述屏蔽罩的一側(cè)設(shè)有工作門。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，其特征在于，所述點針工作臺包括鏡柱、臺面、樣品臺和鏡頭，所述鏡柱、樣品臺分別安裝在臺面上，所述鏡頭固定在鏡柱的頂端。【專利摘要】本技術(shù)公開了一種設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，所述點針工作臺的周圍設(shè)有封閉的屏蔽罩，所述屏蔽罩的側(cè)面設(shè)有信號本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點】
一種設(shè)置屏蔽罩的點針工作臺，其特征在于，所述點針工作臺的周圍設(shè)有封閉的屏蔽罩，所述屏蔽罩的側(cè)面設(shè)有信號轉(zhuǎn)換器，所述點針工作臺與屏蔽罩之間設(shè)有間隙，所述間隙的距離為10?30mm。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：尚躍，余夕霞，
申請(專利權(quán))人：上海聚躍電子科技有限公司，
類型：新型
國別省市：上海;31
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