一種靶材組件制造技術

本實用新型專利技術公開了一種靶材組件，其包括靶材和背板，所述靶材在背板上，所述靶材沿長度方向的兩端末分別設有凸臺，所述凸臺與靶材等寬，凸臺的高度為5-10mm，凸臺的長度為60-80mm。由于在靶材沿長度方向的兩端末設置凸臺，這樣可以保證在鍍膜的過程中，不會因為材料損耗更快而產生擊穿的現象，提高鍍膜工作的順暢性。另外，本實用新型專利技術結構簡單、生產方便。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種異型結構靶材組件。
技術介紹
磁控濺射是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面，使固體近表面的粒子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面，在此過程中，被轟擊的固體稱為靶材組件，靶材組件由靶材與背板組成。靶材在濺射鍍膜的過程中，位于靶材長度方向兩端的磁感線強度較大，因此，靶材兩端末的材料損耗速度比靶材中部快，而現有技術中靶材各處的厚度都是相同，這樣會導致靶材兩端末產生擊穿，若靶材擊穿了，鍍膜設備就會停機，從而影響鍍膜的工作。
技術實現思路
為了解決現有技術中的不足，本技術的目的在于提供一種結構簡單，能保證鍍膜工作順利進行的一種異型結構靶材組件。為實現上述目的，本技術采用以下技術方案:一種異型結構靶材組件，包括靶材和背板，所述靶材在背板上，所述靶材沿長度方向的兩端末分別設有凸臺，所述凸臺與革E材等寬，凸臺的高度為5-10mm，凸臺的長度為60-80mmo所述凸臺的高度為8mm。所述凸臺的長度為70mm。所述靶材由至少兩塊以上的單元塊靶型材組成，單元塊靶型材沿背板的長邊方向順序拼接。本技術采用以上技術方案，由于在靶材沿長度方向的兩端末設置凸臺，這樣可以保證在鍍膜的過程中，不會因為材料損耗更快而產生擊穿的現象，提高鍍膜工作的順暢性。另外，本技術結構簡單、生產方便。【附圖說明】以下結合附圖和【具體實施方式】對本技術做進一步詳細說明:圖1為本技術一種異型結構靶材組件的正視圖；圖2為本技術一種異型結構靶材組件的俯視圖。【具體實施方式】如圖1或圖2所示，本技術一種異型結構靶材組件，包括靶材I和背板2，所述靶材I在背板2上，所述靶材I沿長度方向的兩端末分別設有凸臺3，所述凸臺3與靶材I等寬，凸臺3的高度為5-10mm，凸臺3的長度為60_80mm。所述凸臺3的高度為8mm。所述凸臺3的長度為70mmo所述靶材I由至少兩塊以上的單元塊靶型材11組成，單元塊靶型材11沿背板2的長邊方向順序拼接。這樣的結構，靶材I的生產工藝比較簡單，制造成本低。本技術由于在靶材I沿長度方向的兩端末設置凸臺3，凸臺3可以增加靶材I兩端末的材料量，這樣可以保證在鍍膜的過程中，不會因為材料損耗更快而產生擊穿的現象，提高鍍膜工作的順暢性。【主權項】1.一種靶材組件，包括靶材和背板，所述靶材在背板上，其特征在于:所述靶材沿長度方向的兩端末分別設有凸臺，所述凸臺與革E材等寬，凸臺的高度為5-10mm，凸臺的長度為60-80mm ;所述靶材由至少兩塊以上的單元塊靶型材組成，單元塊靶型材沿背板的長邊方向順序拼接。2.根據權利要求1所述的一種革El材組件，其特征在于:所述凸臺的高度為8_。3.根據權利要求1所述的一種靶材組件，其特征在于:所述凸臺的長度為70_。【專利摘要】本技術公開了一種靶材組件，其包括靶材和背板，所述靶材在背板上，所述靶材沿長度方向的兩端末分別設有凸臺，所述凸臺與靶材等寬，凸臺的高度為5-10mm，凸臺的長度為60-80mm。由于在靶材沿長度方向的兩端末設置凸臺，這樣可以保證在鍍膜的過程中，不會因為材料損耗更快而產生擊穿的現象，提高鍍膜工作的順暢性。另外，本技術結構簡單、生產方便。【IPC分類】C23C14-35【公開號】CN204342869【申請號】CN201420574600【專利技術人】王維綱, 侯則良, 林杰 【申請人】福建省諾希新材料科技有限公司【公開日】2015年5月20日【申請日】2014年9月30日本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種靶材組件，包括靶材和背板，所述靶材在背板上，其特征在于：所述靶材沿長度方向的兩端末分別設有凸臺，所述凸臺與靶材等寬，凸臺的高度為5?10mm，凸臺的長度為60?80mm；所述靶材由至少兩塊以上的單元塊靶型材組成，單元塊靶型材沿背板的長邊方向順序拼接。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：王維綱，侯則良，林杰，
申請(專利權)人：福建省諾希新材料科技有限公司，
類型：新型
國別省市：福建;35