本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種硅廢漿的整體回收系統(tǒng)、冷卻液回收液、回收磨粒,以及回收切削粉,能夠從硅廢漿中高效地回收高純度的冷卻液回收液、回收磨粒、回收切削粉,而不產(chǎn)生廢棄物的回收系統(tǒng)。本發(fā)明專利技術(shù)的硅廢漿的回收系統(tǒng)的特征在于,包括對(duì)從含有冷卻液、磨粒、切削屑、鐵屑的硅廢漿中得到的分離固體成分照射超聲波的超聲波處理工序(B)、從照射了超聲波的所述分離固體成分中分離回收磨粒與回收切削粉的分離工序(C)。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及硅廢漿回收系統(tǒng),以及由該硅廢漿的回收系統(tǒng)得到的冷卻液回收液, 回收磨粒,回收切削粉。
技術(shù)介紹
已知線鋸裝置是一種用以切斷、切削半導(dǎo)體單晶硅、太陽能電池的單晶硅或多晶 硅的手段。在線鋸裝置中,使線鋸在冷卻液與磨粒相混合的切割漿料中行進(jìn)以進(jìn)行切斷、切 肖IJ。進(jìn)行切斷、切削的過程中使切割漿料在裝置內(nèi)循環(huán),而隨著切割、切削的進(jìn)行,切割漿料 中將積累切削肩(切割、切削半導(dǎo)體單晶硅等材料時(shí)產(chǎn)生的硅肩)及金屬肩(進(jìn)行切割、切 削時(shí)產(chǎn)生的來自鋸條的鐵粉以及除鐵之外的金屬粉),從而降低切割、切削性能。 進(jìn)行切斷、切削后的含有切削肩的切割漿料(例如硅廢漿)中含有可使用的冷卻 液及切削粉等。通常,一旦切割漿料中的切削肩超過一定量就會(huì)廢棄切割漿料,但也有從切 割漿料中回收冷卻液及磨粒的嘗試(專利文獻(xiàn)1~6)。 專利文獻(xiàn)1 :日本特開平9-225937號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)2 :日本特開2003-225700號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)3 :日本特開2005-313030號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)4 :日本特開2005-349507號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)5 :日本特開2006-315099號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)6 :日本特開2011-005561號(hào)公報(bào) 最近,從環(huán)境問題以及回收再利用的觀點(diǎn)出發(fā),產(chǎn)生了對(duì)于從硅廢漿中回收冷卻 液、磨粒、切削肩等材料而不產(chǎn)生廢棄物的回收系統(tǒng)的需求。尤其是出于希望將回收的成分 用于切斷、切削之外的用途的要求,希望有能以更高效率,回收更高純度的冷卻液、磨粒、切 削肩等材料的回收系統(tǒng)。 例如,專利文獻(xiàn)1中的廢漿渣再利用系統(tǒng)從廢漿渣中將有效磨粒與水溶性的冷卻 液成分進(jìn)行再利用,然而切削肩及鐵肩將被廢棄,因此從環(huán)境保護(hù)以及回收再利用的觀點(diǎn) 來看并不充分。另外,在使用液體旋風(fēng)分離機(jī)處理之前,對(duì)漿料進(jìn)行稀釋時(shí)使用了大量的稀 釋液,因此為廢液的處理帶來困難。 專利文獻(xiàn)2中的廢漿料再利用系統(tǒng)不產(chǎn)生工業(yè)廢料,使殘留液體成分及有效磨粒 可被再利用,然而得到的殘留液體成分是經(jīng)過稀釋的因而純度較低,另外得到的磨粒的純 度也并不充分。 專利文獻(xiàn)3中的研磨、切削劑廢漿渣的再生處理方法可回收冷卻液與磨粒,然而 廢棄了其他的成分,因此從環(huán)境以及回收再利用的觀點(diǎn)來看并不充分。另外,處理之后的磨 粒只經(jīng)過了離心分離,純度并不充分。 專利文獻(xiàn)4中的冷卻液回收系統(tǒng)中,分離出的廢漿料,以及從廢冷卻液中去除的 固體成分將被廢棄,并且使用了堿而使此后的廢水處理成為必須,因此從環(huán)境的觀點(diǎn)來看 并不充分。尤其因進(jìn)行了堿處理使切削肩溶解,從而不能夠回收切削肩。另外,磨粒只經(jīng)過 了離心分離,純度并不充分。 專利文獻(xiàn)5中的研磨、切削劑廢漿渣的再生處理方法所得到的產(chǎn)物中仍含有廢液 所含有的微量氧化成分(含有微量的氧化成分),因此純度并不充分,并且廢棄了切削肩、 鐵肩、以及磨粒的碎片,從環(huán)境的觀點(diǎn)來看并不充分。另外,因?yàn)槭褂昧诵枰厥庠O(shè)備的超 臨界二氧化碳流體而成本較高。 專利文獻(xiàn)6中的硅錠切割系統(tǒng)在鐵肩與磨粒相混合的狀態(tài)下進(jìn)行篩分,回收的磨 粒的純度并不充分。另外,雖然使用酸對(duì)篩分后的磨粒中混有的鐵進(jìn)行溶解處理,然而在酸 處理后進(jìn)行廢液處理時(shí)將對(duì)環(huán)境產(chǎn)生負(fù)擔(dān)。 盡管如此,現(xiàn)狀下沒有回收系統(tǒng)能夠高效地從硅廢漿中回收高純度的冷卻液、磨 粒、切削肩等全部成分,而不產(chǎn)生廢棄物(例如不使用酸或堿等進(jìn)行處理)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
從而,本專利技術(shù)的目的在于提供能夠從硅廢漿中高效地回收高純度的回收磨粒、回 收切削粉,而不產(chǎn)生廢棄物的回收系統(tǒng)。 另外,本專利技術(shù)的另一個(gè)目的在于提供能夠從硅廢漿中高效地回收高純度的冷卻液 回收液,而不產(chǎn)生廢棄物的回收系統(tǒng)。 于是,本專利技術(shù)的專利技術(shù)者們?yōu)榱诉_(dá)到所述目的而進(jìn)行深入研宄的結(jié)果,發(fā)現(xiàn)通過對(duì) 硅廢漿進(jìn)行分離的冷卻液回收工序、之后照射超聲波的超聲波處理工序、以及照射超聲波 之后分離回收磨粒、回收切削粉的分離工序,可高效地得到高純度的冷卻液回收液、回收磨 粒、回收切削粉,從而完成了本專利技術(shù)。 即本專利技術(shù)提供一種硅廢漿的回收系統(tǒng),其特征在于包括對(duì)從含有冷卻液、磨粒、切 削肩、鐵肩的硅廢漿中得到的分離固體成分照射超聲波的超聲波處理工序(B)、從照射了超 聲波的所述分離固體成分中分離出回收磨粒、回收切削粉的分離工序(C)。 所述分離固體成分優(yōu)選為通過對(duì)所述硅廢漿進(jìn)行分離,以得到分離固體成分與冷 卻液回收液的冷卻液回收工序(A)而得到的分離固體成分。 在所述超聲波處理工序(B)中,優(yōu)選對(duì)所述分離固體成分照射頻率為10~38kHz的超聲波。 在所述冷卻液回收工序(A)中,進(jìn)行分離的方法優(yōu)選為從離心分離、過濾器過濾、 以及蒸餾中選擇的至少一種分離方法。 在所述分離工序(C)中,優(yōu)選利用沉降速度的差異從照射了超聲波的所述分離固 體成分中分離回收磨粒、回收切削粉。 并且,優(yōu)選包括對(duì)所述回收磨粒添加稀釋液,并照射超聲波后利用沉降速度的差 異進(jìn)行分離以清洗回收磨粒的清洗工序(D)。 并且,本專利技術(shù)提供由所述回收系統(tǒng)得到的冷卻液回收液。 并且,本專利技術(shù)提供由所述回收系統(tǒng)得到的回收磨粒。 并且,本專利技術(shù)提供由所述回收系統(tǒng)得到的回收切削粉。 并且,本專利技術(shù)提供一種冷卻液回收液,其特征在于冷卻液含量為88重量%以上, 由下述臭氣評(píng)價(jià)方法所評(píng)價(jià)的臭氣強(qiáng)度小于2. 5,且舒適/不適度大于-1。 (臭氣測(cè)定方法) 評(píng)價(jià)者6人對(duì)評(píng)價(jià)樣本進(jìn)行嗅聞,根據(jù)以下所示的分為6個(gè)等級(jí)的臭氣強(qiáng)度表示 方法,以及分為9個(gè)等級(jí)的舒適/不適度表示方法進(jìn)行評(píng)價(jià),以其平均值作為臭氣強(qiáng)度以及 舒適/不適度。 臭氣強(qiáng)度表不方法 0 :無臭,1 :將將可感覺到的臭味,2 :可以辨別臭味來源的微弱的臭味,3 :可輕易 感覺到的臭味,4 :較強(qiáng)的臭味,5 :強(qiáng)烈的臭味 舒適/不適度表示方法 -4 :極度不適,-3 :非常不適,-2 :不適,-1 :稍稍不適,0 :既非舒適也非不適,1 :稍 稍舒適,2 :舒適,3 :非常舒適,4 :極度舒適 并且,本專利技術(shù)提供一種冷卻液回收液,其特征在于冷卻液含量為88重量%以上, 且水含量小于5重量%。 所述冷卻液回收液優(yōu)選作為切削用冷卻液的原料。 所述冷卻液回收液優(yōu)選作為助磨劑的原料。 所述冷卻液回收液優(yōu)選作為合成樹脂的原料。 所述冷卻液回收液優(yōu)選作為燃料。 所述回收磨粒優(yōu)選作為用于切削的磨粒。 所述回收磨粒優(yōu)選作為鋼鐵輔助材料。 所述回收磨粒優(yōu)選作為水泥的原料。 所述回收切削粉優(yōu)選作為鋼鐵輔助材料。 所述回收切削粉選作為水泥的原料。 本專利技術(shù)的回收系統(tǒng)通過具備所述結(jié)構(gòu),可高效地從硅廢漿中得到高純度的回收磨 粒、回收切削粉,而不會(huì)產(chǎn)生廢棄物。【附圖說明】 圖1為本專利技術(shù)的回收系統(tǒng)的一例的流程圖。 圖2為本專利技術(shù)的回收系統(tǒng)中的冷卻液回收工序(A)的一例的流程圖。 圖3為本專利技術(shù)的回收系統(tǒng)中的冷卻液回收工序(A)的一例的流程圖。 圖4為本專利技術(shù)的超聲波處理工序(B)的一例的流程圖。 圖5為在分離工序(C)之后,進(jìn)一步設(shè)置了清洗工序(D)、產(chǎn)品化工序(E)、廢液回 收工序(F)的情況的一例的流程圖。 圖6為實(shí)施例1中的硅廢漿⑴的干燥固體的粒度分布圖。 圖7為實(shí)施例1中的回收磨粒的粒度分布圖。 圖8為使用掃描電子顯微鏡(SEM)對(duì)實(shí)施例1中的硅廢漿⑴的干燥固體進(jìn)行拍 攝所得的圖(照片)。 圖9為使用掃描電子顯微鏡本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種硅廢漿回收系統(tǒng),其特征在于,包括:對(duì)從含有冷卻液、磨粒、切削屑、鐵屑的硅廢漿中得到的分離固體成分照射超聲波的超聲波處理工序(B)、從照射了超聲波的所述分離固體成分中分離回收磨粒、回收切削粉的分離工序(C)。
【技術(shù)特征摘要】
...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:熊野英介,赤松義元,難波江要,中西裕香,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:阿米達(dá)股份有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:日本;JP
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