一種耐磨防輻射保護薄膜制造技術

本實用新型專利技術涉及一種耐磨防輻射保護薄膜，用于手機或平板電腦，包括耐磨層、防輻射層和底層；防輻射層粘結在底層上，位于外表面的耐磨層粘結在防輻射層上；耐磨層為在PET中均勻分散了納米氧化鉻粉末后形成的薄膜，厚度為30～40μm；防輻射層為氧化鈦薄膜，厚度為30～40μm；底層為硅膠薄膜，厚度為20～30μm。本實用新型專利技術的有益效果為：使用本實用新型專利技術的耐磨防輻射保護薄膜后，不僅增加了手機或平板電腦屏幕表面的保護薄膜的耐磨性，同時還極大地降低了手機或平板電腦屏幕發射的電磁輻射對使用者的眼睛和視覺系統的損害，具有極大的實用價值。

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種耐磨防輻射保護薄膜，具體涉及一種用于手機或平板電腦的耐磨防輻射保護薄膜。
技術介紹
隨著科學技術的日益發展，手機和平板電腦已經成為了人們不可或缺的日用品。為了防止手機和平板電腦的顯示屏幕磨損和污染，通常會在手機和平板電腦表面貼上一層保護薄膜。但是，現有的手機和平板電腦保護薄膜均存在著耐磨性差的缺點，使用一段時間后保護膜會出現磨損，影響屏幕的視覺效果。同時，由于人們長期使用手機和平板電腦，屏幕輻射的電磁波會對人的眼睛和視覺系統造成了很大的傷害，輕則導致視力下降，重則可能導致出現眼科疾病。因此，設計一種用于手機或平板電腦的耐磨防輻射保護薄膜是必要的。為此，本技術的設計者有鑒于上述技術缺陷，通過潛心研宄和設計，綜合長期多年從事相關產業的經驗和成果，研宄設計出一種用于手機或平板電腦的耐磨防輻射保護薄膜，以克服上述技術缺陷。
技術實現思路
本技術要解決的技術問題為:設計一種用于手機或平板電腦的耐磨防輻射保護薄膜，以解決現有技術中的保護薄膜耐磨性差和電磁輻射高的技術缺陷。為了解決上述技術問題，本技術采用了如下的技術方案:一種耐磨防輻射保護薄膜，用于手機或平板電腦，包括耐磨層、防輻射層和底層；其特征在于:防輻射層粘結在底層上，位于外表面的耐磨層粘結在防輻射層上；所述的耐磨層厚度為30?40 μ m ;所述的防福射層為氧化鈦薄膜，厚度為30?40 μ m。其中:所述的底層為娃膠薄膜，厚度為20?30 μπι。通過上述技術方案可知，本技術的耐磨防輻射保護薄膜具有如下技術效果:1、通過使用在PET中均勻分散了納米氧化鉻粉末后形成的薄膜作為耐磨層，利用納米氧化鉻的高耐磨性極大地提高了保護薄膜的耐磨效果；2、通過使用氧化鈦薄膜作為防輻射層，利用氧化鈦薄膜的優良的防輻射性能，極大地降低保護薄膜的的電磁波輻射。本技術的詳細內容可通過下述的詳細說明及說明書附圖而得到。【附圖說明】圖1為本技術的耐磨防輻射保護薄膜的結構示意圖。圖中為耐磨層、2為防輻射層、3為底層【具體實施方式】下面結合說明書附圖詳細說明本技術的耐磨防輻射保護薄膜。參見圖1，顯示了本技術的耐磨防輻射保護薄膜。本技術的一種耐磨防輻射保護薄膜，用于手機或平板電腦，其包括耐磨層1、防輻射層2和底層3 ;防輻射層2粘結在底層3上，位于外表面的耐磨層I粘結在防輻射層2上；該耐磨層I為在PET中均勻分散了納米氧化鉻粉末后形成的薄膜，厚度優選為35 μπι ;該防輻射層2為氧化鈦薄膜，厚度優選為35 μ m ;該底層為硅膠薄膜，厚度優選為25 μ m。通過上述結構可知，本技術的耐磨防輻射保護薄膜具有如下優點:1、通過使用在PET中均勻分散了納米氧化鉻粉末后形成的薄膜作為耐磨層，利用納米氧化鉻的高耐磨性極大地提高了保護薄膜的耐磨效果；2、通過使用氧化鈦薄膜作為防輻射層，利用氧化鈦薄膜的優良的防輻射性能，極大地降低保護薄膜的的電磁波輻射。顯而易見的是，以上的描述和記載僅僅是舉例而不是為了限制本技術公開的內容、應用或使用。雖然已經在實施例中描述過并且根據附圖描述了實施例，但本技術不限制由附圖示例和在實施例中描述的作為目前認為的最佳模式以實施本技術的教導的特定例子，本技術的范圍將包括落入前面的說明書和所附的權利要求的任何實施例。【主權項】1.一種耐磨防輻射保護薄膜，用于手機或平板電腦，包括耐磨層、防輻射層和底層；其特征在于:防輻射層粘結在底層上，位于外表面的耐磨層粘結在防輻射層上；所述的耐磨層厚度為30?40 μ m ;所述的防福射層為氧化鈦薄膜，厚度為30?40 μ m。2.如權利要求1所述的耐磨防輻射保護薄膜，其特征在于:所述的底層為硅膠薄膜，厚度為20?30 μπι。【專利摘要】本技術涉及一種耐磨防輻射保護薄膜，用于手機或平板電腦，包括耐磨層、防輻射層和底層；防輻射層粘結在底層上，位于外表面的耐磨層粘結在防輻射層上；耐磨層為在PET中均勻分散了納米氧化鉻粉末后形成的薄膜，厚度為30～40μm；防輻射層為氧化鈦薄膜，厚度為30～40μm；底層為硅膠薄膜，厚度為20～30μm。本技術的有益效果為：使用本技術的耐磨防輻射保護薄膜后，不僅增加了手機或平板電腦屏幕表面的保護薄膜的耐磨性，同時還極大地降低了手機或平板電腦屏幕發射的電磁輻射對使用者的眼睛和視覺系統的損害，具有極大的實用價值。【IPC分類】B32B9-04, B32B27-36, B32B27-18, H05K9-00【公開號】CN204539702【申請號】CN201520024530【專利技術人】李清遠 【申請人】成都索伊新材料有限公司【公開日】2015年8月5日【申請日】2015年1月14日本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種耐磨防輻射保護薄膜，用于手機或平板電腦，包括耐磨層、防輻射層和底層；其特征在于：防輻射層粘結在底層上，位于外表面的耐磨層粘結在防輻射層上；所述的耐磨層厚度為30～40μm；所述的防輻射層為氧化鈦薄膜，厚度為30～40μm。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：李清遠，
申請(專利權)人：成都索伊新材料有限公司，
類型：新型
國別省市：四川;51