太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，包括清洗槽和加藥室，所述的清洗槽與加藥室通過連通管相連通，所述的加藥室與連通管的連接位置設置有加液泵，關鍵是：還包括pH儀表，所述的pH儀表設置在清洗槽的側壁上，所述的清洗槽內設置有加熱棒。本實用新型專利技術涉及單晶硅行業技術領域，特別是太陽能硅片清洗環節用的清洗槽。本實用新型專利技術的有益效果是，該裝置增設了pH儀表，pH儀表能直接顯示藥液的pH值，可以很直觀地使工人看出是否需要加入堿液或加入多少堿液合適，溫度儀感應清洗槽內的溫度，并通過感應開關控制加熱棒給液體加熱，提高了工作效率和精確度。
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及單晶硅行業
，特別是太陽能硅片清洗環節用的清洗槽。
技術介紹
單晶硅太陽能電池，是以高純的單晶硅棒為原料的太陽能電池，是當前開發得最快的一種太陽能電池。將單晶硅棒切成片，厚度在180微米-220微米之間。硅片經過拋磨、清洗等工序，制成待加工的原料硅片。現有的清洗槽都是堿性環境，需要將PH值保持在12.5?12.6范圍內，當使用過一段時間后，都是憑工人的經驗對清洗槽內的pH值進行調整，通過泵，使加藥室內的堿液經連通管進入清洗槽內，但是人工經驗有時不準確，并且操作繁瑣，影響工作效率。
技術實現思路
為了克服現有技術的不足，本技術設計了太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，增設了 PH儀表，準確控制清洗槽內環境，并實時做出調整。本技術采用的技術方案是，太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，包括清洗槽和加藥室，所述的清洗槽與加藥室通過連通管相連通，所述的加藥室與連通管的連接位置設置有加液泵，關鍵是:還包括PH儀表，所述的pH儀表設置在清洗槽的側壁上，所述的清洗槽內設置有加熱棒。所述的清洗槽的側壁上設置有溫控系統。所述的溫控系統包括溫度儀和感應開關。所述的pH儀表為pH探頭。本技術的有益效果是，該裝置增設了 pH儀表，pH儀表能直接顯示藥液的pH值，可以很直觀地使工人看出是否需要加入堿液或加入多少堿液合適，溫度儀感應清洗槽內的溫度，并通過感應開關控制加熱棒給液體加熱，提高了工作效率和精確度。【附圖說明】圖1是本技術的結構示意圖。附圖中，I是清洗槽，2是加藥室，3是連通管，4是加熱棒，5是加液泵，6是溫控系統，7是pH儀表。【具體實施方式】下面結合附圖對本技術做進一步說明。具體實施例，如圖1所示，太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，包括清洗槽I和加藥室2，為了便于給清洗槽I加液，所述的清洗槽I與加藥室2通過連通管3相連通，所述的加藥室2與連通管3的連接位置設置有加液泵5，加液泵5為加液提供動力裝置，為了實時監測清洗槽I內藥液的PH值，該裝置還包括pH儀表7，所述的pH儀表7為pH探頭，可以直接顯示藥液的PH值，清洗槽I需要將pH值保持在12.5?12.6范圍內，可以合理控制加藥量，避免硅片表面的藥物過多而出現藥物殘留，影響后期硅片植絨環節，所述的pH儀表7設置在清洗槽I的側壁上，為了控制清洗槽I內藥液的溫度，所述的清洗槽I的側壁上設置有溫控系統6，所述的溫控系統6包括溫度儀和感應開關，所述的清洗槽I內設置有加熱棒8，溫度儀感應清洗槽I內的溫度，當清洗槽I內溫度低于40-50攝氏度時，通過感應開關控制加熱棒8給液體加熱。該裝置增設了 pH儀表，pH儀表能直接顯示藥液的pH值，可以很直觀地使工人看出是否需要加入堿液或加入多少堿液合適，溫度儀感應清洗槽內的溫度，并通過感應開關控制加熱棒給液體加熱，提高了工作效率和精確度。【主權項】1.太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，包括清洗槽(I)和加藥室(2)，所述的清洗槽(I)與加藥室(2)通過連通管(3)相連通，所述的加藥室(2)與連通管(3)的連接位置設置有加液泵(5)，其特征在于:還包括pH儀表(7)，所述的pH儀表(7)設置在清洗槽(I)的側壁上，所述的清洗槽(I)內設置有加熱棒(4)。2.根據權利要求1所述的太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，其特征在于:所述的清洗槽(I)的側壁上設置有溫控系統(6)。3.根據權利要求2所述的太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，其特征在于:所述的溫控系統(6)包括溫度儀和感應開關。4.根據權利要求1所述的太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，其特征在于:所述的PH儀表(7)為pH探頭。【專利摘要】太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，包括清洗槽和加藥室，所述的清洗槽與加藥室通過連通管相連通，所述的加藥室與連通管的連接位置設置有加液泵，關鍵是：還包括pH儀表，所述的pH儀表設置在清洗槽的側壁上，所述的清洗槽內設置有加熱棒。本技術涉及單晶硅行業
，特別是太陽能硅片清洗環節用的清洗槽。本技術的有益效果是，該裝置增設了pH儀表，pH儀表能直接顯示藥液的pH值，可以很直觀地使工人看出是否需要加入堿液或加入多少堿液合適，溫度儀感應清洗槽內的溫度，并通過感應開關控制加熱棒給液體加熱，提高了工作效率和精確度。【IPC分類】H01L21-66, H01L21-67【公開號】CN204577406【申請號】CN201520164350【專利技術人】陳世杰, 朱琛浩, 田會藏, 陳旭, 王聰 【申請人】寧晉賽美港龍電子材料有限公司【公開日】2015年8月19日【申請日】2015年3月23日本文檔來自技高網...
【技術保護點】
太陽能硅片清洗環節用的清洗槽，包括清洗槽(1)和加藥室(2)，所述的清洗槽(1)與加藥室(2)通過連通管(3)相連通，所述的加藥室(2)與連通管(3)的連接位置設置有加液泵(5)，其特征在于：還包括pH儀表(7)，所述的pH儀表(7)設置在清洗槽(1)的側壁上，所述的清洗槽(1)內設置有加熱棒(4)。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：陳世杰，朱琛浩，田會藏，陳旭，王聰，
申請(專利權)人：寧晉賽美港龍電子材料有限公司，
類型：新型
國別省市：河北;13
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