一種基于透明導電涂層的觸控面板制造技術

本實用新型專利技術公開了一種基于透明導電涂層的觸控面板，包括一基板及一形成在該基板下的透明導電涂層。本實用新型專利技術提出的一種基于透明導電涂層的觸控面板，采用金屬化學氣相沉積方法，以高反應活性、廉價的水或者乙醇作為氧源，三甲基鋅作為鋅源，三甲基鋁或者三甲基鎵作為摻雜源，在玻璃基板下表面制備金屬氧化鋅透明導電薄膜，再通過全激光蝕刻工藝實現觸控用的驅動、感應線路以及邊緣走線線路。由于氧化鋅薄膜制程無需使用強酸、強堿，環境友好無毒，且具有良好的導電和光學性能。制備用的水或鋅源，資源豐富、成本低，足以解決目前基于稀有金屬銦制成ITO?導電膜的觸控導電面板資源匱乏、制程環境不友好等問題，為我國手機面板產業發展帶來新的機遇。

【技術實現步驟摘要】

本技術屬于觸摸顯示屏
，特別涉及一種基于透明導電涂層的觸控面板。
技術介紹
觸摸屏(Touch Screen)又稱為“觸控屏”、“觸控面板”，是一種可接受觸頭等輸入訊號的感應式顯示裝置，廣泛應用于工業、醫療、通信領域的控制、信息查詢及其他方面，被稱為“指尖上的革命”。隨著觸控技術的發展和進步，未來觸控技術必將引領移動終端和各種智能設備的發展方向。觸控技術其核心為觸摸感知傳感單元，較為廣泛使用的為電容式傳感器，其中透明導電薄膜是傳感單元的重要組成部分，占據了觸控產品的絕大部分成本。目前，觸控技術中的透明導電薄膜主流使用的為氧化銦錫(ITO)透明導電薄膜。但是，產業對ITO的依賴孕育了巨大隱患。1)IT0中使用了大量金屬銦，而In是戰略稀缺金屬，價格持續攀升，面臨價格昂貴、資源稀缺的危機。2)IT0微加工過程中，大量使用強酸、強堿，即使不考慮資源和成本問題，ITO在環境保護上形成的巨大壓力，環境治理高成本也是必須要解決的。3) ITO相關核心專利掌握在臺灣、日本等國家和地區，中國大陸缺乏知識產權支撐。目前，作為廣泛研宄的有望代替ITO的新型透明導電材料主要包括:ZnO基合金、低維納米材料(包括納米管、納米線、石墨烯)、金屬網格、導電高分子等。其中，氧化鋅基透明導電薄膜(ZnO-TCL)具有可以和ITO媲美的電阻率和透光率，同時鋅資源豐富、無毒、價格低、微加工無需強酸、強堿、環境友好，是替代ITO的最佳候選。
技術實現思路
鑒于上述狀況，有必要提出一種制程無需使用強酸、強堿，環境友好無毒，且具有良好的導電和光學性能，資源豐富的新型透明導電薄膜的觸控面板技術。為了實現上述目的，本技術采用如下技術方案:一種基于透明導電涂層的觸控面板，其特征在于，包括:一基板及一形成在該基板下的透明導電涂層。所述基板為玻璃層。所述基板下表面上下邊緣設置有裝飾性油墨層。所述透明導電涂層是通過金屬化學氣相沉積方式在基板下表面制得的。所述透明導電涂層是一種金屬氧化鋅薄膜層，其厚度為10nm以下，透過率達到90%以上，方阻阻值達到100歐姆以下。所述透明導電涂層表面實現觸控用的驅動、感應線路以及邊緣走線線路。本技術提出的一種基于透明導電涂層的觸控面板，采用金屬化學氣相沉積方法，以高反應活性、廉價的水或者乙醇作為氧源，三甲基鋅作為鋅源，三甲基鋁或者三甲基鎵作為摻雜源，在玻璃基板下表面制備金屬氧化鋅透明導電薄膜，再通過全激光蝕刻工藝實現觸控用的驅動、感應線路以及邊緣走線線路。由于氧化鋅薄膜制程無需使用強酸、強堿，環境友好無毒，且具有良好的導電和光學性能。制備用的水或鋅源，資源豐富，成本低。足以解決目前基于稀有金屬銦制成ITO導電膜的觸控導電面板資源匱乏、制程環境不友好等問題，為我國手機面板產業發展帶來新的機遇?！靖綀D說明】圖1是本技術一種基于透明導電涂層的觸控面板結構示意圖；圖2是本技術一種基于透明導電涂層的觸控面板平面示意圖；圖3是本技術一種基于透明導電涂層的制備過程?！揪唧w實施方式】為了便于理解本專利技術，下面將參照相關附圖對本專利技術進行更全面的描述。附圖中給出了本專利技術的較佳的實施例。但是，本專利技術可以以許多不同的形式來實現，并不限于本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對本專利技術的公開內容的理解更加透徹全面。如圖1，2所示，一種基于透明導電涂層的觸控面板，其特征在于，包括:一基板(I)及一形成在該基板下的透明導電涂層(2 )。所述基板(I)為玻璃層。所述基板(I)下表面上下邊緣設置有裝飾性油墨層(3)。所述透明導電涂層(2)是通過金屬化學氣相沉積方式在基板(I)下表面制得的。所述透明導電涂層(2)是一種金屬氧化鋅薄膜層，其厚度為10nm以下，透過率達到90%以上，方阻阻值達到100歐姆以下。所述透明導電涂層(2 )表面實現觸控用的驅動、感應線路以及邊緣走線線路。以上介紹了本技術一種基于透明導電涂層的觸控面板的結構，本技術還揭示上述透明導電涂層的制造工藝，如圖3，具體包括如下步驟:步驟S1:基板的預處理；預處理為先將基板清洗完，再進行熱風烘干后待用；清洗過程一般包括化學試劑清洗、超聲波清洗、水清洗等；對于來料玻璃基板，清洗時優選超聲波水洗。步驟S2:鍍金屬氧化鋅涂層；將進行完前置處理的基板下表面朝上放入MOCVD裝置里，以高反應活性、廉價的水或者乙醇作為氧源，三甲基鋅作為鋅源，三甲基鋁或者三甲基鎵作為摻雜源，進行成核、外延生長到成膜的過程，形成完整的金屬氧化鋅涂層；在鍍膜過程中，為降低成核溫度，需在其中加低溫籽晶種子層。步驟S3:制作觸控層圖形:將鍍有氧化鋅涂層面朝上放在激光蝕刻機平臺上，通過系統中圖紙走線設計要求，進行激光蝕刻得到觸控層圖形。最后應說明的是:以上各實施例僅用以說明本技術的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述各實施例對本技術進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本技術各實施例技術方案的范圍?！局鳈囗棥?.一種基于透明導電涂層的觸控面板，其特征在于，包括: 一基板及一形成在該基板下的透明導電涂層。2.如權利要求1所述的一種基于透明導電涂層的觸控面板，其特征在于，所述基板為玻璃層。3.如權利要求2所述的一種基于透明導電涂層的觸控面板，其特征在于，所述基板下表面上下邊緣設置有裝飾性油墨層。4.如權利要求1所述的一種基于透明導電涂層的觸控面板，其特征在于，所述透明導電涂層是通過金屬化學氣相沉積方式在基板下表面制得的。5.如權利要求4所述的一種基于透明導電涂層的觸控面板，其特征在于，所述透明導電涂層是一種金屬氧化鋅薄膜層，厚度為10nm以下，透過率達到90%以上，方阻阻值達到100歐姆以下。6.如權利要求5所述的一種基于透明導電涂層的觸控面板，其特征在于，所述透明導電涂層表面實現觸控用的驅動、感應線路以及邊緣走線線路。【專利摘要】本技術公開了一種基于透明導電涂層的觸控面板，包括一基板及一形成在該基板下的透明導電涂層。本技術提出的一種基于透明導電涂層的觸控面板，采用金屬化學氣相沉積方法，以高反應活性、廉價的水或者乙醇作為氧源，三甲基鋅作為鋅源，三甲基鋁或者三甲基鎵作為摻雜源，在玻璃基板下表面制備金屬氧化鋅透明導電薄膜，再通過全激光蝕刻工藝實現觸控用的驅動、感應線路以及邊緣走線線路。由于氧化鋅薄膜制程無需使用強酸、強堿，環境友好無毒，且具有良好的導電和光學性能。制備用的水或鋅源，資源豐富、成本低，足以解決目前基于稀有金屬銦制成ITO 導電膜的觸控導電面板資源匱乏、制程環境不友好等問題，為我國手機面板產業發展帶來新的機遇?！綢PC分類】G06F3-041【公開號】CN204576464【申請號】CN201520286490【專利技術人】魚光楠, 劉佳慧, 吳土祥, 徐丹婷 【申請人】深圳業際光電股份有限公司【公開日】2015年8月19日【申請日】2015年5月6日本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種基于透明導電涂層的觸控面板，其特征在于，包括：一基板及一形成在該基板下的透明導電涂層。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：魚光楠，劉佳慧，吳土祥，徐丹婷，
申請(專利權)人：深圳業際光電股份有限公司，
類型：新型
國別省市：廣東;44