立式小阻力平臺(tái)制造技術(shù)

本實(shí)用新型專利技術(shù)公開(kāi)了一種立式小阻力平臺(tái)，包括平臺(tái)、水面浮標(biāo)、系留索、定深錨、控制裝置艙室，平臺(tái)外形采用流線形結(jié)構(gòu)，平臺(tái)底部與定深錨通過(guò)系留索與定深錨連接，平臺(tái)內(nèi)部裝有若干個(gè)層疊的水面浮標(biāo)，每一個(gè)水面浮標(biāo)的底部裝有系留索釋放裝置，平臺(tái)側(cè)部與水面浮標(biāo)上部對(duì)應(yīng)位置固定有電磁拔銷(xiāo)，平臺(tái)內(nèi)設(shè)有控制裝置，本實(shí)用新型專利技術(shù)阻力小，在大流速作用下，系統(tǒng)偏降小，具有相當(dāng)?shù)姆€(wěn)定性，可作為大深度系留平臺(tái)使用，采用多個(gè)層疊的水面浮標(biāo)，使用時(shí)在水下能夠連續(xù)補(bǔ)充釋放水面浮標(biāo)。（*該技術(shù)在2016年保護(hù)過(guò)期，可自由使用*）

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種立式小阻力平臺(tái)，包括平臺(tái)（１）、水面浮標(biāo)（２）、平臺(tái)系留索（３）、定深錨（４）、安裝在平臺(tái)內(nèi)的控制裝置（５），其特征在于：平臺(tái)（１）外形采用流線形結(jié)構(gòu)，平臺(tái)底部與定深錨（４）通過(guò)平臺(tái)系留索（３）連接，平臺(tái)內(nèi)部裝有若干個(gè)層疊的水面浮標(biāo)（２），每一個(gè)水面浮標(biāo)的底部裝有系留索釋放裝置（６），平臺(tái)上部均布有與水面浮標(biāo)數(shù)量對(duì)應(yīng)的系留索切割器（７），各個(gè)浮標(biāo)系留索（８）的釋放頭系留在相應(yīng)系留索切割器的系留點(diǎn)（９）上，系留點(diǎn)位于系留索切割器的刀口處，平臺(tái)側(cè)部與水面浮標(biāo)上部對(duì)應(yīng)位置固定有電磁拔銷(xiāo)（１０），當(dāng)電磁拔銷(xiāo)（１０）內(nèi)滑動(dòng)的限位銷(xiāo)（１１）伸出時(shí)，限位銷(xiāo)（１１）與水面浮標(biāo)（２）的上部接觸。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：譚擁軍，谷軍，武衛(wèi)，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：中國(guó)船舶重工集團(tuán)公司第七一零研究所，
類(lèi)型：實(shí)用新型
國(guó)別省市：42[中國(guó)|湖北]