【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及磁存儲元件的材料及其生產方法,特別是一種機械式硬盤用高純鋁鎂合金板錠及其生產方法。
技術介紹
硬盤用鋁基片是鋁基磁存儲材料的重要發(fā)展方向之一。硬盤盤片是HDD(硬盤驅動器)中存儲信息的核心部件,硬盤是由多個盤片疊加在一起,互相之間由墊圈隔開,硬盤中的存儲功能主要由其中的盤片實現,硬盤盤片是以堅固耐用的材料為基盤,大約共計80nm厚的磁性涂層材料附著于基片上,實現數據的存儲。硬盤基片材料是硬盤驅動器的核心部件之一,其生產加工涉及初加工、精加工及涂層制備三個主要工藝,對于基片毛坯的生產主要是通過熔煉→鑄造→熱軋→冷軋→沖壓→退火,最終得到符合要求的鋁基片,一般為鋁鎂合金組成。目前機械式硬盤用鋁基片的生產技術主要在日本,在特開昭61-91352號公報中,公開了一種涉及磁盤基板用鋁合金板的退火方法,主要是提供了更適合磁盤用基板的鋁合金板其對于含有Mg為3~6wt%(wt%質量分數,下同)的磁盤基板用鋁合金板。在特開平4-99143號公報中記述了一種將NiP層涂覆在鋁合金表面的硬盤用鋁鎂合金基板的報道,基板的成分中含有Mg?3.0-5.0,Fe、Si、Cu,Zn低于0.05,含有Ga為50~400ppm,Be為0.5~100ppm,7μm以上的金屬間化合物為10個/mm2以下。特開平2-205651號公報中記載有一項涉及磁盤基板用鋁合金的專利技術,含有Mg為1-8,作為雜質元素含有的Si和Fe限制在規(guī) ...
【技術保護點】
一種機械式硬盤用高純鋁鎂合金板錠,其特征是該板錠合金組份及質量百分比含量如下:Mg≤18.6wt%;Si≤0.005wt%;Fe≤0.005wt%;Cu:0.005?0.01wt%;Mn≤0.0015wt%;Cr≤0.009wt%;Zn:0.008?0.016wt%;Ti≤0.005wt%;Na≤0.001wt%;其余雜質含量總和≤0.01wt%,余量為鋁;所述一種機械式硬盤用高純鋁鎂合金板錠,其中固體夾雜物尺寸最大不高于10μm;Al?Fe系金屬間化合物最大長度不超過6μm;Mg?Si系金屬間化合物最大尺寸不超過3μm;含氣量不高于0.1mL/100gAl;板錠晶粒尺寸不超過200微米;腐蝕點數不高于3個/mm2。
【技術特征摘要】
1.一種機械式硬盤用高純鋁鎂合金板錠,其特征是該板錠合金組份及質量百
分比含量如下:
Mg≤18.6wt%;Si≤0.005wt%;Fe≤0.005wt%;Cu:0.005-0.01wt%;Mn
≤0.0015wt%;Cr≤0.009wt%;Zn:0.008-0.016wt%;Ti≤0.005wt%;Na≤
0.001wt%;其余雜質含量總和≤0.01wt%,余量為鋁;
所述一種機械式硬盤用高純鋁鎂合金板錠,其中固體夾雜物尺寸最大不高于
10μm;Al-Fe系金屬間化合物最大長度不超過6μm;Mg-Si系金屬間化合物最大尺
寸不超過3μm;含氣量不高于0.1mL/100gAl;板錠晶粒尺寸不超過200微米;腐
蝕點數不高于3個/mm2。
2.一種機械式硬盤用高純鋁鎂合金板錠的生產方法,其特征是該方法包括以
下步驟:
a.熔煉高純鋁鎂合金
采用高純石墨坩堝作為熔池,首先對高純石墨坩堝進行預處理,清理表面
并涂覆保護材料,在溫度為90-150℃的區(qū)間內烘干2-3小時;熔煉采用的原料為:
高純Al錠、高純鋁鎂合金、Zn錠、Cu錠和Al/Cr合金,采用質量分數大于60%的乙
醇溶液,將上述合金表面的缺陷及雜質物去除,所述每種原料的成分如下:
高純Al錠:Al含量99.99678wt%;Mg6.4ppm;Zn1.2ppm;Na≤0.8ppm;
Fe4.8ppm;Si4.1ppm;Cu3.1ppm;Cr0.2ppm;Ti0.8ppm;
高純鋁鎂合金:Al含量0.0004ppm;Mg99.9800wt%;Zn32ppm;Fe21ppm;
Si27ppm;Mn15ppm;
Zn錠:Al含量0.5ppm;Mg0.6ppm;Zn99.80000wt%;Fe1.0ppm;Cu0.3
ppm;Cr0.6ppm;
Cu錠:Fe10.0ppm;Cu99.99000wt%;Mn0.5ppm;
Al/Cr合金:Al含量95.500wt%;Fe≤0.0002ppm;Si0.0001ppm;Mn4.500
ppm;
b.高純鋁鎂合金的精煉提純
采用中頻真空感應加熱爐進行進行加熱,加熱爐的功率為70Kw-90Kw;開
\t啟真空系統(tǒng),持續(xù)抽真空的同時以5-15℃/min的加熱速率加熱至780-810℃,溫
度到達后開啟...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員:郭菁,王洪斌,滕瑩雪,李英虹,李娜,吳文玉,高鶴,
申請(專利權)人:遼寧科技大學,
類型:發(fā)明
國別省市:遼寧;21
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